WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO1981001072) APPAREIL ET PROCEDE DE DETECTION DE DISTORSION DE TRANSMODULATION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/1981/001072    N° de la demande internationale :    PCT/US1980/001327
Date de publication : 16.04.1981 Date de dépôt international : 02.10.1980
CIB :
G11B 7/003 (2006.01)
Déposants :
Inventeurs :
Données relatives à la priorité :
82662 09.10.1979 US
Titre (EN) APPARATUS AND METHOD FOR DETECTING CROSSMODULATION DISTORTION
(FR) APPAREIL ET PROCEDE DE DETECTION DE DISTORSION DE TRANSMODULATION
Abrégé : front page image
(EN)Crossmodulation distortion is detected from multiple bands (34) on a film (12). Light is passed through the film (12) where each band (34) has a high frequency signal modulated by a low frequency signal. Mask (18) with two groups of apertures (20 and 22) is positioned between the film (12) and two detectors (14 and 16). A first group of apertures (20) has a longitudinal dimension which is a whole number multiple of, and substantially greater than the wavelength of the high frequency signal and a transverse dimension sufficient to encompass some whole number of bands (34). The second group (22) is positioned and dimensioned such that only light from a partial portion of a selected number of bands (34) passes to provide a phase reference. More than one mask (18) can be used and secondary aperture groups (120 and 122) can also be used.
(FR)La distorsion par transmodulation est detectee a partir de bandes multiples (34) sur un film (12). La lumiere passe au travers du film (12) ou chaque bande (34) possede un signal haute frequence module par un signal basse frequence. Un masque (18) avec deux groupes d'ouverture (20 et 22) est positionne entre le film (12) et deux detecteurs (14 et 16). Un premier groupe d'ouverture (20) possede une dimension longitudinale qui est un nombre entier multiple de, et sensiblement superieur, a la longueur d'onde du signal haute frequence, et une dimension transversale suffisante pour renfermer un nombre entier de bandes (34). Le second groupe (22) est positionne et dimensionne de sorte que seule la lumiere provenant d'une portion partielle d'un nombre selectionne de bandes (34) passe pour produire une reference de phase. On peut utiliser plus d'un masque (18) et des groupes d'ouverture secondaires (120 et 122) peuvent egalement etre utilises.
États désignés :
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)