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Paramétrages

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1. JP2021002666 - ELECTROSTATIC CHUCK FOR HIGH TEMPERATURE RF APPLICATION

Office
Japon
Numéro de la demande 2020146736
Date de la demande 01.09.2020
Numéro de publication 2021002666
Date de publication 07.01.2021
Type de publication A
CPC
H01L 21/6833
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
LSEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
21Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
683for supporting or gripping
6831using electrostatic chucks
6833Details of electrostatic chucks
H02N 13/00
HELECTRICITY
02GENERATION; CONVERSION OR DISTRIBUTION OF ELECTRIC POWER
NELECTRIC MACHINES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
13Clutches or holding devices using electrostatic attraction, e.g. using Johnson-Rahbek effect
B23Q 3/15
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
QDETAILS, COMPONENTS, OR ACCESSORIES FOR MACHINE TOOLS, e.g. ARRANGEMENTS FOR COPYING OR CONTROLLING
3Devices holding, supporting, or positioning work or tools, of a kind normally removable from the machine
15Devices for holding work using magnetic or electric force acting directly on the work
Déposants APPLIED MATERIALS INC
アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド
Inventeurs RYAN HANSON
ハンソン リャン
MANJUNATHA KOPPA
コッパ マンジュナサ
VIJAY D PARKHE
パーケ ヴィジェイ ディー
JOHN C FORSTER
フォースター ジョン シー
KEITH A MILLER
ミラー キース エイ
Mandataires 田中 伸一郎
須田 洋之
大塚 文昭
西島 孝喜
上杉 浩
近藤 直樹
那須 威夫
Données relatives à la priorité 14962446 08.12.2015 US
62/090,858 11.12.2014 US
Titre
(EN) ELECTROSTATIC CHUCK FOR HIGH TEMPERATURE RF APPLICATION
(JA) 高温RF用途のための静電チャック
Abrégé
(EN)

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an improved electrostatic chuck to eliminate or reduce problems associated with high temperature/high power PVD processes.

SOLUTION: An electrostatic chuck 150 includes: a puck 202 having a support surface to support a substrate S when disposed thereon and an opposing second surface, wherein one or more embedded type chucking electrodes 204, 206 are embedded in the puck; a body 203 having a support surface coupled to the second surface of the puck to support the puck; a DC voltage sensing circuit 214 disposed on the support surface of the puck; and an inductor 216 disposed in the body and proximate to the support surface of the body. The inductor is electrically coupled to DC voltage sensing circuit and filters a high frequency current flow in order to accurately measure DC potential on the substrate.

SELECTED DRAWING: Figure 2

COPYRIGHT: (C)2021,JPO&INPIT

(JA)

【課題】高温/高電力PVDプロセスに関連する問題を除去または軽減するための改善された静電チャックを提供する。
【解決手段】静電チャック150は、基板Sが上に配設されたとき基板を支持する支持表面と、反対の第2の表面を有し、1つまたは複数の埋込型チャック電極204、206が埋め込まれる、パック202と、パックを支持するためにパックの第2の表面に結合される支持表面を有する本体203と、パックの支持表面に配設されたDC電圧感知回路214と、本体に配設され、本体の支持表面に隣接するインダクタ216と、を有する。インダクタは、DC電圧感知回路に電気的に結合され、基板のDC電位を正確に測定するために高周波電流流れをフィルタ処理する。
【選択図】図2