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Paramétrages

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1. CN101547861 - Silica-coated metal oxide sols having variable metal oxide to silica ration

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权利要求书

1.一种富金属硅质组合物,其包括金属氧化物分散体和硅质材料,所 述金属氧化物分散体包括一种或多种金属氧化物,所述硅质材料包括一种 或多种胶态二氧化硅颗粒,其中所述金属氧化物分散体的至少一部分被涂 覆有所述硅质材料。

2.如权利要求1所述的富金属硅质组合物,其中所述金属氧化物分散 体的至少一部分被涂覆有一种或多种胶态二氧化硅颗粒。

3.如权利要求1所述的富金属硅质组合物,其中所述金属氧化物分散 体的至少一部分被完全涂覆有至少一层所述硅质材料。

4.如权利要求1所述的富金属硅质组合物,其中所述金属氧化物分散 体包括多种不同的金属氧化物。

5.如权利要求1所述的富金属硅质组合物,其中所述金属氧化物分散 体是基于二氧化硅的约0.01重量百分比到约99.99重量百分比。

6.如权利要求1所述的富金属硅质组合物,其中所述硅质材料包括具 有分子式[SiO X (OH) 4-2X ] N 的硅酸单体,其中X是0到约4,且N是1到 约16。

7.如权利要求7所述的富金属硅质组合物,其包括一种或多种胶态二 氧化硅纳米微粒,所述胶态二氧化硅纳米微粒由所述硅酸单体组成且具有 约2纳米到约1000纳米的直径。

8.如权利要求1所述的富金属硅质组合物,其中所述硅质材料的至少 一部分具有内部体积且所述金属氧化物分散体的至少一部分完全置于所 述内部体积内。

9.如权利要求1所述的富金属硅质组合物,其中所述金属氧化物分散 体包括选自由下述金属组成的组中的金属:碱金属、碱土金属、第一行过 渡金属、第二行过渡金属、镧系元素及其组合。

10.如权利要求1所述的富金属硅质组合物,其中所述金属氧化物具 有式MN+O A (OH) B ,其中M包括碱金属、碱土金属、第一行过渡金属、 第二行过渡金属或镧系元素;“N”是1到约4;“A”是1到约3;以及“B” 是0到约3。

11.如权利要求1所述的富金属硅质组合物,其中所述金属氧化物分 散体包括氧化铝、氧化铝氢氧化物或勃姆石晶体。

12.如权利要求1所述的富金属硅质组合物,其中所述金属氧化物分 散体包括熔融氧化锆。

13.一种材料,其用于工业应用中,所述材料包括权利要求1所述的 富金属硅质组合物。

14.如权利要求15所述的材料,其中所述工业应用选自由以下应用组 成的组:牙科应用、蛋白质分离方法、分子筛、纳米多孔膜、波导管、光 子晶体、耐火材料应用、酒和汁液的澄清、半导体和磁盘驱动器部件的化 学机械平坦化、催化剂载体、造纸中的助留剂和助滤剂、填料、表面涂层、 陶瓷材料、熔模铸造粘合剂、平光剂、支撑剂、化妆品制剂以及抛光研磨 剂。

15.一种控制包括富金属硅质材料的组合物中的金属氧化物对二氧化 硅之比的方法,所述方法包括:
(a)制备硅酸、金属氧化物分散体和碱性尾料溶液;
(b)混合已知比例的所述硅酸和所述金属氧化物分散体以形成共混 物;
(c)将所述共混物与所述碱性尾料溶液混合以形成一种或多种涂覆有 胶态二氧化硅的金属氧化物颗粒,所述涂覆有胶态二氧化硅的金属氧化物 颗粒具有可调整的二氧化硅对金属之比,所述比取决于所述已知比例;以 及
(d)任选地,进一步处理包括所述涂覆有胶态二氧化硅的金属氧化 物颗粒的所述组合物。

16.如权利要求17所述的方法,其包括用离子交换树脂将硅酸钠去离 子以产生所述硅酸。

17.如权利要求17所述的方法,其中所述碱性尾料溶液包括选自由下 述碱组成的组中的碱:氢氧化钠、氢氧化锂、氢氧化钾、氢氧化铵、伯胺、 仲胺、叔胺、季胺、季化合物及其组合。

18.如权利要求17所述的方法,其包括以受控的速率使所述共混物与 所述碱性尾料溶液混合以形成所述涂覆有胶态二氧化硅的金属氧化物颗 粒。

19.如权利要求1所述的方法,其中进一步处理所述组合物包括选自 由以下工艺组成的组中的一种或多种工艺:超滤、去离子作用、加热以及 表面官能化。

20.如权利要求17所述的方法,其包括形成一种或多种涂覆有胶态二 氧化硅的金属氧化物颗粒,所述涂覆有胶态二氧化硅的金属氧化物颗粒具 有基于二氧化硅的约0.01重量百分比到约99.99重量百分比的金属氧化物 含量。