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1. WO2008001418 - ÉLÉMENT ÉLECTROLUMINESCENT DISPERSIF ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION

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[ JA ]
明 細書

分散型エレクト口ルミネッセンス素子及びその製造方法

技術分野

[0001] 本発明は、導電性酸化物微粒子とバインダーを主成分とする透明導電層が形成さ れた透明導電層付きフィルムを用いて得られる分散型エレクト口ルミネッセンス素子 及びその製造方法に関するものであり、特に、携帯電話等の各種デバイスのキー入 力部品に組み込まれる発光素子として適用される分散型エレクト口ルミネッセンス素 子及びその製造方法に関するものである。

背景技術

[0002] 分散型エレクト口ルミネッセンス素子(以下「分散型 EL素子」と略称することがある。

)は、交流電圧駆動による発光素子であり、携帯電話、リモートコントローラ一等の液 晶ディスプレイのバックライト等に用いられてヽたが、近年新しヽ用途として各種デバ イスのキー入力部品(キーパッド)に組み込まれる発光素子への適用が試みられてい る。

[0003] このようなデバイスとしては、例えば、携帯電話、リモートコントローラー、 PDA(Pers onal Digital Assistance) 'ラップトップ PC等の携帯情報端末等が挙げられ、発光素子 は夜間など暗い場所でのキー入力操作を容易にする目的で用いられる。

従来、上記キー入力部品(キーパッド)の発光素子としては、発光ダイオード (LED )が適用されていたが、 LEDは点光源でキーパッド部分の輝度が不均一で外観が悪 いこと、一般に白色 ·青色の発光色が好まれるが LEDではそれらの色では高コストに なること、分散型 EL素子に比べて消費電力が大きいこと等の問題があることから、 L EDに代えて分散型 EL素子を適用する動きが目立っている。

[0004] 力かる分散型 EL素子の製造方法としては、一般に以下の方法が広く採用されてい る。即ち、スパッタリング、あるいはイオンプレーティング等の物理的成膜法を用いて、 インジウム錫酸ィ匕物(以下「ITO」と略称する)の透明導電層が形成されたプラスチッ クフィルム(以下「スパッタリング ΙΤΟフィルム」と略称する)上に、蛍光体層、誘電体層 、背面電極層を順次スクリーン印刷等により形成する方法である。

[0005] ここで、上記蛍光体層、誘電体層、背面電極層の各層の塗布(印刷)形成に用いる ペーストは、それぞれ蛍光体粒子、誘電体微粒子、導電性微粒子がバインダーを含 む溶剤に分散させたもので、例えば市販されているペーストを用いることができる。

[0006] また、上記スパッタリング ITOフィルムは、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエ チレンナフタレート(PEN)等の透明プラスチックフィルムの上に無機成分である ITO 単独層を上記物理的成膜法で厚さ: 20〜50nm程度となるように形成したもので、表 面抵抗値: 100〜300ΩΖ口(オーム 'パー'スクェア)程度と低抵抗が得られる。 し力しながら、上記 ΙΤΟ層は、無機成分の薄膜であって極めて脆いため、膜にマイ クロクラック (割れ)を生じやすぐそれを防止するため、基材となるプラスチックフィル ムは十分な強度と剛性を備える必要があり、その厚みを少なくとも 50 m以上、通常 は 75 m以上としている。

[0007] また、現在、上記スパッタリング ITOフィルムのベースフィルムには PETフィルムが 広く用いられている力その厚みが 50 m未満の場合、フィルムのフレキシビリティ( 柔軟性)が高すぎて、ハンドリングの最中に ITO層に容易にクラックが生じ、膜の導電 性を著しく損ねるため、例えば厚さ 25 m等の薄いスパッタリング ITOフィルムは実 用化されていない。また、ウレタン等の柔らかいベースフィルムは、そのフィルム厚が 75 μ m以上であっても、スノッタリング ITO層を形成した場合にクラックが生じやすく 実用化されていない。

[0008] ところで、上記キーパッドに分散型 EL素子を適用した場合に要求される特性として は、例えば特許文献 1にあるように、前述の輝度の均一性、低消費電力に加え、キー ノッドを操作した際のクリック感に優れることが重要となる。

このキーパッドに分散型 EL素子を組み込むことで、このクリック感を損ねな、ように するためには、分散型 EL素子自体のフレキシビリティを十分に高める必要があり、つ まりは素子の厚みをできるだけ薄ぐ又はフレキシブルなベースフィルムを用いる必 要がある。

