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1. EP0993627 - DISPOSITIF PERMETTANT DE TRANSFERER DES STRUCTURES

Office Office européen des brevets (OEB)
Numéro de la demande 98942489
Date de la demande 02.07.1998
Numéro de publication 0993627
Date de publication 19.04.2000
Type de publication B1
CIB
B82B 1/00
BTECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
82NANOTECHNOLOGIE
BNANOSTRUCTURES FORMÉES PAR MANIPULATION D’ATOMES, DE MOLÉCULES OU D’ENSEMBLES LIMITÉS D’ATOMES OU DE MOLÉCULES UN À UN COMME DES UNITÉS INDIVIDUELLES; LEUR FABRICATION OU LEUR TRAITEMENT
1Nanostructures formées par manipulation d’atomes ou de molécules, ou d’ensembles limités d’atomes ou de molécules un à un comme des unités individuelles
G03F 1/00
GPHYSIQUE
03PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
FPRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
1Originaux pour la production par voie photomécanique de surfaces texturées, p.ex. masques, photomasques ou réticules; Masques vierges ou pellicules à cet effet; Réceptacles spécialement adaptés à ces originaux; Leur préparation
G03F 1/14
GPHYSIQUE
03PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
FPRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
1Originaux pour la production par voie photomécanique de surfaces texturées, p.ex. masques, photomasques ou réticules; Masques vierges ou pellicules à cet effet; Réceptacles spécialement adaptés à ces originaux; Leur préparation
14Originaux caractérisés par des détails de structure, p.ex. supports, couches de recouvrement, anneaux pelliculaires
G03F 7/20
GPHYSIQUE
03PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
FPRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
20Exposition; Appareillages à cet effet
H01L 21/027
HÉLECTRICITÉ
01ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
LDISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
21Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de dispositifs à semi-conducteurs ou de dispositifs à l'état solide, ou bien de leurs parties constitutives
02Fabrication ou traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou de leurs parties constitutives
027Fabrication de masques sur des corps semi-conducteurs pour traitement photolithographique ultérieur, non prévue dans le groupe H01L21/18 ou H01L21/34187
CPC
G03F 7/20
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
20Exposure; Apparatus therefor
Déposants INFINEON TECHNOLOGIES AG
Inventeurs RUF ALEXANDER
États désignés
Données relatives à la priorité 19728662 04.07.1997 DE
9801834 02.07.1998 DE
Titre
(DE) ANORDNUNG ZUR ÜBERTRAGUNG VON STRUKTUREN
(EN) DEVICE FOR TRANSFERRING STRUCTURES
(FR) DISPOSITIF PERMETTANT DE TRANSFERER DES STRUCTURES
Abrégé
(DE)
Die vorliegende Erfindung betrifft eine Anordnung zur Übertragung von Strukturen auf eine zu strukturierende Schicht. Die erfindungsgemäße Anordnung ist dadurch gekennzeichnet, daß ein Basiselement (3) und zumindest eine von dem Basiselement (3) vorstehende strahlungsleitende Struktur (12) vorgesehen sind, die eine Strahlung zu einer von dem Basiselement (3) abgewandten Austrittsapertur (8) führt und die in ihrer Form der zu übertragenden Struktur angepaßt ist.

(EN)
The present invention relates to a device for transferring structures onto a layer to be structured. The device provided for in the invention is characterized in that it comprises a base element (3) and at least one beam-guiding structure (12) projecting from said base element (3). Said structure guides a beam to an outlet opening (8) facing away from the base element (3) and has a shape which is adapted to fit the structure to be transferred.

(FR)
L'invention concerne un dispositif permettant de transférer des structures sur une couche à structurer. Le dispositif est caractérisé par le fait qu'il comprend un élément de base (3) et au moins une structure (12) guident le faisceau, disposée sur l'élément de base (3), qui achemine un faisceau jusqu'à un orifice de sortie (8) opposé à l'élément de base (3) et dont la forme est adaptée à la structure à transférer.

Également publié en tant que