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1. (WO1981000420) APPAREIL D"ATTAQUE CHIMIQUE DE GRANDE CAPACITE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international

N° de publication : WO/1981/000420 N° de la demande internationale : PCT/US1980/000927
Date de publication : 19.02.1981 Date de dépôt international : 25.07.1980
CIB :
H01J 37/34 (2006.01)
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
J
TUBES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE OU LAMPES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE
37
Tubes à décharge pourvus de moyens permettant l'introduction d'objets ou d'un matériau à exposer à la décharge, p.ex. pour y subir un examen ou un traitement
32
Tubes à décharge en atmosphère gazeuse
34
fonctionnant par pulvérisation cathodique
Déposants :
Inventeurs :
Données relatives à la priorité :
6518509.08.1979US
Titre (EN) HIGH CAPACITY ETCHING APPARATUS
(FR) APPAREIL D"ATTAQUE CHIMIQUE DE GRANDE CAPACITE
Abrégé :
(EN) Apparatus for sputter etching or reactive sputter etching of semiconductor wafers comprises a-c excited concentric electrodes. In one embodiment the inner electrode (24) has the smaller surface area and constitutes a cathode electrode. In another embodiment the inner electrode (236) has a plurality of vanes and the outer electrode (210) has the smaller surface area and constitutes the cathode electrode. In either case the workpieces are mounted on the cathode electrode.
(FR) Appareil d"attaque chimique par bombardement de tranches de semi-conducteur comprenant des electrodes concentriques excitees par un courant alternatif. Dans un mode de realisation l"electrode interne (24) possede la plus petite region superficielle et constitue une electrode cathodique. Dans un autre mode de realisation, l"electrode interne (236) possede une pluralite d"ailettes et l"electrode externe (210) possede la plus petite region de surface et constitue l"electrode cathodique. Dans les deux cas les pieces a usiner sont montees sur l"electrode cathodique.
États désignés :
Langue de publication : Anglais (EN)
Langue de dépôt : Anglais (EN)
Également publié sous:
EP0033345