[0009] ところが、上述のスパッタリング ITOフィルムを用いて分散型 EL素子を作製した場 合は、 ITO層のクラック防止のためベースフィルムとして少なくとも厚さ 50 μ m以上と し、フィルムの剛性を高める必要があり、フレキシブルなベースフィルムも使用できな いため、上記キーパッドに適用した場合は、キー操作のクリック感が十分に良好とは いえない問題があった。

[0010] また、上記とは別の問題として、例えば特許文献 4には、携帯電話のキー入力に際 して発生した静電気による LCD (液晶)部品等の破壊 '故障が指摘されている。この ため、分散型 EL素子のキー入力部品においても同様の問題が生ずる場合があり、 その対策としては、例えば分散型 EL素子の外表面に透明導電層を形成して上記静 電気を逃がす方法が挙げられるが、前述のようにキーパッド用のベースフィルムはフ レキシピリティが高いため、従来のスパッタリング ITOフィルムは適用できない。また、 キーパッドに要求される耐久性 (打点耐久性)、透明性、導電性を満足する透明導電 膜を、分散型 EL素子外表面に安価に形成することも容易でな力つた。

特許文献 1:特開 2001— 273831号公報

特許文献 2:特開平 4— 237909号公報

特許文献 3 :特開平 5— 036314号公報

特許文献 4:特開 2002— 232537号公報

発明の開示

発明が解決しょうとする課題

[0011] 本発明は、このような従来の事情に鑑みてなされたものであり、従来のスパッタリン グ ITOフィルムを用いた分散型 EL素子よりもフレキシビリティに優れる分散型 EL素 子、具体的には薄い、又は柔軟な透明プラスチックフィルムに形成された分散型 EL 素子及びその製造方法を提供することを目的とする。

課題を解決するための手段

[0012] 本発明者等は、上記目的を達成するため、様々の検討を重ねた結果、透明プラス チックフィルム表面上に順次形成された少なくとも透明導電層、蛍光体層、誘電体層 、背面電極層からなる分散型エレクト口ルミネッセンス素子のうち、透明導電層を従来 の物理的成膜法ではなぐ透明導電層形成用塗布液を用いて該透明プラスチックフ イルム表面上に塗布 '形成する方法を用いることによって、該透明導電層が導電性酸 化物微粒子とバインダーマトリックスを主成分として、ることから、透明導電フィルムの ハンドリング中に透明導電層に容易にクラックが生じ、その導電性を著しく損ねること を抑え、しかも上記透明導電層形成用塗布液の塗布により得られた塗布層を圧縮処 理することにより、透明導電層中の導電性微粒子の充填密度を上昇させ、光の散乱 を低下させて膜の光学特性を向上させるだけでなぐ導電性をも大幅に高めて、従来 のスパッタリング ITOフィルムを用いた分散型 EL素子よりも導電性、フレキシビリティ に優れる分散型 EL素子を安価に提供することができること、また、該分散型 EL素子 を携帯電話等のキーパッドに適用した場合は、キーパッドに特殊な構造や工夫を行 わなくても良好なキー操作のクリック感を得ることが可能となることを見出し、本発明に 至った。

すなわち、本発明に係る分散型エレクト口ルミネッセンス素子は、透明プラスチック フィルム表面上に順次形成された、少なくとも透明導電層と、蛍光体層と、誘電体層 と、背面電極層とからなる分散型エレクト口ルミネッセンス素子であって、前記透明プ ラスチックフィルムの厚さは 50 m未満であり、前記透明導電層は導電性酸化物粒 子とバインダーを主成分とする透明導電層形成用塗布液を該透明プラスチックフィル ム表面上に塗布して形成された塗布層に対し圧縮処理を施した後硬化させたもので あることを特徴とするものである。

