Traitement en cours

Veuillez attendre...

PATENTSCOPE sera indisponible durant quelques heures pour des raisons de maintenance le mardi 27.07.2021 à 12:00 PM CEST
Paramétrages

Paramétrages

Aller à Demande

1. WO2008001737 - cellule d'écoulement et son processus de fabrication

Note: Texte fondé sur des processus automatiques de reconnaissance optique de caractères. Seule la version PDF a une valeur juridique

[ JA ]

請求の範囲

[1] サンプノレ非親和性基板と、該サンプル非親和性基板上に設けられた多孔質部材 の流路とを含むフローセルであって、前記多孔質部材は、網目構造である外気非接 触領域と、前記外気非接触領域を覆い、前記外気非接触領域よりも孔密度が低い外 気接触領域とからなり、前記多孔質部材内に生ずる毛細管力が送液の駆動力となる ことを特徴とするフローセル。

[2] 前記外気非接触領域は、前記外気接触領域よりも高レ、サンプル親和性を有するこ とを特徴とする請求項 1に記載のフローセル。

[3] 前記多孔質部材がセルロース類で形成されていることを特徴とする請求項 1または

2に記載のフローセル。

[4] 前記多孔質部材が、微粒子をさらに含むことを特徴とする請求項 1から 3のいずれ かに記載のフローセル。

[5] 前記外気接触領域の少なくとも一部が剥離されていることを特徴とする請求項 1か ら 4のレ、ずれかに記載のフローセル。

[6] 前記多孔質部材の少なくとも一部が、前記サンプル非親和性基板表面に形成され たサンプル親和性領域と連通されており、前記サンプル親和性領域がドレインとして 作用することを特徴とする請求項 1から 5のいずれかに記載のフローセル。

[7] 前記多孔質部材上に、微小間隙を介して配置される第 2のサンプル非親和性基板 をさらに含み、前記微小間隙の幅が 10〜: 100 x mの範囲内であることを特徴とする 請求項 1から 5のいずれかに記載のフローセル。

[8] 前記第 2のサンプル非親和性基板が、前記多孔質部材と対向して配置される段差 部を含むことを特徴とする請求項 7に記載のフローセル。

[9] 前記サンプル非親和性基板が透明であり、および前記サンプル非親和性基板と前 記多孔質部材との間に金属薄膜をさらに含むことを特徴とする請求項 1から 8のいず れかに記載のフローセル。

[10] 前記多孔質部材が、含水状態において、表面プラズモン共鳴測定に用いるプリズ ムの屈折率よりも低い平均屈折率を有することを特徴とする請求項 9に記載のフロー セル。

[11] (a) 高揮発性良溶媒と低揮発性貧溶媒との溶媒混合物中に多孔質材料を溶解さ せた塗布溶液を調製する工程と、

(b) 塗布溶液をサンプル非親和性基板上に塗布する工程と、

(c) 前記溶媒混合物を蒸発させて、網目構造である外気非接触領域と、前記外気 非接触領域を覆い、前記外気非接触領域よりも孔密度が低い外気接触領域とからな る多孔質部材を形成する工程と

を含むことを特徴とするフローセルの製造方法。

[12] 前記多孔質材料がセルロース類であることを特徴とする請求項 1 1に記載のフロー セルの製造方法。

[13] 工程 (b)が、分注装置による描画によって実施されることを特徴とする請求項 11ま たは 12に記載のフローセルの製造方法。

[14] 工程 (b)において、前記サンプル非親和性基板上に、所望形状のスクリーンマスク を設置して、前記スクリーンマスクの開口部に前記塗布溶液を塗布することを特徴と する請求項 11または 12に記載のフローセルの製造方法。

[15] 工程 (a)において、微粒子を含む第 1の塗布溶液と、微粒子を含まない第 2の塗布 溶液とを調製し、工程 (b)において前記第 1および第 2の塗布溶液を別個に同時塗 布することを特徴とする請求項 11または 12に記載のフローセルの製造方法。

[16] (d) 前記多孔質部材中のサンプル移送速度を調整する工程

をさらに含むことを特徴とする請求項 11から 15のいずれかに記載のフローセルの製 造方法。

[17] 工程 (d)が、金型による押圧、封止材料の塗布、溶剤蒸気に対する曝露、および界 面活性剤の滴下からなる群から選択される方法によって実施されることを特徴とする 請求項 16に記載のフローセルの製造方法。

[18] (e) 多孔質部材の外気接触領域の一部を剥離する工程

をさらに含むことを特徴とする請求項 11から 17のいずれかに記載のフローセルの製 造方法。

[19] 工程 (e)は、粘着テープによる剥離および反応性イオンエッチングからなる群から 選択される方法によって実施されることを特徴とする請求項 18に記載のフローセル の製造方法。

[20] (f) 多孔質部材の上に、微小間隙を介して第 2のサンプル非親和性基板を配置す る工程

をさらに含み、前記微小間隙の幅が 10〜: 100 x mの範囲内であることを特徴とする 請求項 11から 14のいずれかに記載のフローセルの製造方法。

[21] 前記第 2のサンプル非親和性基板が、前記多孔質部材と対向して配置される段差 部を含むことを特徴とする請求項 20に記載のフローセルの製造方法。