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1. (WO1986001027) METHODE POUR FORMER UN THERMOMETRE A RESISTANCE EN PLATINE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/1986/001027    N° de la demande internationale :    PCT/US1985/001398
Date de publication : 13.02.1986 Date de dépôt international : 25.07.1985
CIB :
G01K 7/18 (2006.01), H01C 17/00 (2006.01), H01C 17/12 (2006.01), H01C 7/02 (2006.01)
Déposants : ROSEMOUNT, INC. [US/US]; 12001 West 78th Street, Eden Prairie, MN 55344 (US)
Inventeurs : BOHARA, Robert, C.; (US).
RUF, James, A.; (US)
Mandataire : WESTMAN, Nickolas, E. @; Kinney & Lange, Suite 1500, 625 Fourth Avenue South, Minneapolis, MN 55415 (US)
Données relatives à la priorité :
636,141 31.07.1984 US
636,142 31.07.1984 US
Titre (EN) METHOD FOR FORMING A PLATINUM RESISTANCE THERMOMETER
(FR) METHODE POUR FORMER UN THERMOMETRE A RESISTANCE EN PLATINE
Abrégé : front page image
(EN)A platinum resistance thermometer (10) is formed in a process which includes the defining of a path for the resistance thermometer in an inert material (28) deposited in a layer on the substrate (24). The substrate surface (26) is exposed in the path, and the inert material (28) forms a negative pattern for the path. The resistive material for the thermometer is then deposited on both the substrate surface (26) exposed in the path and on the surfaces (32, 34) of the inert material remaining on the substrate. After this, the inert material (28) is etched away, and the resistive material (40) deposited on top of the inert material (28) is then loose and can be removed leaving a strip (12) of resistive material in the desired path for forming the resistive thermometer (10). The strip (12) has low contamination and impurities to more easily reach the desired temperature coefficient of resistance of the strip (12) forming the thermometer (10).
(FR)Un thermomètre à résistance en platine (10) est formé par un procédé qui inclut la définition d'un chemin pour le thermomètre de résistance dans un matériau inerte (28) déposé dans une couche du substrat (24). La surface du substrat (26) est exposée dans le chemin, et le matériau inerte (28) constitue un modèle négatif pour le chemin. Le matériau résistif pour le thermomètre est ensuite déposé à la fois sur la surface du substrat (26) exposé, dans le chemin et sur les surfaces (32, 34) du matériau inerte qui reste sur le substrat. Après ceci, le matériau inerte (28) est attaqué, et le matériau resistif (40) déposé sur le matériau inerte (28) est ensuite dégagé et peut être enlevé, pour laisser une bande (12) de matériau résistif dans le chemin souhaité pour former le thermomètre résistif (10). La bande (12) a un faible degré de contamination et d'impuretés, ce qui permet d'atteindre plus facilement le coefficient thermique de résistance souhaité pour la bande (12) qui constitue le thermomètre.
États désignés : AU, BR, JP, NO.
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, DE, FR, GB, IT, LU, NL, SE).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)