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1. WO2020155893 - STRUCTURE DE TROU D'INTERCONNEXION ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION, DISPOSITIF ÉLECTRONIQUE ET DISPOSITIF D'AFFICHAGE


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INTERNATIONAL SEARCH REPORT (ISR)
Part 1:  1  2  3  4  5  6          Part 2:  A  B  C  D  E 
国际申请号 申请人或代理人的档案号
PCT/CN2019/125656 19SG1P5675
国际申请日 (年/月/日) (最早的)优先权日 (年/月/日)
2019年 12月 16日 2019年 1月 31日
申请人
京东方科技集团股份有限公司 等
关于后续行为: 见PCT/ISA/220表和 适用时,见下面第5项
按照条约第18条,本国际检索报告由本国际检索单位做出并送交申请人。报告副本送交国际局。
它还附有本报告所引用的各现有技术文件的副本。
1. 报告的基础
a. 关于语言,进行国际检索基于:
国际申请提交时使用的语言。
该国际申请的                                          语言译文,为了国际检索的目的提供该种语言的译文(细则12.3(a)和23.1(b))。
b.
本国际检索报告考虑了本单位许可或被通知的根据细则91所做出的明显错误更正(细则43.6之二(a))。
c.
关于国际申请中所公开的任何核苷酸和/或氨基酸序列,国际检索是基于下列序列表进行的:
2. 某些权利要求被认为是不能检索的
3. 缺乏发明的单一性
4. 发明名称
同意申请人提出的发明名称。
发明名称由本单位确定如下:
5. 摘要
同意申请人提出的摘要。
根据细则38.2(b),摘要由本单位制定,如第IV栏中所示。自本国际检索报告发文日起一个月内,申请人可以向本单位提出意见。

一种过孔结构及其制造方法、电子器件、显示装置,属于电子技术领域。所述过孔结构包括:依次设置的第一导电层(10)、层间绝缘层(20)和第二导电层(30),所述层间绝缘层(20)具有过孔(201),所述第二导电层(30)通过所述过孔(201)与所述第一导电层(10)搭接,所述层间绝缘层(20)与所述第二导电层(30)接触的至少部分表面为凹凸不平的表面。避免了第二导电层(30)位于过孔(201)内的部分脱落,从而避免了第二导电层(30)与第一导电层(10)出现搭接不良。用于导电层的搭接。


6. 附图
a.
随摘要一起公布的附图是:     1    
按照申请人建议的。
由本单位选择的,因为申请人没有建议一幅图。
由本单位选择的,因为该图能更好地表示发明的特征。
b.
没有与摘要一起公布的附图

A. 主题的分类

按照国际专利分类(IPC)或者同时按照国家分类和IPC两种分类

B. 检索领域

检索的最低限度文献(标明分类系统和分类号):
     H01L; H05K
包含在检索领域中的除最低限度文献以外的检索文献:
在国际检索时查阅的电子数据库(数据库的名称,和使用的检索词(如使用)):
CNPAT, WPI, CNKI, IEEE:孔,不平,粗化,粗糙,凹凸,剥离,脱落,绝缘层,介电层,hole, via, lift off, uneven, concavo, convex, rough+

C. 相关文件

类 型* 引用文件,必要时,指明相关段落 相关的权利要求
(1)
PX
CN 109801874 A (绵阳京东方光电科技有限公司 等) 2019年 5月 24日 (2019-05-24)
1-16
说明书第0042-0079段,图1-2
(2)
X
CN 102573280 A (日本特殊陶业株式会社) 2012年 7月 11日 (2012-07-11)
1-16
说明书第0069-0075段,图6-10
(3)
X
TW 200834869 A (新光电气工业股份有限公司) 2008年 8月 16日 (2008-08-16)
1-16
说明书第14页第3段-第19页倒数第1段,图6-17
(4)
X
CN 107887361 A (三星电机株式会社) 2018年 4月 6日 (2018-04-06)
1-16
说明书第0062-0132段,图15
(5)
X
US 2014292159 A1 (NGK CERAMIC DEVICE LTD.等) 2014年 10月 2日 (2014-10-02)
1-16
说明书第0035-0069段,图3-6
(6)
X
CN 109003944 A (京东方科技集团股份有限公司 成都京东方光电科技有限公司) 2018年 12月 14日 (2018-12-14)
1-16
说明书第0034-0070段,图2-9
*
引用文件的具体类型:
"A"
认为不特别相关的表示了现有技术一般状态的文件
"D"
申请人在国际申请中引证的文件
"E"
在国际申请日的当天或之后公布的在先申请或专利
"L"
可能对优先权要求构成怀疑的文件,或为确定另一篇引用文件的公布日而引用的或者因其他特殊理由而引用的文件(如具体说明的)
"O"
涉及口头公开、使用、展览或其他方式公开的文件
"P"
公布日先于国际申请日但迟于所要求的优先权日的文件
"T"
在申请日或优先权日之后公布,与申请不相抵触,但为了理解发明之理论或原理的在后文件
"X"
特别相关的文件,单独考虑该文件,认定要求保护的发明不是新颖的或不具有创造性
"Y"
特别相关的文件,当该文件与另一篇或者多篇该类文件结合并且这种结合对于本领域技术人员为显而易见时,要求保护的发明不具有创造性
"&"
同族专利的文件

D. 关于同族专利的信息

检索报告引用的专利文件 公布日
(年/月/日)
同族专利 公布日
(年/月/日)
CN 109801874 A
2019年 5月 24日
CN 102573280 A
2012年 7月 11日
KR 20120067968 A
KR 101475109 B1
JP 2012142559 A
US 8946906 B2
TW 201242452 A
JP 5855905 B2
US 2012153463 A1
TW I482542 B
CN 102573280 B
2012年 6月 26日
2014年 12月 22日
2012年 7月 26日
2015年 2月 3日
2012年 10月 16日
2016年 2月 9日
2012年 6月 21日
2015年 4月 21日
2014年 11月 12日
TW 200834869 A
2008年 8月 16日
JP 2008192978 A
US 2009029506 A1
2008年 8月 21日
2009年 1月 29日
CN 107887361 A
2018年 4月 6日
US 2018096941 A1
KR 20180036095 A
US 2018096940 A1
JP 2018060996 A
TW 201824466 A
JP 6451017 B2
TW I651820 B
KR 101952864 B1
2018年 4月 5日
2018年 4月 9日
2018年 4月 5日
2018年 4月 12日
2018年 7月 1日
2019年 1月 16日
2019年 2月 21日
2019年 2月 27日
US 2014292159 A1
2014年 10月 2日
JP 6133655 B2
JP 2014195002 A
US 9640749 B2
EP 2784836 A1
2017年 5月 24日
2014年 10月 9日
2017年 5月 2日
2014年 10月 1日
CN 109003944 A
2018年 12月 14日
ISA/CN的名称和邮寄地址 :
中国国家知识产权局(ISA/CN)
中国北京市海淀区蓟门桥西土城路6号 100088
传真号 (86-10)62019451
国际检索实际完成的日期:
2020年 2月 16日
国际检索报告邮寄日期:
2020年 3月 18日
受权官员:
韩冰
电话号码 86-(10)-53961217
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