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1. (WO1982001945) COMPOSITIONS PHOTOGRAPHIQUES ANTISTATIQUES ET ELEMENTS REVETUS AVEC CES COMPOSITIONS
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/1982/001945    N° de la demande internationale :    PCT/US1981/001416
Date de publication : 10.06.1982 Date de dépôt international : 22.10.1981
CIB :
G03C 1/85 (2006.01)
Déposants : EASTMAN KODAK COMPANY [US/US]; 343 State Street, Rochester, NY 14650 (US)
Inventeurs : MILLER, Donald, N.; (US).
KYDD, Richard, A.; (US)
Mandataire : WIESE, Bernard, D.; 343 State Street, Rochester, NY 14650 (US)
Données relatives à la priorité :
209,554 24.11.1980 US
Titre (EN) PHOTOGRAPHIC ANTISTATIC COMPOSITIONS AND ELEMENTS COATED THEREWITH
(FR) COMPOSITIONS PHOTOGRAPHIQUES ANTISTATIQUES ET ELEMENTS REVETUS AVEC CES COMPOSITIONS
Abrégé : front page image
(EN)Photographic antistatic coating compositions comprising a hydrophilic binder, an anionic fluorinated surfactant and an inorganic nitrate. Photographic base elements and radiation-sensitive elements are protected against the adverse effects resulting from accumulation of static electrical charges by incorporating therein an antistatic layer formed from the aforementioned coating compositions.
(FR)Compositions de revetement photographique antistatique comprenant un liant hydrophile, un agent tensioactif anionique fluore et un nitrate inorganique. Des elements de base photographiques et des elements sensibles aux radiations sont proteges contre les effets adverses resultant de l'accumulation de charges electriques statiques en y incorporant une couche antistatique formee avec des compositions de revetement mentionnees ci-dessus.
États désignés : BR, CH, DE, GB, JP.
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)