また、本発明に係る他の分散型エレクト口ルミネッセンス素子は、前記透明導電層 が形成された前記透明プラスチックフィルムの裏面 (透明導電層が形成されて、なヽ 面)に、更に、第 2の透明導電層が形成され、前記第 2の透明導電層は導電性酸ィ匕 物粒子とバインダーを主成分とする透明導電層形成用塗布液を該透明プラスチック フィルムの裏面上に塗布して形成された第 2の塗布層に対し圧縮処理を施した後硬 化させたものであることを特徴とし、前記透明プラスチックフィルムの厚さが 25 m以 下であることを特徴とし、前記導電性酸化物微粒子は、酸化インジウム、酸化錫、酸 化亜鉛の!/ヽずれか一つ以上を主成分として含有して!/ヽることを特徴とし、前記酸化ィ ンジゥムを主成分とする導電性酸化物微粒子は、インジウム錫酸化物微粒子である ことを特徴とし、前記バインダーは、架橋性を有しており、前記透明導電層及び第 2 の透明導電層が有機溶剤耐性を有していることを特徴とし、前記圧縮処理は、金属 ロールの圧延処理により行われることを特徴とし、上記記載の分散型エレクトロルミネ ッセンス素子力デバイスのキー入力部品に組み込まれる発光素子として適用された ことを特徴とし、前記デバイスが、携帯電話、リモートコントローラー、携帯情報端末で あることを特徴とするものである。

更に、本発明に係る分散型エレクト口ルミネッセンス素子の製造方法は、透明プラス チックフィルム表面上に、少なくとも透明導電層と、蛍光体層と、誘電体層と、背面電 極層を順次形成する分散型エレクト口ルミネッセンス素子の製造方法であって、前記 透明プラスチックフィルム表面上に、導電性酸ィ匕物微粒子とバインダーを主成分とす る透明導電層形成用塗布液を用いて塗布層を形成し、次ヽで該塗布層が形成され た該透明プラスチックフィルムに対し圧縮処理を施した後硬化させて透明導電層を 形成することを特徴とし、前記透明導電層が形成された前記透明プラスチックフィル ムの裏面 (透明導電層が形成されていない面)に、更に、導電性酸化物微粒子とバイ ンダーを主成分とする透明導電層形成用塗布液を用いて第 2の塗布層を形成し、次 いで該透明導電層及び該第 2の塗布層が形成された該透明プラスチックフィルム〖こ 対し圧縮処理を施した後硬化させて第 2の透明導電層を形成することを特徴とするも のである。

また、本発明に係る他の分散型エレクト口ルミネッセンス素子の製造方法は、透明 プラスチックフィルム表面上に、少なくとも透明導電層と、蛍光体層と、誘電体層と、 背面電極層を順次形成する分散型エレクト口ルミネッセンス素子の製造方法であって 、前記透明プラスチックフィルム表面上に、導電性酸ィ匕物微粒子とバインダーを主成 分とする透明導電層形成用塗布液を用いて塗布層を形成し、該塗布層が形成され た該透明プラスチックフィルムの裏面 (塗布層が形成されていない面)に、更に、導電 性酸ィ匕物微粒子とバインダーを主成分とする透明導電層形成用塗布液を用いて第 2 の塗布層を形成し、次いで該塗布層及び該第 2の塗布層が形成された該透明プラス チックフィルムに対し圧縮処理を施した後硬化させて透明導電層及び第 2の透明導 電層を形成することを特徴とするものである。

更に、本発明に係る他の分散型エレクト口ルミネッセンス素子の製造方法は、前記 圧縮処理を金属ロールの圧延処理で行うことを特徴とし、前記圧延処理は、線圧: 29 . 4〜490NZmm (30〜500kgfZcm)であることを特徴とするものである。

また、本発明に係る他の分散型エレクト口ルミネッセンス素子の製造方法は、前記 透明導電層、または前記透明導電層と第 2の透明導電層が形成された透明プラスチ ックフィルムの分散型エレクト口ルミネッセンス素子が形成される面と反対の面に、微 粘着接着剤が塗布されたリリースライナーフィルム (剥離可能な裏打ちフィルム)を貼 り合わせた後、分散型エレクト口ルミネッセンス素子を形成し、更にリリースライナーフ イルムを剥離除去することを特徴とするものである。

