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1. (WO1989012908) PROCEDE ET DISPOSITIF POUR L'ALIMENTATION, EN GAZ DE TRAITEMENT, D'UN REACTEUR SITUE DANS UNE ZONE SOUMISE A DES CHAMPS ELECTRIQUES ET/OU ELECTROMAGNETIQUES INTENSES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/1989/012908    N° de la demande internationale :    PCT/FR1989/000251
Date de publication : 28.12.1989 Date de dépôt international : 26.05.1989
CIB :
H01J 37/30 (2006.01), H01J 37/317 (2006.01), H01J 37/32 (2006.01)
Déposants : EFEREL S.A. [FR/FR]; 1, rue des Cent-Arpents, S.-Germain-de-la-Grange, F-78640 Neauphle-le-Chateau (FR) (Tous Sauf US).
GENOU, Patrick [FR/FR]; (FR) (US Seulement)
Inventeurs : GENOU, Patrick; (FR)
Mandataire : CABINET MOUTARD; 35, avenue Victor-Hugo, F-78960 Voisins-le-Bretonneux (FR)
Données relatives à la priorité :
88/08290 21.06.1988 FR
Titre (EN) PROCESS AND DEVICE FOR SUPPLYING PROCESSING GAS TO A REACTOR LOCATED IN A ZONE SUBJECTED TO INTENSE ELECTRIC AND/OR ELECTROMAGNETIC FIELDS
(FR) PROCEDE ET DISPOSITIF POUR L'ALIMENTATION, EN GAZ DE TRAITEMENT, D'UN REACTEUR SITUE DANS UNE ZONE SOUMISE A DES CHAMPS ELECTRIQUES ET/OU ELECTROMAGNETIQUES INTENSES
Abrégé : front page image
(EN)The device described serves to supply processing gas to an ionic implanter (1), isolated from its environment by an electrically conductive enclosure (3) connected to earth. Said gases are supplied by intermediate containers (C¿1?, C¿2?) arranged permanently inside the enclosure (3) and periodically filled from gas sources (10, 11) arranged outside, via pipelines (14, 14') which are at least partly insulated and pass through the enclosure (3). Each phase of filling the containers (C¿1?, C¿2?), which is effected during the periods when the implanter (1) is stopped, is followed by a gas evacuation phase through said pipelines (14, 14'). The invention overcomes the problems relating to the replacement of gas cylinders arranged around the enclosure in conventional installations.
(FR)Le dispositif selon l'invention sert à alimenter, en gaz de traitement, un implanteur ionique (1) isolé de son environnement par une enceinte électriquement conductrice (3) reliée à la terre. Ces gaz sont fournis par des capacités intermédiaires (C¿1?, C¿2?) disposées à demeure à l'intérieur de l'enceinte (3) et remplies de façon périodique à partir de sources de gaz (10, 11) disposées à l'extérieur, grâce à des conduits (14, 14') au moins en partie isolants qui traversent l'enceinte (3). Chaque phase de remplissage des capacités (C¿1?, C¿2?), qui s'effectue pendant les périodes d'interruption de l'implanteur (1), est suivie d'une phase d'évacuation des gaz dans lesdits conduits (14, 14'). L'invention permet d'éviter les problèmes relatifs au remplacement des bouteilles de gaz disposées à l'intérieur de l'enceinte dans les installations classiques.
États désignés : JP, US.
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, DE, FR, GB, IT, LU, NL, SE).
Langue de publication : français (FR)
Langue de dépôt : français (FR)