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1. (WO2003073496) PROCEDE DE MISE EN OEUVRE D'UN DISPOSITIF DE TRAITEMENT DE SUBSTRATS
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2003/073496    N° de la demande internationale :    PCT/JP2003/002113
Date de publication : 04.09.2003 Date de dépôt international : 26.02.2003
CIB :
H01L 21/677 (2006.01)
Déposants : ANELVA CORPORATION [JP/JP]; 5-8-1, Yotsuya, Fuchu-shi, Tokyo 183-8508 (JP) (Tous Sauf US).
TAKAHASHI, Nobuyuki [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : TAKAHASHI, Nobuyuki; (JP)
Mandataire : OHGAKI, Takashi; 4F, Ikebukuro Center Building, 35-3, Higashi Ikebukuro 1-chome, Toshima-ku, Tokyo 170-0013 (JP)
Données relatives à la priorité :
2002-52083 27.02.2002 JP
Titre (EN) METHOD OF OPERATING SUBSTRATE PROCESSING DEVICE
(FR) PROCEDE DE MISE EN OEUVRE D'UN DISPOSITIF DE TRAITEMENT DE SUBSTRATS
Abrégé : front page image
(EN)A substrate processing device (10) has a substrate transfer chamber (12) for moving, by a horizontal movement mechanism, storage trays (301, 302) for respectively storing one and two of the substrate support trays for supporting substrates in their vertical or substantially vertical state, to a substrate transfer position for effecting the movement of the substrate support trays for carry-in or carry-out purposes between chambers in either a group of substrate processing chambers (16) or a group of load lock chambers (20, 22). In the case where a defect develops in one load lock chamber of the substrate processing device, the movement of substrate support trays between these chambers is continued without using the one load lock chamber associated with the defect.
(FR)L'invention concerne un dispositif de traitement de substrats (10) comprenant une chambre de transfert de substrats (12) destinée à déplacer, au moyen d'un mécanisme de déplacement horizontal, des plateaux de stockage (301, 302) permettant de stocker respectivement un et deux des plateaux de support de substrats assurant le support des substrats en position verticale ou sensiblement verticale, jusqu'à une position de transfert de substrats permettant le déplacement des plateaux de support de substrats à des fins d'introduction ou de retrait entre des chambres dans un groupe de chambres de traitement de substrats (16) ou un groupe de sas de chargement (20, 22). Dans le cas où un défaut apparaît dans un sas de chargement du dispositif de traitement de substrats, le déplacement des plateaux de support de substrats entre ces sas se poursuit sans utilisation du sas de chargement présentant ce défaut.
États désignés : CN, KR, US.
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)