発明の効果

[0015] 本発明によれば、透明プラスチックフィルム、及びその透明プラスチックフィルム表 面上に順次形成された透明導電層、蛍光体層、誘電体層、背面電極層を少なくとも 有する分散型エレクト口ルミネッセンス素子であって、透明導電層を、従来の物理的 成膜法ではなぐ透明導電層形成用塗布液を用いて該透明プラスチックフィルム表 面上に塗布'形成する方法を用いることによって、該透明導電層が導電性酸化物微 粒子とバインダーマトリックスを主成分として、ることから、透明導電フィルムのハンドリ ング中に透明導電層に容易にクラックが生じその導電性を著しく損ねることを抑え、し カゝも上記透明導電層形成用塗布液の塗布により得られた塗布層を圧縮処理すること により、透明導電層中の導電性微粒子の充填密度を上昇させ、光の散乱を低下させ て膜の光学特性を向上させるだけでなぐ導電性をも大幅に高めて、従来のスパッタ リング ITOフィルムを用いた分散型 EL素子よりも導電性、フレキシビリティに優れる分 散型 EL素子を安価に提供することができること、また、上記分散型 EL素子を携帯電 話等のキーパッドに適用した場合は、キーパッドに特殊な構造や工夫を行わなくても 良好なキー操作のクリック感を得ることが可能となり、工業的に有用である。

発明を実施するための最良の形態

[0016] 本発明に係る分散型エレクト口ルミネッセンス素子は、図 1に示すような、透明プラス チックフィルム 1上に、順次形成された透明導電層 2、蛍光体層 3、誘電体層 4、背面 電極層 5を少なくとも有してヽる。

また、実際のデバイスへの適用としては、図 2に示すように、銀等の集電電極 6や、 絶縁保護層 7を更に形成して用いるのが一般的である。

[0017] 本発明で用いる透明プラスチックフィルムは、その厚さが 50 μ m未満であることが 好ましい。透明プラスチックフィルムの厚さが 50 μ m以上だとフィルムの剛性が高くな り、分散型 EL素子として前述のキーパッドに組み込んだ場合に、良好なクリック感が 得られない。

また、透明プラスチックフィルムの厚さ力好ましくは 25 m以下、更に好ましくは 1 6 m以下であると、一層良好なクリック感を得ることが可能となり、また分散型 EL素 子の総厚を例えば 100 m以下と薄くすることができるようになるためデバイスの設計 面での自由度が高まる点でも、好ましい。

更に、透明プラスチックフィルムの材質は、特に限定されず、各種プラスチックを用 いることができる。具体的には、ポリカーボネート(PC)、ポリエーテルサルホン (PES )、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)、ポリエチレ ン(PE)、ポリプロピレン (PP)、ウレタン、ナイロン、フッ素系榭脂等のプラスチックを 用いることができるが、中でも、安価で且つ透明性、強度に優れ、柔軟性も兼ね備え て 、る等の観点から、 PETフィルムを用いることが好まし!/、。

本発明に係る分散型 EL素子では、図 3に示すように、透明プラスチックフィルム 1 の透明導電層 2を形成した面と反対の面 (裏面)に、第 2の透明導電層 8を更に形成 することちでさる。

第 2の透明導電層は、静電気による各種弊害を防止する目的であるため、分散型 E L素子の電極として適用される前述の透明導電層の抵抗値に比べて、遥かに高い値 で良ぐ例えば 1Μ (1 Χ 106) Ω /口程度以下の値とするのが好ましい。

上記第 2の透明導電層は、導電性酸ィ匕物微粒子をバインダー成分を含む溶媒に 分散させた透明導電層形成用塗布液を用いて透明プラスチックフィルム上に塗布し て第 2の塗布層を形成し、次ヽで該第 2の塗布層に対し圧縮処理を施した後硬化さ せて形成されるが、分散型 EL素子の輝度低下をできるだけ防止する観点力高い 透過率を有することが好ましぐ従って、その膜厚は 3 m以下が好ましぐ更に 1 m以下がより好ましい。

第 2の透明導電層に用いられるノインダ一の材質は、透明プラスチックフィルムと 良好な密着力を有し、かつ、透明性と所定の導電性を有すれば特に限定されず、各 種榭脂を用いることができる。具体的には、ウレタン、エポキシ、ポリエステル、フッ素 系榭脂等の榭脂を用いることができる。その中でも、安価で且つ透明性、強度に優れ 、柔軟性も兼ね備えている等の観点から、ウレタン系やフッ素系榭脂が好ましい。 上記透明プラスチックフィルム表面上への、導電性酸ィ匕物微粒子とバインダーマトリ ックスを主成分とする透明導電層の形成は、透明プラスチックフィルム上に、導電性 酸化物微粒子をバインダー成分を含む溶媒に分散させた透明導電層形成用塗布液 を用いて、塗布 ·乾燥後した後、透明プラスチックフィルムごと圧縮処理を行い、次い で、バインダー成分を硬化させることにより得られる。

