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1. (WO1986001009) FORMATION DE MOTIFS
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/1986/001009    N° de la demande internationale :    PCT/JP1985/000411
Date de publication : 13.02.1986 Date de dépôt international : 22.07.1985
CIB :
G03F 7/039 (2006.01)
Déposants : NIPPON TELEGRAPH AND TELEPHONE CORPORATION [JP/JP]; 1-6, Uchisaiwai-cho 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 100 (JP) (Tous Sauf US).
IWADATE, Kazumi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
HARADA, Katsuhiro [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : IWADATE, Kazumi; (JP).
HARADA, Katsuhiro; (JP)
Mandataire : TAMAMUSHI, Kyugoro; 5-2, Minaminagasaki 2-chome, Toshima-ku, Tokyo 171 (JP)
Données relatives à la priorité :
59/151269 23.07.1984 JP
59/176851 27.08.1984 JP
60/151860 10.07.1985 JP
Titre (EN) PATTERN FORMATION
(FR) FORMATION DE MOTIFS
Abrégé : front page image
(EN)A method for forming a fine pattern suited for production of semiconductor integrated circuits, light integrated circuits, Josephson elements, etc., which comprises using a positive resist composition prepared by adding an oxide, halide or organic acid salt of a divalent metal to a polymer having carboxyl groups in the side chain, and heating the composition to form an ionomer and cause thermal crosslinking. Its development is conducted in a developer of an organic solvent containing a carboxylic acid. This process enables to form super-fine, accurate patterns.
(FR)Procédé de formation d'un motif fin indiqué pour la production de circuits intégrés à semi-conducteurs, de circuits intégrés légers, d'éléments de Josephson, etc. Ce procédé consiste à utiliser une composition de réserve positive préparée par addition d'un oxyde, halogénure ou sel acide organique d'un métal divalent à un polymère possédant des groupes carboxyle dans la chaîne latérale, et à chauffer la composition pour former un ionomère et provoquer une réticulation thermique. Son développement est exécuté dans un révélateur à base d'un solvant organique contenant un acide carboxylique. Ce procédé permet de former des motifs précis et extrêment fins.
États désignés : KR, US.
Office européen des brevets (OEB) (DE, FR, GB).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)