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1. KR1020100102616 - 기판의 오염물을 제어하기 위한 방법 및 장치

Office République de Corée
Numéro de la demande 1020107013791
Date de la demande 18.12.2008
Numéro de publication 1020100102616
Date de publication 24.09.2010
Type de publication A
CIB
H01L 21/673
HÉLECTRICITÉ
01ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
LDISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
21Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de dispositifs à semi-conducteurs ou de dispositifs à l'état solide, ou bien de leurs parties constitutives
67Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitement; Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants
673utilisant des supports spécialement adaptés
CPC
H01L 21/67769
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
LSEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
21Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
677for conveying, e.g. between different workstations
67763the wafers being stored in a carrier, involving loading and unloading
67769Storage means
H01L 21/67017
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
LSEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
21Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
67011Apparatus for manufacture or treatment
67017Apparatus for fluid treatment
Déposants 인티그리스, 인코포레이티드
Inventeurs 키시코비치 올레그 피.
할브메이어 데이비드 엘.
그레이퍼 아나톨리
Mandataires 김경희
Données relatives à la priorité 61/014,709 18.12.2007 US
Titre
(KO) 기판의 오염물을 제어하기 위한 방법 및 장치
Abrégé
(KO)
폴리머로 형성된 기판 용기 내부를 매우 건조한 환경으로 유지하기 위한 구성요소, 시스템, 및 방법은, 상기 용기의 폴리머 벽을 통한 수분과 산소의 침투를 최소화하고, 상기 용기의 폴리머 벽들에 갇힌 수분을 탈착하기 위해 기판 용기 내부에 추가적인 외부 가스 세정을 제공한다.

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