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1. KR1020210114487 - 시뮬레이션 방법, 시뮬레이션 장치 및 프로그램

Office
République de Corée
Numéro de la demande 1020217025789
Date de la demande 28.01.2020
Numéro de publication 1020210114487
Date de publication 23.09.2021
Type de publication A
CIB
G03F 7/00
GPHYSIQUE
03PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
FPRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
G06F 113/08
GPHYSIQUE
06CALCUL; COMPTAGE
FTRAITEMENT ÉLECTRIQUE DE DONNÉES NUMÉRIQUES
113Détails concernant le champ d’application
08Fluides
G06F 119/14
GPHYSIQUE
06CALCUL; COMPTAGE
FTRAITEMENT ÉLECTRIQUE DE DONNÉES NUMÉRIQUES
119Détails concernant le type ou l’utilisation de l’analyse ou de l’optimisation
14Analyse des forces ou optimisation des forces, p.ex. forces statiques ou dynamiques
G06F 30/20
GPHYSIQUE
06CALCUL; COMPTAGE
FTRAITEMENT ÉLECTRIQUE DE DONNÉES NUMÉRIQUES
30Conception assistée par ordinateur
20Optimisation, vérification ou simulation de l’objet conçu
CPC
G03F 7/0002
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
0002Lithographic processes using patterning methods other than those involving the exposure to radiation, e.g. by stamping
G06F 30/20
GPHYSICS
06COMPUTING; CALCULATING; COUNTING
FELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
30Computer-aided design [CAD]
20Design optimisation, verification or simulation
G06F 2113/08
GPHYSICS
06COMPUTING; CALCULATING; COUNTING
FELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
2113Details relating to the application field
08Fluids
G06F 2119/14
GPHYSICS
06COMPUTING; CALCULATING; COUNTING
FELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
2119Details relating to the type or aim of the analysis or the optimisation
14Force analysis or force optimisation, e.g. static or dynamic forces
Déposants 캐논 가부시끼가이샤
Inventeurs 아사노 도시야
세키 준이치
오구치 유이치로
Mandataires 장수길
이중희
Données relatives à la priorité JP-P-2019-014483 30.01.2019 JP
2020003952 14.01.2020 JP
Titre
(KO) 시뮬레이션 방법, 시뮬레이션 장치 및 프로그램
Abrégé
(KO) 제1 부재 위에 배치된 경화성 조성물의 복수의 액적과 제2 부재를 접촉시켜, 상기 제1 부재 위에 상기 경화성 조성물의 막을 형성하는 처리에 있어서의 상기 경화성 조성물의 거동을 예측하는 시뮬레이션 방법이 개시된다. 이 시뮬레이션 방법에서는, 상기 경화성 조성물의 복수의 액적이 하나의 계산 요소에 수렴되도록 복수의 계산 요소를 포함하는 계산 격자를 정의하고, 각 계산 요소 내에 있어서의 상기 경화성 조성물의 거동을, 각 계산 요소 내에 있어서의 상기 경화성 조성물의 상태에 따른 모델에 따라 구한다.