尚、上記透明導電層形成用塗布液を塗布,乾燥して得られる、圧縮処理前の膜( 塗布層)は、導電性微粒子とバインダーマトリックスの間に多数の微細な空隙 (マイク ロボイド)が形成された状態である。上記空隙が生じるのは、本発明の透明導電層形 成用塗布液において、バインダー成分の配合量が少ないためであり(例えば、導電 性微粒子/バインダー成分 = 90ZlOの場合)、透明導電層形成用塗布液を単に塗 布-乾燥するだけでは、導電性微粒子の細密充填は困難で、導電性微粒子の間に 力なりの空隙が形成される力 S、それをバインダー成分が完全に埋めきれないことに起 因している。

ここで、圧縮処理としては、例えば、透明導電層形成用塗布液が塗布'乾燥された 塗布層を有する透明プラスチックフィルムをスチールロールにより圧延すればよい。 本発明では、最終的には、極めて薄い透明プラスチックフィルム表面上に圧延処理 された透明導電層を有する構造の分散型 EL素子を得ることになるが、上記圧延処 理工程では、薄、透明プラスチックフィルムを用いるため慎重に圧延処理を行う必要 があり、スチールロールの圧延圧力は線圧: 29. 4〜784NZmm(30〜800kgfZc m)力 S良く、 98〜490?^/111111(100〜5001^8£/«11)カょり好ましく、 196〜294N/ mm(200〜300kgfZcm)が更に好ましい。線圧: 29. 4NZmm(30kgfZcm)未 満では、圧延処理による透明導電層の抵抗値改善の効果が不十分で、線圧: 784N Zmm (800kgfZcm)を超えると、圧延設備が大型化すると同時に、透明プラスチッ クフィルムが歪んでしまう場合があるからである。圧延設備の価格、圧延処理による透 明導電層の特性 (透過率、ヘイズ、抵抗値)のバランスを考慮して、 98〜490NZm m(100〜500kgfZcm)の範囲内に適宜設定することが望ましい。

上記スチールロールの圧延処理における圧延圧力(NZmm2)は、線圧を-ップ幅

(スチールロールでつぶされる幅)割った値である。前記-ップ幅は、スチールロール の径と線圧にもよるが、 150mm程度の直径であれば、 0. 7〜2mm程度である。 圧延処理により、圧延処理を行わない場合に比べて透明導電膜層中にある導電性 微粒子の充填密度は、線圧にもよるが、例えば 45vol%以下の低い値から、 50〜80 vol% (好ましくは 55〜80%)程度まで高めることができる。 80vol%を超える充填密 度は、透明導電層形成用塗布液に含まれるバインダー成分の存在、及び導電性微 粒子の物理的な充填構造力考えると、達成困難と思われる。

このような圧延処理を行うと、膜中に存在する上記空隙がつぶれて消失し、透明導 電層中の導電性微粒子の充填密度が上昇するため、光の散乱を低下させて膜の光 学特性を向上させるだけでなぐ導電性を大幅に高めることができる。

[0020] 尚、透明プラスチックフィルムには、透明導電層との密着力を高めるために、易接着 処理、具体的には、プライマー処理、プラズマ処理、コロナ放電処理、短波長紫外線 照射処理、シリコンカップリング処理等を予め施しておくことが好ましい。

[0021] 透明導電層形成用塗布液に用いられる導電性酸化物微粒子としては、酸化インジ ゥム、酸化錫、酸化亜鉛のいずれか一つ以上を主成分とする導電性酸化物微粒子 であって、例えば、インジウム錫酸ィ匕物 (ITO)微粒子、インジウム亜鉛酸ィ匕物 (IZO) 微粒子、インジウムタングステン酸ィ匕物(IWO)微粒子、インジウムチタン酸ィ匕物 (ITiO)微粒子、インジウムジルコニウム酸化物微粒子、錫アンチモン酸化物(ATO) 微粒子、フッ素錫酸ィ匕物 (FTO)微粒子、アルミニウム亜鉛酸ィ匕物 (AZO)微粒子、 ガリウム亜鉛酸ィ匕物 (GZO)微粒子等が挙げられるが、透明性と導電性を具備して!/、 れば良ぐこれらに限定されない。

