(KO) 대사이즈의 영역을 노광하는 대형의 포토마스크로, 미세한 패턴을 형성하기에 적합한 구성의 위상 시프트 마스크 및 그 제조 방법을 제공한다. 차광막은 크롬 또는 크롬 화합물을 주성분으로 하고, 위상 시프트막은 산화크롬 또는 산화질화크롬을 주성분으로 하고, 상기 차광 영역에서는 차광막 상에 위상 시프트막이 적층되어 있는 구성으로 함으로써, 제조가 용이하고 미세한 패턴을 전사 가능한 대형 위상 시프트 마스크를 얻었다. 또한, 차광막과 위상 시프트막의 사이에 크롬 화합물로 이루어지는 반사 방지막을 또한 갖는 구성으로서 차광 영역의 반사율을 억제하였다.