PATENTSCOPE sera indisponible quelques heures pour des raisons de maintenance le mardi 19.11.2019 à 16:00 CET
Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
Certains contenus de cette application ne sont pas disponibles pour le moment.
Si cette situation persiste, veuillez nous contacter àObservations et contact
1. (WO1990006234) PROCEDE ET DISPOSITIF PERMETTANT DE FORMER UN MODELE DE RESERVE SUR UN OBJET CYLINDRIQUE ET CYLINDRE METALLIQUE ATTAQUE OBTENU AVEC UN TEL MODELE DE RESERVE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international

N° de publication : WO/1990/006234 N° de la demande internationale : PCT/NL1989/000088
Date de publication : 14.06.1990 Date de dépôt international : 24.11.1989
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 : 31.05.1990
CIB :
B41C 1/05 (2006.01) ,B41C 1/14 (2006.01) ,G03F 7/24 (2006.01)
B TECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
41
IMPRIMERIE; LIGNARDS; MACHINES À ÉCRIRE; TIMBRES
C
PROCÉDÉS DE FABRICATION OU DE REPRODUCTION DES SURFACES D'IMPRESSION
1
Préparation de la forme ou du cliché
02
Gravure; Têtes à cet effet
04
utilisant des têtes commandées par un signal d'information électrique
05
Têtes de gravure à génération de chaleur, p.ex. à faisceau laser, à faisceau d'électrons
B TECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
41
IMPRIMERIE; LIGNARDS; MACHINES À ÉCRIRE; TIMBRES
C
PROCÉDÉS DE FABRICATION OU DE REPRODUCTION DES SURFACES D'IMPRESSION
1
Préparation de la forme ou du cliché
14
pour l'impression au stencil ou à l'écran de soie
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
20
Exposition; Appareillages à cet effet
24
Surfaces incurvées
Déposants :
STORK SCREENS B.V. [NL/NL]; Raamstraat 3 NL-5831 AT Boxmeer, NL (AllExceptUS)
PRUYN, Wilhelmus, Aloysius [NL/NL]; NL (UsOnly)
SNAKENBORG, Johannes, Tonnis [NL/NL]; NL (UsOnly)
Inventeurs :
PRUYN, Wilhelmus, Aloysius; NL
SNAKENBORG, Johannes, Tonnis; NL
Mandataire :
BARENDREGT, F.; Exterpatent B.V. P.O. Box 90649 NL-2509 LP The Hague, NL
Données relatives à la priorité :
880292828.11.1988NL
Titre (EN) PROCESS AND DEVICE FOR FORMING A RESIST PATTERN ON A CYLINDRICAL OBJECT, AND AN ETCHED METAL CYLINDER OBTAINED USING SUCH A RESIST PATTERN
(FR) PROCEDE ET DISPOSITIF PERMETTANT DE FORMER UN MODELE DE RESERVE SUR UN OBJET CYLINDRIQUE ET CYLINDRE METALLIQUE ATTAQUE OBTENU AVEC UN TEL MODELE DE RESERVE
Abrégé :
(EN) Described are a process and device for forming a resist pattern on both the inner side and the outer side of a cylindrical object (20) with use of one or more laser beams. In the device the cylindrical object (20) is arranged such that it may be rotatably driven while free access is left for the laser equipment to process the material layer on the inner and outer sufaces of the cylindrical object (20). Preferably use is made of one single laser (12) of which the beam is split using a beam splitter (13). Also is claimed an etched metal cylinder which is obtained by etching a metal cylinder (20) using an etching resistance pattern on the inside and outside and formed with use of the claimed process.
(FR) La présente invention décrit un procédé et un dispositif permettant de former un modèle de réserve à la fois sur la face intérieure et sur la face extérieure d'un objet cylindrique (20) en utilisant un ou plusieurs faisceaux lasers. Dans le dispositif, l'objet cylindrique (20) est disposé de façon à pouvoir être entraîné en rotation, tout en laissant en accès libre à l'équipement laser pour le traitement de la couche de matériau sur les surfaces intérieures et extérieures de l'objet cylindrique (20). On utilise de préférence un seul laser (12) dont le faisceau est fractionné par un système de fractionnement de faisceau (13). Est également révendiqué un cylindre métallique attaqué qu'on obtient par attaque d'un cylindre métallique (20) en utilisant un modèle de réserve d'attaque sur la face intérieure et sur la face extérieure du cylindre et qui est formé par le procédé révendiqué.
États désignés : AU, JP, KR, US
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, DE, ES, FR, GB, IT, LU, NL, SE)
Langue de publication : Anglais (EN)
Langue de dépôt : Anglais (EN)