但し、中でも ITO力高い可視光線透過率と優れた導電性を両立できる点で最も高 特性であり、好ましい。

[0022] 導電性酸化物微粒子の平均粒径は、 l〜500nmが好ましぐ 5〜: LOOnmが更に好 ましい。平均粒径が lnm未満では透明導電層形成用塗布液の製造が困難となり、ま た得られる透明導電層の抵抗値が高くなる。一方、 500nmを超えると、透明導電層 形成用塗布液中で導電性酸ィ匕物微粒子が沈降し易く取扱いが容易でなくなると同 時に、透明導電層において高透過率と低抵抗値を同時に達成することが困難になる

力 である。

また、 5〜: LOOnmが更に好ましいのは、透明導電層の特性 (透過率、抵抗値)と透 明導電層形成用塗布液の安定性 (導電性微粒子の沈降)等をバランスよく兼ね備え ることが可能となるからである。

尚、導電性酸ィ匕物微粒子の平均粒径は、透過電子顕微鏡 (TEM)で観察された値 を示している。

[0023] 透明導電層形成用塗布液のバインダー成分は、導電性酸ィ匕物微粒子同士を結合 させ膜の導電性と強度を高める働きや、透明プラスチックフィルムと透明導電層の密 着力を高める働き、及び、分散型 EL素子の製造工程において蛍光体層、誘電体層 、背面電極層等の形成に用いる各種印刷ペーストに含まれる有機溶剤による透明導 電層の劣化防止のための耐溶剤性を付与する働きを有して、る。ノインダーとして は、有機及び Z又は無機ノインダーを用いることが可能であり、上記役割を満たすよ うに、透明導電層形成用塗布液を適用する透明プラスチックフィルム、透明導電層の 膜形成条件等を考慮して、適宜選定することができる。

[0024] 上記有機ノインダ一には、アクリル榭脂ゃポリエステル榭脂等の熱可塑性榭脂も適 用できるが、一般的には耐溶剤性を有することが好ましぐそのためには、架橋可能 な榭脂であることが必要であり、熱硬化性榭脂、常温硬化性榭脂、紫外線硬化性榭 脂、電子線硬化性榭脂等力選定することができる。例えば、熱硬化性榭脂としては エポキシ榭脂、フッ素榭脂など、常温硬化性榭脂としては 2液性のエポキシ榭脂ゃゥ レタン樹脂など、紫外線硬化性榭脂としては各種オリゴマー、モノマー、光開始剤を 含有する榭脂など、電子線硬化性榭脂としては各種オリゴマー、モノマーを含有する 榭脂などを挙げることができるが、これら榭脂に限定されるものではない。

[0025] また、無機バインダーとしては、シリカゾル、アルミナゾル、ジルコユアゾル、チタ-ァ ゾル等を主成分とするバインダーを挙げることができる。例えば、上記シリカゾルとし ては、オルトアルキルシリケ一トに水や酸触媒をカ卩えて加水分解し、脱水縮重合を進 ませた重合物、あるいは既に 4〜5量体まで重合を進ませた市販のアルキルシリケ一 ト溶液を、更に加水分解と脱水縮重合を進行させた重合物等を利用することができる [0026] 尚、脱水縮重合が進行し過ぎると、溶液粘度が上昇して最終的に固化してしまうの で、脱水縮重合の度合いについては、透明基板上に塗布可能な上限粘度以下に調 整する。ただし、脱水縮重合の度合いは上記上限粘度以下のレベルであれば特に 限定されないが、膜強度、耐候性等を考慮すると、重量平均分子量で 500〜50000 程度が好ましい。そして、このアルキルシリケート加水分解重合物(シリカゾル)は、透 明導電層形成用塗布液の塗布 ·乾燥後の加熱時にお!ヽて脱水縮重合反応 (架橋反 応)がほぼ完結し、硬いシリケートバインダーマトリックス (酸ィ匕ケィ素を主成分とする ノインダーマトリックス)になる。上記脱水縮重合反応は膜の乾燥直後から始まり、時 間が経過すると導電性酸ィ匕物微粒子同士が動けなくなる程強固に固めてしまうため 、無機ノインダーを用いた場合には、前述の圧縮処理は、透明導電層形成用塗布 液の塗布 ·乾燥後、可能な限り速やかに行う必要がある。

[0027] ノインダ一として、有機一無機のハイブリッドバインダーを用いることもできる。例え ば、前述のシリカゾルを一部有機官能基で修飾したバインダーや、シリコンカップリン グ剤等の各種カップリング剤を主成分とするバインダーが挙げられる。

