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1. (WO1981003168) HYDROGENATION DE TETRACHLORURE DE SILICIUM AU MOYEN DE PLASMA A HAUTE PRESSION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/1981/003168    N° de la demande internationale :    PCT/US1981/000462
Date de publication : 12.11.1981 Date de dépôt international : 06.04.1981
CIB :
B01J 12/00 (2006.01), C01B 33/107 (2006.01)
Déposants :
Inventeurs :
Données relatives à la priorité :
148094 09.05.1980 US
Titre (EN) HIGH PRESSURE PLASMA HYDROGENATION OF SILICON TETRACHLORIDE
(FR) HYDROGENATION DE TETRACHLORURE DE SILICIUM AU MOYEN DE PLASMA A HAUTE PRESSION
Abrégé : front page image
(EN)A method for the plasma hydrogenation of SiCl4. A high pressure plasma (16) is utilized to effect a reaction of H2 (44) and SiCl4 (42) to form HSiCl3 and other hydrogenated silicon chlorides which can be separated from H2 and HCl by-product by passing the output gases from reactor (50) to condensation apparatus (56).
(FR)Procede d'hydrogenation de SiCl4 au moyen de plasma. Un plasma a haute pression (16) est utilise pour produire une reaction entre H2 (44) et SiCl4 (42) pour former du HSiCl3 et d'autres chlorures de silicium hydrogenes qui peuvent etre separes du H2 et du sous-produit du HCl en faisant passer les gaz de sortie du reacteur (50) dans un dispositif de condensation (56).
États désignés :
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)