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1. WO2007102444 - PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'ÉLECTRODES DE DIAMANT

Numéro de publication WO/2007/102444
Date de publication 13.09.2007
N° de la demande internationale PCT/JP2007/054111
Date du dépôt international 26.02.2007
CIB
C23C 16/27 2006.1
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
23REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT CHIMIQUE DE SURFACE; TRAITEMENT DE DIFFUSION DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL; MOYENS POUR EMPÊCHER LA CORROSION DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES, L'ENTARTRAGE OU LES INCRUSTATIONS, EN GÉNÉRAL
CREVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT DE SURFACE DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES PAR DIFFUSION DANS LA SURFACE, PAR CONVERSION CHIMIQUE OU SUBSTITUTION; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL
16Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c. à d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur (CVD)
22caractérisé par le dépôt de matériaux inorganiques, autres que des matériaux métalliques
26Dépôt uniquement de carbone
27Le diamant uniquement
C30B 29/04 2006.1
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
30CROISSANCE DES CRISTAUX
BCROISSANCE DES MONOCRISTAUX; SOLIDIFICATION UNIDIRECTIONNELLE DES MATÉRIAUX EUTECTIQUES OU DÉMIXTION UNIDIRECTION- NELLE DES MATÉRIAUX EUTECTOÏDES; AFFINAGE DES MATÉRIAUX PAR FUSION DE ZONE; PRODUCTION DE MATÉRIAUX POLYCRISTALLINS HOMOGÈNES DE STRUCTURE DÉTERMINÉE; MONOCRISTAUX OU MATÉRIAUX POLYCRISTALLINS HOMOGÈNES DE STRUCTURE DÉTERMINÉE; POST-TRAITEMENT DE MONOCRISTAUX OU DE MATÉRIAUX POLYCRISTALLINS HOMOGÈNES DE STRUCTURE DÉTERMINÉE; APPAREILLAGES À CET EFFET
29Monocristaux ou matériaux polycristallins homogènes de structure déterminée caractérisés par leurs matériaux ou par leur forme
02Eléments
04Diamant
CPC
C02F 1/46109
CCHEMISTRY; METALLURGY
02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
1Treatment of water, waste water, or sewage
46by electrochemical methods
461by electrolysis
46104Devices therefor; Their operating or servicing
46109Electrodes
C02F 1/4672
CCHEMISTRY; METALLURGY
02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
1Treatment of water, waste water, or sewage
46by electrochemical methods
461by electrolysis
467by electrochemical disinfection; by electrooxydation or by electroreduction
4672by electrooxydation
C02F 2001/46138
CCHEMISTRY; METALLURGY
02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
1Treatment of water, waste water, or sewage
46by electrochemical methods
461by electrolysis
46104Devices therefor; Their operating or servicing
46109Electrodes
46133characterised by the material
46138Electrodes comprising a substrate and a coating
C02F 2001/46147
CCHEMISTRY; METALLURGY
02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
1Treatment of water, waste water, or sewage
46by electrochemical methods
461by electrolysis
46104Devices therefor; Their operating or servicing
46109Electrodes
46133characterised by the material
46138Electrodes comprising a substrate and a coating
46147Diamond coating
C02F 2201/4617
CCHEMISTRY; METALLURGY
02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
2201Apparatus for treatment of water, waste water or sewage
46Apparatus for electrochemical processes
461Electrolysis apparatus
46105Details relating to the electrolytic devices
4616Power supply
4617DC only
C23C 16/271
CCHEMISTRY; METALLURGY
23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
16Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
22characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
26Deposition of carbon only
27Diamond only
271using hot filaments
Déposants
  • EBARA CORPORATION [JP]/[JP] (AllExceptUS)
  • DIACCON GmbH [DE]/[DE] (AllExceptUS)
  • SERIKAWA, Roberto, Massahiro [BR]/[JP] (UsOnly)
  • SASAKI, Kenichi [JP]/[JP] (UsOnly)
  • RUEFFER, Martin [DE]/[DE] (UsOnly)
  • FORETA, Michael [DE]/[DE] (UsOnly)
Inventeurs
  • SERIKAWA, Roberto, Massahiro
  • SASAKI, Kenichi
  • RUEFFER, Martin
  • FORETA, Michael
Mandataires
  • OHNO, Seiji
Données relatives à la priorité
2006-06097507.03.2006JP
Langue de publication anglais (EN)
Langue de dépôt anglais (EN)
États désignés
Titre
(EN) METHOD FOR PRODUCTION OF DIAMOND ELECTRODES
(FR) PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'ÉLECTRODES DE DIAMANT
Abrégé
(EN)
The invention is related to the method for production of diamond electrode with improved stability for use in electrochemical reaction. The method concerns to the production of diamond electrodes where the diamond layer is composed of small sized grain, avoiding the delamination problems found in conventional diamond electrodes.
(FR)
La présente invention concerne un procédé de production d'électrode de diamant avec une stabilité améliorée destinée à être utilisée dans une réaction électrochimique. L'invention concerne un procédé de production d'électrodes de diamant selon lequel la couche de diamant est constituée d'un grain de petite taille, évitant ainsi des problèmes de délaminage rencontrés dans des électrodes de diamant classiques.
Également publié en tant que
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