Traitement en cours

Veuillez attendre...

Paramétrages

Paramétrages

Aller à Demande

1. TH149304 - HYDROPHOBIC GLAZING

Office
Thaïlande
Numéro de la demande 1401002640
Date de la demande 14.11.2012
Numéro de publication 149304
Date de publication 26.04.2016
Type de publication A
CIB
C03C 17/42
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
03VERRE; LAINE MINÉRALE OU DE SCORIES
CCOMPOSITION CHIMIQUE DES VERRES, GLAÇURES OU ÉMAUX VITREUX; TRAITEMENT DE LA SURFACE DU VERRE; TRAITEMENT DE SURFACE DES FIBRES OU FILAMENTS DE VERRE, DE SUBSTANCES MINÉRALES OU DE SCORIES; LIAISON DU VERRE AU VERRE OU À D'AUTRES MATÉRIAUX
17Traitement de surface du verre, p.ex. du verre dévitrifié, autre que sous forme de fibres ou de filaments, par revêtement
34avec au moins deux revêtements ayant des compositions différentes
42un revêtement au moins étant une substance organique et un revêtement au moins étant un non-métal
Déposants แซ็งต์-กอแบ็ง กลาสส์ ฟรานซ์
Inventeurs อุยญาร์ด, อาร์โนด
เมลเชอร์, มาร์ติน
ธูมาเซ็ท, แคลร์
ลันเต, ราฟีล
Mandataires นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์, นางสาวปรับโยชน์ ศรีกิจจาภรณ์, นายบุญมา เตชะวณิช, นายต่อพงศ์ โทณะวณิก
Données relatives à la priorité PCT/FR2012/052621 14.11.2012 -
1160419 16.11.2011 FR
Titre
(EN) HYDROPHOBIC GLAZING
(TH) สิ่งเคลือบกระจกแบบไม่ชอบรับน้ำ
Abrégé
(EN) The invention relates to a method for manufacturing a hydrophobic glazing comprising the following consecutive steps: (a) formation of a layer of carbon-rich silicon oxycarbide (SiOCxC) at the surface of a substrate made of mineral glass via chemical deposit in the vaporous phase (CVD) on at least one portion of the surface of said substrate whereby said surface is exposed to a flow of reactive gases containing ethylene (Cy) at the surface of a substrate made of mineral glass via chemical deposit in the vaporous phase (CVD) on at least one portion of the surface of said substrate whereby said surface is exposed to a flow of reactive gases containing ethylene (CH2H), silane (SiH4), silane (SiH), and carbon dioxide (CO4), and carbon dioxide (CO), at a temperature between 600°C and 680°C, the volume ratio of ethylene to silane (C2), at a temperature between 600°C and 680°C, the volume ratio of ethylene to silane (CH2H:SiH4:SiH) during step (a) being lesser than or equal to 3.3, (b) formation of a layer of SiO4) during step (a) being lesser than or equal to 3.3, (b) formation of a layer of SiO on the layer of silicon oxycarbide deposited in step (a), or (b') formation of a layer of silicon oxycarbide having low carbon content, presenting an average C:Si ratio lower than 0.2, (c) annealing and/or shaping of the substrate resulting from step (b) or (b'), at a temperature between 580°C and 700°C, (d) activation of the layer of silica formed in step (b) or activation of the layer of silicon oxycarbide formed in step (b') via plasma treatment or acid or basic chemical treatment, and (e) grafting, via covalent bond, of a fluorinated hydrophobe. The invention also relates to a hydrophobic glazing, preferably a windscreen, capable of being obtained by such a method.2 on the layer of silicon oxycarbide deposited in step (a), or (b') formation of a layer of silicon oxycarbide having low carbon content, presenting an average C:Si ratio lower than 0.2, (c) annealing and/or shaping of the substrate resulting from step (b) or (b'), at a temperature between 580°C and 700°C, (d) activation of the layer of silica formed in step (b) or activation of the layer of silicon oxycarbide formed in step (b') via plasma treatment or acid or basic chemical treatment, and (e) grafting, via covalent bond, of a fluorinated hydrophobe. The invention also relates to a hydrophobic glazing, preferably a windscreen, capable of being obtained by such a method.
(TH)      การประดิษฐ์จะเกี่ยวข้องกับกระบวนการสำหรับการผลิตสิ่งเคลือบที่ไม่ชอบรับน้ำที่ประกอบรวมด้วยขั้นตอนต่อเนื่องดังต่อไปนี้:     (a)การก่อรูปของชั้นซิลิกอนออกซีคาร์ไบด์ที่มีคาร์บอนในปริมาณมาก(SiOxCy)ที่พื้นผิว                  ของซับสเทรทที่ทำมาจากกระจกแร่โดยการตกพอกพูนของไอทางเคมี(CVD)บนอย่าง                  น้อยที่สุดส่วนหนึ่งของพื้นผิวของซับสเทรทดังกล่าวโดยการนำพื้นผิวดังกล่าวไปสัมผัส                  กับกระแสของแก๊สที่เกิดปฏิกิริยาที่ประกอบรวมด้วยเอทิลีน(C2,H4),ไซเลน (SiH4) และ                  คาร์บอนไดออกไซด์(CO2)ที่อุณหภูมิระหว่าง 600 องศาเซลเซียส และ 680 องศา                  เซลเซียส,อัตราส่วนโดยปริมาตรของเอทิลิน/ไซเลน (C2H2/SiH4)ในระหว่างขั้นตอน (a)        ที่น้อยกว่าหรือเท่ากับ 3.3     (b)การก่อรูปของชั้น SiO2 บนชั้นซิลิกอนออกซีคาร์ไบด์ที่ตกพอกพูนในขั้นตอน(a)หรือ                 (b')การก่อรูปของชั้นซิลิกอนออกซีคาร์ไบด์ที่มีคาร์บอนในปริมาณน้อยที่มีอัตราส่วน                  C/Si เฉลี่ยน้อยกว่า 0.2,     (c)การอบเหนียวและ/หรือการขึ้นรูปซับสเทรทที่ได้มาตามการสรุปของขั้นตอน(b)หรือ                 (b')ที่มีอุณหภูมิระหว่าง 580 องศาเซลเซียส และ 700 องศาเซลเซียส,     (d)การกระตุ้นชั้นซิลิกาที่ได้รับการก่อรูปในขั้นตอน(b)หรือชั้นซิลิกอนออกซีคาร์ไบด์ที่                 ได้รับการก่อรูปในขั้นตอน(b')โดยการปฏิบัติด้วยพลาสมาหรือการปฏิบัติด้วยสารเคมี                  ที่เป็นกรดหรือที่เป็นเบส และ           (e)การเชื่อมติด,โดยการเกิดพันธะโควาเลนท์,ตัวกระทำการที่ไม่ชอบรับน้ำที่ผ่านการ                 ฟลูโอริเนท            การประดิษฐ์ยังเกี่ยวข้องอีกด้วยกับสิ่งเคลือบที่ไม่ชอบรับน้ำ,ถ้าจะให้ดีแล้วเป็นกระจกบังลมหน้า,ที่สามารถถูกทำให้ได้มาโดยกระบวนการดังกล่าว