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1. (KR1020180021725) 임프린트 재료

Office : République de Corée
Numéro de la demande : 1020177037396 Date de la demande : 31.05.2016
Numéro de publication : 1020180021725 Date de publication : 05.03.2018
Type de publication : A
Référence PCT: Numéro de la demande : ; Numéro de publication :WO2017002506 Cliquer pour voir les données
CIB :
C08F 220/26
C08F 220/56
C08F 283/12
C08F 290/06
G03F 7/00
H01L 21/027
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
08
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES ORGANIQUES; LEUR PRÉPARATION OU LEUR MISE EN UVRE CHIMIQUE; COMPOSITIONS À BASE DE COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
F
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES OBTENUS PAR DES RÉACTIONS FAISANT INTERVENIR UNIQUEMENT DES LIAISONS NON SATURÉES CARBONE-CARBONE
220
Copolymères de composés contenant un ou plusieurs radicaux aliphatiques non saturés, chaque radical ne contenant qu'une seule liaison double carbone-carbone et un seul étant terminé par un seul radical carboxyle ou un sel, anhydride, ester, amide, imide ou nitrile
02
Acides monocarboxyliques contenant moins de dix atomes de carbone; Leurs dérivés
10
Esters
26
Esters contenant de l'oxygène en plus de l'oxygène de la fonction carboxyle
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
08
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES ORGANIQUES; LEUR PRÉPARATION OU LEUR MISE EN UVRE CHIMIQUE; COMPOSITIONS À BASE DE COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
F
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES OBTENUS PAR DES RÉACTIONS FAISANT INTERVENIR UNIQUEMENT DES LIAISONS NON SATURÉES CARBONE-CARBONE
220
Copolymères de composés contenant un ou plusieurs radicaux aliphatiques non saturés, chaque radical ne contenant qu'une seule liaison double carbone-carbone et un seul étant terminé par un seul radical carboxyle ou un sel, anhydride, ester, amide, imide ou nitrile
02
Acides monocarboxyliques contenant moins de dix atomes de carbone; Leurs dérivés
52
Amides ou imides
54
Amides
56
Acrylamide; Méthacrylamide
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
08
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES ORGANIQUES; LEUR PRÉPARATION OU LEUR MISE EN UVRE CHIMIQUE; COMPOSITIONS À BASE DE COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
F
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES OBTENUS PAR DES RÉACTIONS FAISANT INTERVENIR UNIQUEMENT DES LIAISONS NON SATURÉES CARBONE-CARBONE
283
Composés macromoléculaires obtenus par polymérisation de monomères sur des polymères prévus par la sous-classe C08G129
12
sur des polysiloxanes
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
08
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES ORGANIQUES; LEUR PRÉPARATION OU LEUR MISE EN UVRE CHIMIQUE; COMPOSITIONS À BASE DE COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
F
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES OBTENUS PAR DES RÉACTIONS FAISANT INTERVENIR UNIQUEMENT DES LIAISONS NON SATURÉES CARBONE-CARBONE
290
Composés macromoléculaires obtenus par polymérisation de monomères sur des polymères modifiés par introduction de groupes aliphatiques non saturés terminaux ou latéraux
02
sur des polymères modifiés par introduction de groupes non saturés terminaux
06
Polymères prévus par la sous-classe C08G54
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
L
DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
21
Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de dispositifs à semi-conducteurs ou de dispositifs à l'état solide, ou bien de leurs parties constitutives
02
Fabrication ou traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou de leurs parties constitutives
027
Fabrication de masques sur des corps semi-conducteurs pour traitement photolithographique ultérieur, non prévue dans le groupe H01L21/18 ou H01L21/34187
Déposants : 닛산 가가쿠 고교 가부시키 가이샤
Inventeurs : 코바야시, 준페이
카토, 타쿠
슈토, 케이스케
스즈키, 마사요시
Mandataires : 특허법인씨엔에스
Données relatives à la priorité : JP-P-2015-129861 29.06.2015 JP
Titre : (KO) 임프린트 재료
Abrégé :
(KO) [과제] 신규한 임프린트 재료를 제공하는 것이다. [해결수단] 하기 (A)성분, (B)성분, (C)성분 및 (D)성분을 함유하는 임프린트 재료. (A)하기 식(1)로 표시되는 화합물 (B)하기 식(2)로 표시되는 화합물 (C)하기 식(3)으로 표시되는 화합물 (D)광중합개시제 (식 중, R은 각각 독립적으로 수소원자 또는 메틸기를 나타내고, R는 치환기로서 하이드록시기를 가질 수도 있는 탄소원자수 1 내지 5의 탄화수소기를 나타내고, m은 2 또는 3을 나타내고, X는 에틸렌옥사이드유닛 및/또는 프로필렌옥사이드유닛을 갖는 2가의 연결기를 나타내고, R은 수소원자 또는 탄소원자수 1 내지 3의 알킬기를 나타내고, n은 1 또는 2를 나타내고, n이 1을 나타내는 경우, R는, 적어도 하나의 치환기로 치환되어 있을 수도 있는, 탄소원자수 1 내지 12의 알킬기를 나타내고, n이 2를 나타내는 경우, R는, 적어도 하나의 치환기로 치환되어 있을 수도 있는, 탄소원자수 1 내지 12의 알킬렌기를 나타낸다.) TIFF pct00011.tif 150 139 1 2 3 4 4
Également publié sous:
CN107710385JPWO2017002506US20180180999WO/2017/002506