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1. WO1985000993 - DEPOT D'UN FILM PAR ATOMISATION MOLECULAIRE D'UN FLUIDE SURCRITIQUE ET FORMATION DE POUDRE

Numéro de publication WO/1985/000993
Date de publication 14.03.1985
N° de la demande internationale PCT/US1984/001386
Date du dépôt international 28.08.1984
CIB
B05B 7/14 2006.01
BTECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
05PULVÉRISATION OU ATOMISATION EN GÉNÉRAL; APPLICATION DE LIQUIDES OU D'AUTRES MATÉRIAUX FLUIDES AUX SURFACES, EN GÉNÉRAL
BAPPAREILLAGES DE PULVÉRISATION; APPAREILLAGES D'ATOMISATION; AJUTAGES OU BUSES
7Appareillages de pulvérisation pour débiter des liquides ou d'autres matériaux fluides provenant de plusieurs sources, p.ex. un liquide et de l'air, une poudre et un gaz
14agencés pour projeter des matériaux en particules
B05D 1/02 2006.01
BTECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
05PULVÉRISATION OU ATOMISATION EN GÉNÉRAL; APPLICATION DE LIQUIDES OU D'AUTRES MATÉRIAUX FLUIDES AUX SURFACES, EN GÉNÉRAL
DPROCÉDÉS POUR APPLIQUER DES LIQUIDES OU D'AUTRES MATÉRIAUX FLUIDES AUX SURFACES, EN GÉNÉRAL
1Procédés pour appliquer des liquides ou d'autres matériaux fluides aux surfaces
02réalisés par pulvérisation
CPC
B05B 7/1486
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING LIQUIDS OR OTHER FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
BSPRAYING APPARATUS; ATOMISING APPARATUS; NOZZLES
7Spraying apparatus for discharge of liquids or other fluent materials from two or more sources, e.g. of liquid and air, of powder and gas
14designed for spraying particulate materials
1481Spray pistols or apparatus for discharging particulate material
1486for spraying particulate material in dry state
B05D 1/025
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING LIQUIDS OR OTHER FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
DPROCESSES FOR APPLYING LIQUIDS OR OTHER FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
1Processes for applying liquids or other fluent materials
02performed by spraying
025using gas close to its critical state
B05D 2401/90
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING LIQUIDS OR OTHER FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
DPROCESSES FOR APPLYING LIQUIDS OR OTHER FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
2401Form of the coating product, e.g. solution, water dispersion, powders or the like
90at least one component of the composition being in supercritical state or close to supercritical state
Déposants
  • BATTELLE MEMORIAL INSTITUTE [US/US]; Battelle Boulevard Post Office Box 999 Richland, WA 99352, US
Inventeurs
  • SMITH, Richard, D.; US
Mandataires
  • JOHNSON, Alexander, C., Jr.; Klarquist, Sparkman, Campbell, Leigh & Whinston 1620 Willamette Center 121 S.W. Salmon Street Portland, OR 97204, US
Données relatives à la priorité
528,72301.09.1983US
Langue de publication anglais (EN)
Langue de dépôt anglais (EN)
États désignés
Titre
(EN) SUPERCRITICAL FLUID MOLECULAR SPRAY FILM DEPOSITION AND POWDER FORMATION
(FR) DEPOT D'UN FILM PAR ATOMISATION MOLECULAIRE D'UN FLUIDE SURCRITIQUE ET FORMATION DE POUDRE
Abrégé
(EN)
Solid films are deposited, or fine powders formed, by dissolving a solid material into a supercritical fluid solution at an elevated pressure and then rapidly expanding the solution through a short orifice into a region of relatively low pressure. This produces a molecular spray which is directed against a substrate to deposit a solid thin film thereon, or discharged into a collection chamber to collect a fine powder. Upon expansion and supersonic interaction with background gases in the low pressure region, any clusters of solvent are broken up and the solvent is vaporized and pumped away. Solute concentration in the solution is varied primarily by varying solution pressure to determine, together with flow rate, the rate of deposition and to control in part whether a film or podwer is produced and the granularity of each. Solvent clustering and solute nucleation are controlled by manipulating the rate of expansion of the solution and the pressure of the lower pressure region. Solution and low pressure region temperatures are also controlled.
(FR)
Des films solides sont déposés, ou des poudres fines sont formées en dissolvant un matériau solide dans une solution de fluide surcritique à une pression élevée puis en effectuant la dilatation rapide de la solution au travers d'un petit d'orifice dans une région de pression relativement basse. Ceci produit une atomisation moléculaire qui est dirigée contre un substrat pour déposer un film mince solide, ou alors elle est déchargée dans une chambre de récupération pour récupérer une poudre fine. Lors de la dilatation et de l'altération supersonique avec des gaz de fond dans la région de basse pression, tout amas de solvant est décomposé et le solvant est vaporisé puis extrait par pompage. On fait varier la concentration du soluté dans la solution essentiellement en variant la pression de la solution pour déterminer, en même temps que le débit, la vitesse de dépôt et pour contrôler si un film ou une poudre a été produite ainsi que leur granularité. L'agglomération de solvant et la nucléation de soluté sont contrôlées en manipulant la vitesse de dilatation de la solution et la pression de la région de faible pression. Les températures de la solution et de la région de faible pression sont également régulées.
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