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1. (WO1986004183) PROCEDE ET APPAREIL POUR FOCALISER ET SUPPRIMER UN FAISCEAU CONCENTRE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international

N° de publication : WO/1986/004183 N° de la demande internationale : PCT/US1985/002304
Date de publication : 17.07.1986 Date de dépôt international : 25.11.1985
CIB :
H01J 37/30 (2006.01) ,H01J 37/317 (2006.01)
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
J
TUBES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE OU LAMPES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE
37
Tubes à décharge pourvus de moyens permettant l'introduction d'objets ou d'un matériau à exposer à la décharge, p.ex. pour y subir un examen ou un traitement
30
Tubes à faisceau électronique ou ionique destinés aux traitements localisés d'objets
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
J
TUBES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE OU LAMPES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE
37
Tubes à décharge pourvus de moyens permettant l'introduction d'objets ou d'un matériau à exposer à la décharge, p.ex. pour y subir un examen ou un traitement
30
Tubes à faisceau électronique ou ionique destinés aux traitements localisés d'objets
317
pour modifier les propriétés des objets ou pour leur appliquer des revêtements en couche mince, p.ex. implantation d'ions
Déposants :
HUGHES AIRCRAFT COMPANY [US/US]; 200 North Sepulveda Boulevard El Segundo, CA 90245, US
Inventeurs :
KNAUER, Wolfgang; US
Mandataire :
SARJEANT, John, A. @; Hughes Aircraft Company P.O. Box 1042 Bldg. C2, M.S. A126 El Segundo, CA 90245, US
Données relatives à la priorité :
691,25514.01.1985US
Titre (EN) METHOD AND APPARATUS FOR SPOT SHAPING AND BLANKING A FOCUSED BEAM
(FR) PROCEDE ET APPAREIL POUR FOCALISER ET SUPPRIMER UN FAISCEAU CONCENTRE
Abrégé :
(EN) Charged particle source (14) delivers beam (20) which is collimated onto first aperture plate having first aperture (28). The beam passing therethrough is deflected by deflection plates (32, 34, 38 and 40) with respect to second aperture (46) in second aperture plate (44). The image (50) of the second aperture (46) is focused on the target plane (16) and the virtual image of the footprint (58) of the deflected beam is focused on the target plane (16). When these images overlap, a shaped beam (56) passes through. Scanning of the beam across the target plane by deflection plates (52 and 54) permits exposure of sharp-edged features (62) by positioning the image (60a) inside the margin (64) and then scanning the image (50b) thereacross to expose the sharp edge and thereupon picking up the image (60) so that they both scan across the feature to be exposed.
(FR) Une source de particules chargées (14) produit un faisceau (20) qui est aligné sur une première plaque d'ouverture ayant une première ouverture (28). Le faisceau passant au travers est dévié par des plaques de déviation (32, 34, 38 et 40) par rapport à une seconde ouverture (46) dans une seconde plaque d'ouverture (44). L'image (50) de la seconde ouverture (46) est focalisée sur le porte-cible (16) et l'image virtuelle de l'empreinte (58) du faisceau dévié est focalisée sur le porte-cible (16) également. Lorsque ces image se chevauchent, un faisceau modelé (56) passe au travers. Le balayage par les plaques de déviation (52 et 54) du faisceau sur le porte-cible permet de produire par exposition des tracés (62) aux contours nets en positionnant l'image (60a) à l'intérieur de la marge (64) et puis en balayant l'image (50b) pour obtenir par exposition le contour net, et ensuite en captant l'image (60) de manière à balayer le tracé à produire par exposition.
États désignés : JP
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, DE, FR, GB, IT, LU, NL, SE)
Langue de publication : Anglais (EN)
Langue de dépôt : Anglais (EN)
Également publié sous:
EP0211002