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1. (CN107810288) SELF-LOCKING HOLDER FOR SUBSTRATES

Office : Chine
Numéro de la demande : 201580081234.6 Date de la demande : 01.07.2015
Numéro de publication : 107810288 Date de publication : 16.03.2018
Type de publication : A
Référence PCT: Numéro de la demande :PCTEP2015065011 ; Numéro de publication : Cliquer pour voir les données
CIB :
C23C 14/50
C23C 16/458
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
23
REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT CHIMIQUE DE SURFACE; TRAITEMENT DE DIFFUSION DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL; MOYENS POUR EMPÊCHER LA CORROSION DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES, L'ENTARTRAGE OU LES INCRUSTATIONS, EN GÉNÉRAL
C
REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT DE SURFACE DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES PAR DIFFUSION DANS LA SURFACE, PAR CONVERSION CHIMIQUE OU SUBSTITUTION; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL
14
Revêtement par évaporation sous vide, pulvérisation cathodique ou implantation d'ions du matériau composant le revêtement
22
caractérisé par le procédé de revêtement
50
Porte-substrat
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
23
REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT CHIMIQUE DE SURFACE; TRAITEMENT DE DIFFUSION DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL; MOYENS POUR EMPÊCHER LA CORROSION DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES, L'ENTARTRAGE OU LES INCRUSTATIONS, EN GÉNÉRAL
C
REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT DE SURFACE DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES PAR DIFFUSION DANS LA SURFACE, PAR CONVERSION CHIMIQUE OU SUBSTITUTION; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL
16
Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c. à d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur (CVD)
44
caractérisé par le procédé de revêtement
458
caractérisé par le procédé utilisé pour supporter les substrats dans la chambre de réaction
Déposants : APPLIED MATERIALS INC
应用材料公司
Inventeurs : BRUNING ANDRE
安德烈·布鲁宁
LINDENBERG RALPH
拉尔夫·林登贝格
Mandataires : 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006
北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006
Données relatives à la priorité :
Titre : (EN) SELF-LOCKING HOLDER FOR SUBSTRATES
(ZH) 用于基板的自锁保持器
Abrégé : front page image
(EN) A holder (200) configured to be attached to a carrier body (160) for holding a substrate (101) is described. The holder (200) includes a first portion (210) having a first inclined surface (212), thefirst portion (210) being configured to be attached to the carrier body (160), a second portion (220), the second portion (220) being configured to be movable relative to the first portion (210) in atleast one direction (X). The first inclined surface (212) is inclined with respect to a substrate (101) to be loaded by a first angle (alpha).
(ZH) 描述了经构造以附接到载体主体(160)以用于保持基板(101)的保持器(200)。保持器(200)包括具有第一倾斜表面(212)的第一部分(210),所述第一部分(210)经构造以附接到载体主体(160);第二部分(220),所述第二部分(220)经构造而在至少一个方向(X)上相对于第一部分(210)是可移动的。第一倾斜表面(212)相对于待加载的基板(101)以第一角度(α)倾斜。
Également publié sous:
KR1020180022989WO/2017/001010