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Paramétrages

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1. WO1985001126 - PROCEDE DE PRODUCTION DE PELLICULES EXEMPTES DE CONTAMINATION

Numéro de publication WO/1985/001126
Date de publication 14.03.1985
N° de la demande internationale PCT/US1984/001060
Date du dépôt international 02.07.1984
CIB
B65D 85/50 2006.01
BTECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
65MANUTENTION; EMBALLAGE; EMMAGASINAGE; MANIPULATION DES MATÉRIAUX DE FORME PLATE OU FILIFORME
DRÉCEPTACLES POUR L'EMMAGASINAGE OU LE TRANSPORT D'OBJETS OU DE MATÉRIAUX, p.ex. SACS, TONNEAUX, BOUTEILLES, BOÎTES, BIDONS, CAISSES, BOCAUX, RÉSERVOIRS, TRÉMIES OU CONTENEURS D'EXPÉDITION; ACCESSOIRES OU FERMETURES POUR CES RÉCEPTACLES; ÉLÉMENTS D'EMBALLAGE; PAQUETS
85Réceptacles, éléments d'emballage ou paquets spécialement adaptés aux objets ou aux matériaux particuliers
50pour organismes vivants, objets ou matériaux sensibles aux changements d'ambiance ou de conditions atmosphériques, p.ex. pour animaux terrestres, oiseaux, poissons, plantes aquatiques, plantes non aquatiques, oignons de fleurs, fleurs coupées ou feuillage
B65D 25/14 2006.01
BTECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
65MANUTENTION; EMBALLAGE; EMMAGASINAGE; MANIPULATION DES MATÉRIAUX DE FORME PLATE OU FILIFORME
DRÉCEPTACLES POUR L'EMMAGASINAGE OU LE TRANSPORT D'OBJETS OU DE MATÉRIAUX, p.ex. SACS, TONNEAUX, BOUTEILLES, BOÎTES, BIDONS, CAISSES, BOCAUX, RÉSERVOIRS, TRÉMIES OU CONTENEURS D'EXPÉDITION; ACCESSOIRES OU FERMETURES POUR CES RÉCEPTACLES; ÉLÉMENTS D'EMBALLAGE; PAQUETS
25Parties constitutives des autres genres ou types de réceptacles rigides ou semi-rigides
14Garnitures ou revêtements internes
G03F 1/62 2012.01
GPHYSIQUE
03PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
FPRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
1Originaux pour la production par voie photomécanique de surfaces texturées, p.ex. masques, photomasques ou réticules; Masques vierges ou pellicules à cet effet; Réceptacles spécialement adaptés à ces originaux; Leur préparation
62Pellicules, p.ex. assemblage de pellicules ayant une membrane sur un cadre de support; Leur préparation
H01L 21/027 2006.01
HÉLECTRICITÉ
01ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
LDISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
21Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de dispositifs à semi-conducteurs ou de dispositifs à l'état solide, ou bien de leurs parties constitutives
02Fabrication ou traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou de leurs parties constitutives
027Fabrication de masques sur des corps semi-conducteurs pour traitement photolithographique ultérieur, non prévue dans le groupe H01L21/18 ou H01L21/34187
H01L 21/30 2006.01
HÉLECTRICITÉ
01ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
LDISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
21Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de dispositifs à semi-conducteurs ou de dispositifs à l'état solide, ou bien de leurs parties constitutives
02Fabrication ou traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou de leurs parties constitutives
04les dispositifs présentant au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface, p.ex. une jonction PN, une région d'appauvrissement, ou une région de concentration de porteurs de charges
18les dispositifs ayant des corps semi-conducteurs comprenant des éléments du groupe IV de la classification périodique, ou des composés AIIIBV, avec ou sans impuretés, p.ex. des matériaux de dopage
30Traitement des corps semi-conducteurs en utilisant des procédés ou des appareils non couverts par les groupes H01L21/20-H01L21/26162
CPC
G03F 1/62
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
1Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
62Pellicles, e.g. pellicle assemblies, e.g. having membrane on support frame; Preparation thereof
Déposants
  • YEN, Yung-Tsai [US/US]; US
Inventeurs
  • YEN, Yung-Tsai; US
Mandataires
  • HUGHES, Michael, J.; Hughes, Gargrave, Gumaer, Mrozek & Bedolla 3333 Bowers Ave. Suite 249 Santa Clara, CA 95051, US
Données relatives à la priorité
527,25129.08.1983US
Langue de publication anglais (EN)
Langue de dépôt anglais (EN)
États désignés
Titre
(EN) METHOD OF PRODUCING CONTAMINATION-FREE PELLICLES
(FR) PROCEDE DE PRODUCTION DE PELLICULES EXEMPTES DE CONTAMINATION
Abrégé
(EN)
The method of producing contamination-free pellicles and the pellicles produced by the method are adapted to prevent particulate contamination to the interior surface of a pellicle film. The preferred embodiment of the method includes the steps of selecting an appropriate planar cover sheet, applying a layer of contact adhesive to one surface of the cover sheet and detachably installing the cover sheet on a pellicle with the adhesive surface facing inward and forming a sealed interior volume with the pellicle. The contamination-free pellicles (10) include a preselected cover sheet (12) attached to a conventional pellicle (14) including a support ring (16) and a transparent film (18). The cover sheet (12) is provided with a contact adhesive (20) on the interior surface to capture and retain particulate matter within the sealed interior volume (19). The contamination-free pellicles (10) substantially reduce the risk of particulate contamination to the film (18) and are thus extremely useful in photomask processes in the electronics industry.
(FR)
Le procédé de production de pellicules exemptes de contamination et les pellicules produites par ce procédé permettent d'empêcher la contamination de la surface interne d'une pellicule par des particules de matière. Le mode préféré de réalisation du procédé consiste à sélectionner une feuille de couverture plane appropriée, à appliquer une couche d'adhésif de contact sur une surface de la feuille de couverture et à installer de manière détachable la feuille de couverture sur une pellicule avec la surface adhésive orientée vers l'intérieur et formant avec la pellicule un volume interne scellé. Les pellicules exemptes de contamination (10) comprennent une feuille de couverture présélectionnée (12) fixée sur une pellicule conventionnelle (14) comprenant un anneau de support (16) et un film transparent (18). La feuille de couverture (12) est pourvue d'un adhésif de contact (20) sur sa surface interne, permettant de capturer et de retenir les particules de matière à l'intérieur du volume interne scellé (19). Les pellicules exemptes de contamination (10) réduisent sensiblement le risque de contamination du film (18) par les particules de matière et sont par conséquent extrêmement utiles dans des processus de photomasquage dans l'industrie électronique.
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