Traitement en cours

Veuillez attendre...

Paramétrages

Paramétrages

Aller à Demande

1. ID2015/02758 - HYDROPHOBIC GLAZING

Office
Indonésie
Numéro de la demande P00201402860
Date de la demande 14.11.2012
Numéro de publication 2015/02758
Date de publication 26.06.2015
Type de publication A
CIB
C03C 17/42
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
03VERRE; LAINE MINÉRALE OU DE SCORIES
CCOMPOSITION CHIMIQUE DES VERRES, GLAÇURES OU ÉMAUX VITREUX; TRAITEMENT DE LA SURFACE DU VERRE; TRAITEMENT DE SURFACE DES FIBRES OU FILAMENTS DE VERRE, DE SUBSTANCES MINÉRALES OU DE SCORIES; LIAISON DU VERRE AU VERRE OU À D'AUTRES MATÉRIAUX
17Traitement de surface du verre, p.ex. du verre dévitrifié, autre que sous forme de fibres ou de filaments, par revêtement
34avec au moins deux revêtements ayant des compositions différentes
42un revêtement au moins étant une substance organique et un revêtement au moins étant un non-métal
Déposants SAINT-GOBAIN GLASS FRANCE
Inventeurs THOUMAZET, Claire
MELCHER, Martin
HUIGNARD, Arnaud
LANTE, Raphael
Mandataires Ir. Migni Myriasandra, MIP, MSEL
Titre
(EN) HYDROPHOBIC GLAZING
(ID) PENGGLASIRAN HIDROFOBIK
Abrégé
(EN)

The invention relates to a method for manufacturing a hydrophobic glazing comprising the following consecutive steps: (a) formation of a layer of carbon-rich silicon oxycarbide (SiO


(ID)

Invensi ini berhubungan dengan proses untuk pembuatan glasir hidrofobik yang mencakup tahap-tahap berurutan berikut: (a) pembentukan lapisan silikon oksikarbida (SiOxCy) kaya karbon pada permukaan substrat yang terbuat dari kaca mineral secara deposisi uap kimia (CVD) di atas sekurang-kurangnya sebagian dari permukaan substrat dengan mengontakkan permukaan dengan aliran gas reaktif yang terdiri dari etilena (C2H4) , silan (SiH4) dan karbon dioksida (C02) pada suhu dari antara 600°C dan 680°C, perbandingan etilena/silan (C2H4/SiH4) berdasarkan volume selama tahap (a) kurang dari atau sama dengan 3,3, (b) pembentukan lapisan SiC>2 pada lapisan silikon oksikarbida yang dideposisi pada tahap (a) atau (b') pembentukan lapisan silikon oksikarbida miskin karbon 20 yang menunjukkan perbandingan menengah C/Si sebesar kurang dari 0,2, (c) penyepuhlindapan dan/atau member! bentuk substrat yang diperoleh pada penutupan tahap (b) atau (b' ) pada suhu dari antara 580°C dan 700°C, (d) aktivasi lapisan silika, yang dibentuk pada tahap (b) , atau lapisan silikon oksikarbida, yang dibentuk pada tahap (b'), dengan perlakuan plasma atau perlakuan kimia bersifat basa atau bersifat asam, dan (e) pencangkokan, secara pengikatan kovalen, zat hidrofobik 30 terfluorinasi. Invensi juga berhubungan dengan pengglasiran hidrofobik, disukai kaca depan mobil, dapat diperoleh dengan proses tersebut.