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1. (WO1980000712) PROCEDE POUR DEPOSER SUR DES SUBSTRATS, PAR PULVERISATION CATHODIQUE, UN REVETEMENT AUTO-LUBRIFIANT DE CHALCOGENURES METALLIQUES, REVETEMENT OBTENU PAR CE PROCEDE ET COMPOSITION PULVERISABLE POUR METTRE CELUI-CI EN OEUVRE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/1980/000712    N° de la demande internationale :    PCT/CH1979/000132
Date de publication : 17.04.1980 Date de dépôt international : 08.10.1979
CIB :
C23C 14/06 (2006.01), G04B 31/08 (2006.01)
Déposants :
Inventeurs :
Données relatives à la priorité :
10455/78 09.10.1978 CH
Titre (EN) PROCESS FOR DEPOSITING ON SUBSTRATES BY SPRAYING AN AUTOLUBRICATING COATING OF METAL CHALCOGENIDES,COATING OPTAINED BY SUCH PROCESS AND SPRAYABLE COMPOSITION FOR APPLICATION OF THE PROCESS
(FR) PROCEDE POUR DEPOSER SUR DES SUBSTRATS, PAR PULVERISATION CATHODIQUE, UN REVETEMENT AUTO-LUBRIFIANT DE CHALCOGENURES METALLIQUES, REVETEMENT OBTENU PAR CE PROCEDE ET COMPOSITION PULVERISABLE POUR METTRE CELUI-CI EN OEUVRE
Abrégé : front page image
(EN)Application on substrates of a self-lubricating layer of metal chalcogenide, with the cathode spraying process, by using as target chalcogenides comprising an excess of one of the elements in a free state, composing such chalcogenides. According to this process, the cathodic space of said target is submitted to a magnetic field and the current spraying density is selected so that the deposit rate is at least 0.1 m/min. The coating layer obtained is of the turbostratic type.
(FR)Application sur des substrats d"une couche auto-lubrifiante de chalcogenure metallique, par le procede de pulverisation cathodique, en utilisant comme cible des chalcogenures comprenant un exces de l"un des elements a l"etat libre, constituant ce chalcogenure. Suivant ce procede l"espace cathodique de ladite cible est soumis a un champ magnetique et la densite du courant de pulverisation est choisie telle que la vitesse de depot soit d"au moins 0,1 um/min. La couche de revetement obtenue est de type turbostratique.
États désignés :
Langue de publication : allemand (DE)
Langue de dépôt : allemand (DE)