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1. (WO1980001002) SYSTEME D"INSPECTION DE MOTIFS
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/1980/001002    N° de la demande internationale :    PCT/JP1979/000271
Date de publication : 15.05.1980 Date de dépôt international : 25.10.1979
CIB :
G01B 11/02 (2006.01), G06K 9/54 (2006.01), G06T 7/60 (2006.01)
Déposants :
Inventeurs :
Données relatives à la priorité :
78/146865 28.11.1978 JP
Titre (EN) PATTERN INSPECTION SYSTEM
(FR) SYSTEME D"INSPECTION DE MOTIFS
Abrégé : front page image
(EN)Pattern inspection system for patterns (1a) formed on a substrate (1) such as photo mask by means of laser beam scanning. The system includes means (10, 11) for detecting pattern states in a plurality of separate directions, a memory device (12) having a plurality of memory units for storing the pattern states detected separately, and a means (13) for measuring pattern width in the direction perpendicular to the direction of the patterns.
(FR)Un systeme d"inspection de motifs pour des motifs (1a) formes sur un substrat (1) tel qu"un photomasq ue est effectue par exploration au rayon laser. L e systeme comprend des moyens (10, 11) de detection d"etats de motifs dans plusieurs directions separees, un dispositif a memoire (12) ayant une pluralite de memoires pour emmagasiner les etats des motifs detectes separement, et des moyens (13) de mesure de la largeur du motif dans le sens perpendiculaire a la direction des motifs.
États désignés :
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)