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1. (CN107810548) THERMAL SHIELD FOR ELECTROSTATIC CHUCK

Office : Chine
Numéro de la demande : 201680038069.0 Date de la demande : 06.06.2016
Numéro de publication : 107810548 Date de publication : 16.03.2018
Type de publication : A
Référence PCT: Numéro de la demande :PCTUS2016036000 ; Numéro de publication : Cliquer pour voir les données
CIB :
H01L 21/67
H01L 21/683
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
L
DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
21
Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de dispositifs à semi-conducteurs ou de dispositifs à l'état solide, ou bien de leurs parties constitutives
67
Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitement; Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
L
DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
21
Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de dispositifs à semi-conducteurs ou de dispositifs à l'état solide, ou bien de leurs parties constitutives
67
Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitement; Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants
683
pour le maintien ou la préhension
Déposants : VARIAN SEMICONDUCTOR EQUIPMENT ASS INC
瓦里安半导体设备公司
Inventeurs : STONE DALE K
岱尔·K·史东
CHIPMAN DAVID J
大卫·J·奇普曼
Mandataires : 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205
北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205
Données relatives à la priorité : 62/186,068 29.06.2015 US
Titre : (EN) THERMAL SHIELD FOR ELECTROSTATIC CHUCK
(ZH) 用于静电卡盘的热屏蔽
Abrégé : front page image
(EN) A thermal shield is disclosed that may be disposed between a heated electrostatic chuck and a base. The thermal shield comprises a thermal insulator, such as a polyimide film, having a thickness of between 1 and 5 mils. The polyimide film is coated on one side with a layer of reflective material, such as aluminum. The layer of reflective material may be between 30 and 100 nanometers. The thermal shield is disposed such that the layer of reflective material is closer to the chuck. Because of the thinness of the layer of reflective material, the thermal shield does not retain a significant amount of heat. Further, the temperature of the thermal shield remains far below the glass transition temperature of the polyimide film.
(ZH) 本发明揭示可安置于加热的静电卡盘与基底之间的热屏蔽。热屏蔽包括具有在1密耳与5密耳之间的厚度的热绝缘体,例如聚酰亚胺膜。聚酰亚胺膜在一个侧上涂覆有反射材料层,例如铝。所述反射材料层可在30纳米与100纳米之间。热屏蔽安置成使得所述反射材料层更靠近卡盘。由于所述反射材料层较薄,所以热屏蔽不保持大量热。此外,热屏蔽的温度保持远低于聚酰亚胺膜的玻璃化转变温度。
Également publié sous:
KR1020180014437JP2018525812WO/2017/003646