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1. (WO1986001232) PROCEDE ET APPAREIL DE COMMANDE DE LA DECHARGE DE VAPEUR LORS DE LA FABRICATION DE PRE-FORMES OPTIQUES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/1986/001232    N° de la demande internationale :    PCT/US1985/001432
Date de publication : 27.02.1986 Date de dépôt international : 26.07.1985
CIB :
B01D 1/00 (2006.01), B01D 1/14 (2006.01), C03B 37/014 (2006.01), C03C 17/02 (2006.01), C23C 16/448 (2006.01)
Déposants : AMERICAN TELEPHONE & TELEGRAPH COMPANY [US/US]; 550 Madison Avenue, New York, NY 10022 (US)
Inventeurs : LYNCH, Brian; (US).
NARASIMHAM, Pundi, Lakshmi; (US).
PARTUS, Fred, Paul; (US)
Mandataire : HIRSCH, A., E., Jr. @; Post Office Box 901, Princeton, NJ 08540 (US)
Données relatives à la priorité :
637,246 02.08.1984 US
Titre (EN) METHODS OF AND APPARATUS FOR VAPOR DELIVERY CONTROL IN OPTICAL PREFORM MANUFACTURE
(FR) PROCEDE ET APPAREIL DE COMMANDE DE LA DECHARGE DE VAPEUR LORS DE LA FABRICATION DE PRE-FORMES OPTIQUES
Abrégé : front page image
(EN)A vapor delivery system (20) for the manufacture of an optical preform includes a deposition bubbler (60) and another bubbler (40) referred to as a supply bubbler (40) which is interposed between a reservoir (24) of a liquid (22) and the deposition bubbler (60). Heat energy is applied to the supply bubbler (40) and to the deposition bubbler (60) to vaporize liquid therein. A carrier gas is introduced into the liquid in the supply bubbler (40) at a location below the free surface and into the deposition bubbler (60) to cause vapor to the liquid to become entrained in the carrier gas and to flow from the supply bubbler (40) into the deposition bubbler (60) and from the deposition bubbler (62) to a substrate tube from which an optical preform is made. Facilities are provided for maintaining sufficient liquid in the supply bubbler (40) and suitable temperatures of the liquid in the supply (40) and deposition (60) bubblers to control the vapor flow into and out of the deposition bubbler (60) to prevent unintended perturbations in the deposition bubbler (60). As a result, the concentration level of the vapor which is entrained in the carrier gas and delivered to the substrate tube is maintained at a substantially constant value.
(FR)Un système de décharge de vapeur (20) utilisé lors de la fabrication de pré-formes optiques comprend un barboteur de déposition (60) et un autre barboteur (40) appelé barboteur d'alimentation (40) et intercalé entre un réservoir (24) d'un liquide (22) et le barboteur de déposition (60). On applique de l'énergie thermique au barboteur d'alimentation (40) et au barboteur de déposition (60) afin de vaporiser le liquide qu'ils contiennent. On introduit un gaz porteur dans le liquide contenu dans le barboteur d'alimentation (40) à un point situé au-dessous de la surface libre et dans le barboteur de déposition (60) afin d'amener la vapeur du liquide à être entraîneée dans le gaz porteur et à s'écouler du barboteur d'alimentation (40) jusqu'au barboteur de déposition (60), et du barboteur de déposition (62) jusqu'à un substrat tubulaire dont on fait une pré-forme optique. Des dispositifs sont prévus pour maintenir suffisamment de liquide dans le barboteur d'alimentation (40) et des températures appropriées du liquide dans les barboteurs d'alimentation (40) et de déposition (60) pour commander l'écoulement de vapeur qui entre dans le barboteur de déposition (60) et qui en sort et d'éviter des perturbations involontaires dans le barboteur de déposition (60). On maintient par conséquent à une valeur sensiblement constante le niveau de concentration de la vapeur entraînée par le gaz porteur et fournie au substrat tubulaire.
États désignés : JP, KR.
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, DE, FR, GB, IT, LU, NL, SE).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)