WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Parcourir
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO1979000900) MODELE A FAIBLE DENSITE DANS UN CACHE PHOTOGRAPHIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/1979/000900    N° de la demande internationale :    PCT/US1979/000191
Date de publication : 15.11.1979 Date de dépôt international : 26.03.1979
CIB :
H01J 37/317 (2006.01)
Déposants :
Inventeurs :
Données relatives à la priorité :
894420 07.04.1978 US
Titre (EN) LOW-DENSITY PATTERN IN A PHOTORESIST
(FR) MODELE A FAIBLE DENSITE DANS UN CACHE PHOTOGRAPHIQUE
Abrégé : front page image
(EN)By modifying the raster scanning mode of operation of an electron beam exposure system, it is practicable to directly define low density features (100-102) in a relatively insensitive positive photoresist (10) that exhibits high resolution and good processing characteristics. As a result, it is feasible to utilize such a system as an adjunct in what is otherwise a photolithographic fabrication process to define certain critical features of a micro-miniature device.
(FR)En modifiant le mode d"exploration a trame du fonctionnement d"un systeme d"exposition a faisceau electronique, il est possible de definir directement les zones caracteristiques de faible densite (100-102) dans un cache photographique positif relativement insensible (10) qui possede une grande resolution et de bonnes caracteristiques de traitement. Il en resulte qu"un tel systeme peut etre utilise comme complement dans ce qui constituerait autrement un procede de fabrication photolitographique pour definir certaines caracteristiques critiques d"un dispositif microminiature.
États désignés :
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)