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1. (WO1980000504) COMMANDE DU DEPOT DE PELLICULE FINE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/1980/000504    N° de la demande internationale :    PCT/GB1979/000138
Date de publication : 20.03.1980 Date de dépôt international : 10.08.1979
CIB :
C23C 14/54 (2006.01), G01B 11/06 (2006.01), G01B 21/08 (2006.01), G01B 7/06 (2006.01), G05D 5/03 (2006.01)
Déposants :
Inventeurs :
Données relatives à la priorité :
7833927 18.08.1978 GB
Titre (EN) CONTROL OF DEPOSITION OF THIN FILMS
(FR) COMMANDE DU DEPOT DE PELLICULE FINE
Abrégé : front page image
(EN)In apparatus for sensing and controlling the deposition of a thin film on to a substrate (12) from a gas or vapour phase, the optical reflectance or transmittance is sensed, the resonant frequency of a crystal (14) also exposed to the deposition is sensed, and the quotient of the change in each signal over a predetermined time interval is determined. The deposition can be terminated at a suitable thickness, for example a reflectance or transmittance maximum or minimum. Instead of an optical property, the electrical resistivity of the film may be sensed and used in the same way.
(FR)Dans un appareil de detection et de commande du depot d"une pellicule fine sur un substrat (12) a partir d"une phase gazeuse ou de vapeur, le pouvoir reflecteur ou la transmission optique est determinee, la frequence de resonance d"un cristal (14) egalement expose au depot est detectee, et le quotient du changement de chaque signal sur un intervalle de temps predetermine est mesure. Le depot peut etre arrete a une epaisseur appropriee, par exemple a une valeur maximum ou minimum de pouvoir reflecteur ou de transmission. Au lieu d"utiliser une propriete optique, la resistivite electrique de la pellicule peut etre mesuree et utilisee de la meme maniere.
États désignés :
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)