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1. (WO2001026165) PROCEDE DE DEPOT DE COUCHE D'OXYDE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2001/026165    N° de la demande internationale :    PCT/US2000/040391
Date de publication : 12.04.2001 Date de dépôt international : 14.07.2000
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    22.02.2001    
CIB :
C30B 23/02 (2006.01), H01L 39/14 (2006.01), H01L 39/24 (2006.01)
Déposants : AMERICAN SUPERCONDUCTOR CORPORATION [US/US]; Two Technology Drive, Wesborough, MA 01581-1727 (US)
Inventeurs : BUCZEK, David, M.; (US).
ANNAVARAPU, Suresh; (US).
FRITZEMEIER, Leslie, G.; (US).
CAMERON, Robert, D.; (US).
CUI, Xingtian; (US)
Mandataire : HEIBEL, George, E.; Fish & Richardson P.C., Suite 2800, 45 Rockefeller Plaza, New York, NY 10111 (US)
Données relatives à la priorité :
60/145,468 23.07.1999 US
60/166,297 18.11.1999 US
60/166,140 18.11.1999 US
60/166,145 18.11.1999 US
09/500,701 09.02.2000 US
09/500,717 09.02.2000 US
09/500,718 09.02.2000 US
Titre (EN) METHOD AND APPARATUS FOR FORMING BUFFER LAYERS
(FR) PROCEDE DE DEPOT DE COUCHE D'OXYDE
Abrégé : front page image
(EN)Methods and apparatus for depositing buffer layers for superconducting articles are provided. Substrate having residual oxide coating is cleaned by interaction with ions, the substrate is resistively heated to a temperature suitable for maintaining acceptable biaxial texture, and buffer material is deposited by sputter-deposition. The deposition methods are suitable for preparing buffer-coated substrates in the form of a tape or wire with lengths substantially in excess of a meter.
(FR)L'invention concerne des procédés et des dispositifs permettant de déposer des couches tampons pour articles superconducteurs. Un substrat à revêtement d'oxyde résiduel est nettoyé par interaction avec des ions, puis soumis à un échauffement résistif jusqu'à une température appropriée au maintien d'une texture biaxiale acceptable, et un matériau tampon est déposé par pulvérisation. Les procédés de dépôt considérés sont appropriés à la préparation de substrats à revêtement tampon sous la forme de bande ou de fil, selon un ordre de longueur sensiblement supérieur à un mètre.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TR, TT, TZ, UA, UG, UZ, VN, YU, ZA, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)