WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO1981001671) PROCEDE ET DISPOSITIF DE FABRICATION DE MICROFIL
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/1981/001671    N° de la demande internationale :    PCT/SU1980/000198
Date de publication : 25.06.1981 Date de dépôt international : 11.12.1980
CIB :
B21B 1/16 (2006.01), B21C 1/00 (2006.01), B21C 3/06 (2006.01), B21B 15/00 (2006.01)
Déposants :
Inventeurs :
Données relatives à la priorité :
2849997 12.12.1979 SU
Titre (EN) METHOD AND DEVICE FOR MAKING MICROWIRE
(FR) PROCEDE ET DISPOSITIF DE FABRICATION DE MICROFIL
Abrégé : front page image
(EN)A method of making a microwire characterized in that a wire blank (1) for the microwire (2) in the course of its drawing is alternatively rolled over in relation to the drawing axis (B-B) by at least half lengths of the circumference of the wire blank (1). The device for implementation of the method comprises a casing (3), a drawing die (4) and a mechanism for pulling the microwire through the drawing die (4). The drawing die (4) consists of two parts (5 and 6) interacting with the wire blank (1) of the microwire (2) during its drawing between them, each of those parts being provided with a calibrating surface (8). The parts (5 and 6) of the drawing die (4) are mounted in the casing (3) with the possibility of reciprocating synchronous displacements in mutually parallel planes, the calibrating surfaces (8) of both parts (5 and 6) of the drawing die (4) being flat and parallel to each other and to the drawing axis (B-B). The method and the device for making microwire can be used for production of semiconductor devices and integrated microcircuits and can be used as well for improving the quality of the surface of microwires compared to those produced by means of other processes and devices.
(FR)Un procede de fabrication d"un microfil est caracterise en ce qu"une ebauche de fil (1) pour le microfil (2), en cours d"etirage, est alternativement laminee par rapport a l"axe (B-B) d"etirage sur au moins des demi-longueurs de la circonference de l"ebauche de fil (1). Le dispositif de mise en oeuvre du procede comprend un boitier (3), une filiere (4) et un mecanisme pour tirer le microfil au travers de la filiere (4). La filiere (4) consiste en deux pieces (5 et 6) agissant en association sur l"ebauche de fil (1) du microfil (2) pendant son etirage, chacune de ces pieces etant pourvue d"une surface de calibrage (8). Les pieces (5 et 6) de la filiere (4) sont montees dans le boitier (3) et peuvent se deplacer avec un mouvement alternatif synchrone dans des plans paralleles, les surfaces de calibrage (8) des deux pieces (5 et 6) de la filiere (4) etant plates et paralleles entre elles et a l"axe (B-B) d"etirage. Le procede et le dispositif de fabrication de microfil peuvent etre utilises pour la production de dispositifs a semi-conducteurs et de microcircuits integres et peuvent egalement etre utilises pour ameliorer la qualite de la surface de microfils produit a l"aide d"autres procede et dispositifs.
États désignés :
Langue de publication : russe (RU)
Langue de dépôt : russe (RU)