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1. CN109524575 - Method for fabricating OLED display panel and OLED display panel

Office Chine
Numéro de la demande 201811483050.4
Date de la demande 05.12.2018
Numéro de publication 109524575
Date de publication 26.03.2019
Type de publication A
CIB
H01L 51/56
HÉLECTRICITÉ
01ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
LDISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
51Dispositifs à l'état solide qui utilisent des matériaux organiques comme partie active, ou qui utilisent comme partie active une combinaison de matériaux organiques et d'autres matériaux; Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de tels dispositifs ou de leurs parties constitutives
50spécialement adaptés pour l'émission de lumière, p.ex. diodes émettrices de lumière organiques (OLED) ou dispositifs émetteurs de lumière à base de polymères (PLED)
56Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de tels dispositifs ou de leurs parties constitutives
H01L 51/52
HÉLECTRICITÉ
01ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
LDISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
51Dispositifs à l'état solide qui utilisent des matériaux organiques comme partie active, ou qui utilisent comme partie active une combinaison de matériaux organiques et d'autres matériaux; Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de tels dispositifs ou de leurs parties constitutives
50spécialement adaptés pour l'émission de lumière, p.ex. diodes émettrices de lumière organiques (OLED) ou dispositifs émetteurs de lumière à base de polymères (PLED)
52Détails des dispositifs
CPC
H01L 51/5218
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
LSEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
51Solid state devices using organic materials as the active part, or using a combination of organic materials with other materials as the active part; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment of such devices, or of parts thereof
50specially adapted for light emission, e.g. organic light emitting diodes [OLED] or polymer light emitting devices [PLED]
52Details of devices
5203Electrodes
5206Anodes, i.e. with high work-function material
5218Reflective anodes, e.g. ITO combined with thick metallic layer
H01L 51/56
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
LSEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
51Solid state devices using organic materials as the active part, or using a combination of organic materials with other materials as the active part; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment of such devices, or of parts thereof
50specially adapted for light emission, e.g. organic light emitting diodes [OLED] or polymer light emitting devices [PLED]
56Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment of such devices or of parts thereof
Déposants WUHAN CHINA STAR OPTOELECTRONICS SEMICONDUCTOR DISPLAY TECHNOLOGY CO., LTD.
武汉华星光电半导体显示技术有限公司
Inventeurs LI ZHENSHI
李镇石
Mandataires 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300
Titre
(EN) Method for fabricating OLED display panel and OLED display panel
(ZH) OLED显示面板的制作方法及OLED显示面板
Abrégé
(EN)
A method for fabricating an OLED display panel comprises providing an array substrate including a base substrate and a thin film transistor array; forming a first ITO layer, a reflective layer, and asecond ITO layer on the array substrate, wherein the thickness of the second ITO layer is greater than the thickness of the first ITO layer; forming a patterned photoresist on the second ITO layer; etching the second ITO layer, the reflective layer, and the first ITO layer by the same etching process to form a patterned anode layer; and preparing an OLED light-emitting layer on the anode layer. The method prolongs the etching time of the top ITO film layer by increasing the thickness of the top ITO film layer, thereby avoiding influences on the metal surface at the lower layer caused by the absence of the photoresist during the etching process and ensuring the quality stability of products.

(ZH)
一种OLED显示面板的制作方法,包括:提供阵列基板,所述阵列基板包括衬底基板和薄膜晶体管阵列;在所述阵列基板上依次形成第一ITO层、反射层、第二ITO层,其中,所述第二ITO层的膜层厚度大于所述第一ITO层的膜层厚度;在所述第二ITO层上形成图案化的光刻胶;利用同一道刻蚀工艺对所述第二ITO层、反射层、第一ITO层进行刻蚀,以形成图案化的阳极层;在所述阳极层上制备OLED发光层。有益效果为本发明通过增加顶层ITO膜层的厚度,增加顶层ITO膜层的刻蚀时间,避免了在刻蚀过程中由于光刻胶的缺失,导致下层金属表面受到影响,进而保证了产品的品质稳定性。

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