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Paramétrages

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1. JP2004330056 - FILTER CARTRIDGE FOR ELECTRONIC ELEMENT SUBSTRATE SURFACE TREATMENT LIQUID

Office Japon
Numéro de la demande 2003128579
Date de la demande 07.05.2003
Numéro de publication 2004330056
Date de publication 25.11.2004
Type de publication A
CIB
B01J 45/00
BTECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
01PROCÉDÉS OU APPAREILS PHYSIQUES OU CHIMIQUES EN GÉNÉRAL
JPROCÉDÉS CHIMIQUES OU PHYSIQUES, p.ex. CATALYSE OU CHIMIE DES COLLOÏDES; APPAREILLAGE APPROPRIÉ
45Echange d'ions dans lequel se forme un complexe ou un chélate; Utilisation d'une substance comme échangeur d'ions formant des complexes ou des chélates; Traitement d'une substance en vue d'améliorer ses propriétés d'échange d'ions formant des complexes ou des chélates
B01J 47/12
BTECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
01PROCÉDÉS OU APPAREILS PHYSIQUES OU CHIMIQUES EN GÉNÉRAL
JPROCÉDÉS CHIMIQUES OU PHYSIQUES, p.ex. CATALYSE OU CHIMIE DES COLLOÏDES; APPAREILLAGE APPROPRIÉ
47Procédés d'échange d'ions en général; Appareillage à cet effet
12caractérisés par l'emploi d'une substance échangeur d'ions sous forme de rubans, de filaments, de fibres ou de feuilles, p.ex. sous forme de membranes
G03F 7/30
GPHYSIQUE
03PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
FPRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
26Traitement des matériaux photosensibles; Appareillages à cet effet
30Dépouillement selon l'image utilisant des moyens liquides
G03F 7/42
GPHYSIQUE
03PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
FPRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
26Traitement des matériaux photosensibles; Appareillages à cet effet
42Elimination des réserves ou agents à cet effet
H01L 21/304
HÉLECTRICITÉ
01ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
LDISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
21Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de dispositifs à semi-conducteurs ou de dispositifs à l'état solide, ou bien de leurs parties constitutives
02Fabrication ou traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou de leurs parties constitutives
04les dispositifs présentant au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface, p.ex. une jonction PN, une région d'appauvrissement, ou une région de concentration de porteurs de charges
18les dispositifs ayant des corps semi-conducteurs comprenant des éléments du groupe IV de la classification périodique, ou des composés AIIIBV, avec ou sans impuretés, p.ex. des matériaux de dopage
30Traitement des corps semi-conducteurs en utilisant des procédés ou des appareils non couverts par les groupes H01L21/20-H01L21/26162
302pour changer leurs caractéristiques physiques de surface ou leur forme, p.ex. gravure, polissage, découpage
304Traitement mécanique, p.ex. meulage, polissage, coupe
CPC
B01D 67/0093
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
DSEPARATION
67Processes specially adapted for manufacturing semi-permeable membranes for separation processes or apparatus
0081After-treatment of organic or inorganic membranes
0093Chemical modification
B01D 61/00
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
DSEPARATION
61Processes of separation using semi-permeable membranes, e.g. dialysis, osmosis, ultrafiltration; Apparatus, accessories or auxiliary operations specially adapted therefor
B01D 2323/30
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
DSEPARATION
2323Details relating to membrane preparation
30Cross-linking
B01D 2323/38
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
DSEPARATION
2323Details relating to membrane preparation
38Graft polymerization
B01J 43/00
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
43Amphoteric ion-exchange, i.e. using ion-exchangers having cationic and anionic groups; Use of material as amphoteric ion-exchangers; Treatment of material for improving their amphoteric ion-exchange properties
B01J 45/00
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
45Ion-exchange in which a complex or a chelate is formed; Use of material as complex or chelate forming ion-exchangers; Treatment of material for improving the complex or chelate forming ion-exchange properties
Déposants EBARA CORP
株式会社荏原製作所
NIPPON MYKROLIS KK
日本インテグリス株式会社
Inventeurs KOMATSU MAKOTO
小松 誠
FUJIWARA KUNIO
藤原 邦夫
HASHIMOTO YUKIO
橋本 幸雄
Mandataires 社本 一夫
栗田 忠彦
桜井 周矩
村上 清
細川 伸哉
小磯 貴子
Titre
(EN) FILTER CARTRIDGE FOR ELECTRONIC ELEMENT SUBSTRATE SURFACE TREATMENT LIQUID
(JA) 電子素子基板表面処理液用フィルターカートリッジ
Abrégé
(EN)

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a filter cartridge preferably usable for refining an electronic element substrate surface treatment liquid to be used in semiconductor industries, particularly a liquid containing a basic compound such as an amine or ammonium salt and hydrofluoric acid (HF) as components.

SOLUTION: The filter cartridge to be used for removing metal impurities from a chemical liquid by treating the chemical liquid for electronic element substrate surface treatment incorporates a filter material into which functional groups fitted with the existence state of the object metal impurities to be removed are introduced depending on the types of the constituent components of the chemical liquid, the object to be treated, and metal impurities to be removed.

COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

(JA)

【課題】半導体産業において使用される電子素子基板表面処理用の薬液、特にアミン、アンモニウム塩などの塩基性化合物やフッ酸(HF)などを構成成分として含む液の精製に好ましく利用することのできるフィルターカートリッジを提供する。
【解決手段】本発明にかかる電子素子基板表面処理用の薬液を処理して薬液中に含まれている金属不純物を除去するために用いるフィルターカートリッジは、処理対象の薬液の構成成分及び除去すべき金属不純物の種類に応じて、除去対象の金属不純物の存在形態に適合する官能基が導入されたフィルター材料を組み込んだことを特徴とする。
【選択図】 なし

Également publié en tant que
US2007007196