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1. WO2019112042 - DISPOSITIF DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT, PROCÉDÉ DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT ET SUPPORT DE STOCKAGE AYANT UN PROGRAMME POUR EFFECTUER UN PROCÉDÉ DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT ENREGISTRÉ DANS CELUI-CI

CN111418043SUBSTRATE PROCESSING DEVICE, SUBSTRATE PROCESSING METHOD, AND STORAGE MEDIUM HAVING PROGRAM FOR PERFORMING SUBSTRATE PROCESSING METHOD RECORDED THEREIN
Appl.Date 07.12.2018
N° de demande 201880076270.7 Déposant TOKYO ELECTRON LTD Related Type IC2
Ouverture de la phase nationale d'une demande PCT.

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Type de publication A
Date de publication 14.07.2020
KR1020200092359기판 처리 장치, 기판 처리 방법 및 기판 처리 방법을 실행시키는 프로그램이 기록된 기억 매체
Appl.Date 07.12.2018
N° de demande 1020207018418 Déposant 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 Related Type IC2
Ouverture de la phase nationale d'une demande PCT.

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Type de publication A
Date de publication 03.08.2020
JPWO2019112042基板処理装置、基板処理方法及び基板処理方法を実行させるプログラムが記録された記憶媒体
Appl.Date 07.12.2018
N° de demande 2019558298 Déposant 東京エレクトロン株式会社 Related Type IC2
Ouverture de la phase nationale d'une demande PCT.

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Type de publication A Langue de publication ja
Date de publication 13.06.2019
WO/2019/112042SUBSTRATE PROCESSING DEVICE, SUBSTRATE PROCESSING METHOD, AND STORAGE MEDIUM HAVING PROGRAM FOR PERFORMING SUBSTRATE PROCESSING METHOD RECORDED THEREIN
Appl.Date 07.12.2018
N° de demande PCT/JP2018/045099 Déposant TOKYO ELECTRON LIMITED Related Type IC1
Demande PCT à l'origine de la famille.
Type de publication A Langue de publication ja
Date de publication 13.06.2019