[0028] 上記無機ノインダーゃ有機—無機のハイブリッドバインダーを用いた透明導電層 は、必然的に優れた耐溶剤性を有しているが、透明プラスチックフィルムとの密着力 や、透明導電層の柔軟性等が悪ィ匕しないように、適宜選定する必要がある。

[0029] 透明導電層形成用塗布液中の、導電性酸ィ匕物微粒子とバインダー成分の割合は 、仮に導電性酸ィ匕物微粒子とバインダー成分の比重をそれぞれ 7. 2程度 (ITOの比 重)と 1. 2程度 (通常の有機榭脂バインダーの比重)と仮定した場合、重量比で、導 電性酸化物微粒子:バインダー成分 = 85: 15〜97: 3、好ましくは 87: 13〜95: 5が 好ましい。その理由は、本発明の圧延処理を行う場合、 85 : 15よりバインダー成分が 多いと透明導電層の抵抗が高くなりすぎ、逆に 97: 3よりバインダー成分が少ないと 透明導電層の強度が低下すると同時に、透明プラスチックフィルムとの十分な密着力 が得られなくなる力である。

[0030] 本発明で用いる透明導電層形成用塗布液の製造方法を説明する。まず、導電性 酸化物微粒子を溶剤、及び必要に応じて分散剤、と混合した後、分散処理を行い導 電性酸化物微粒子分散液を得る。分散剤としては、シリコンカップリング剤等の各種

カップリング剤、各種高分子分散剤、ァ-オン系'ノ-オン系'カチオン系等の各種界 面活性剤が挙げられる。これら分散剤は、用いる導電性酸化物微粒子の種類や分 散処理方法に応じて適宜選定することができる。また、分散剤を全く用いなくても、適 用する導電性酸化物微粒子と溶剤の組合せ、及び分散方法の如何によつては、良 好な分散状態を得ることができる場合がある。分散剤の使用は膜の抵抗値や耐候性 を悪化させる可能性があるので、分散剤を用いな!ヽ透明導電層形成用塗布液が最も 好ましい。分散処理としては、超音波処理、ホモジナイザー、ペイントシェーカー、ビ ーズミル等の汎用の方法を適用することができる。

[0031] 得られた導電性酸化物微粒子分散液にバインダー成分を添加し、更に導電性酸 化物微粒子濃度、溶剤組成等の成分調整を行うことにより、透明導電層形成用塗布 液が得られる。ここでは、バインダー成分を導電性酸ィ匕物微粒子の分散液に加えた 力 前述の導電性酸ィ匕物微粒子の分散工程前に予め加えてもよぐ特に制約はない 。導電性酸化物微粒子濃度は、用いる塗布方法に応じて、適宜設定すればよい。

[0032] 透明導電層形成用塗布液に用いる溶媒としては、特に制限はなぐ塗布方法、製 膜条件、透明プラスチックフィルムの材質により適宜に選定することができる。例えば 、水、メタノール(MA)、エタノール(EA)、 1 プロパノール(NPA)、イソプロパノー ル(IPA)、ブタノール、ペンタノール、ベンジルアルコール、ジアセトンアルコール(D AA)等のアルコール系溶媒、アセトン、メチルェチルケトン(MEK)、メチルプロピル ケトン、メチルイソブチルケトン(MIBK)、シクロへキサノン、イソホロン等のケトン系溶 媒、酢酸ェチル、酢酸ブチル、乳酸メチル等のエステル系溶媒、エチレングリコール モノメチルエーテル(MCS)、エチレングリコールモノェチルエーテル(ECS)、ェチ レングリコールイソプロピルエーテル(IPC)、エチレングリコールモノブチルエーテル (BCS)、エチレングリコールモノェチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノ ブチノレエーテノレアセテート、プロピレングリコーノレメチノレエーテル(PGM)、プロピレ ングリコールェチルエーテル(PE)、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート( PGM— AC)、プロピレングリコールェチルエーテルアセテート(PE— AC)、ジェチ レングリコーノレモノメチノレエーテノレ、ジエチレングリコーノレモノェチノレエーテノレ、ジェ チレングリコーノレモノブチノレエーテノレ、ジエチレングリコールモノメチルエーテルァセ テート、ジエチレングリコーノレモノェチノレエーテノレアセテート、ジエチレングリコールモ ノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレング リコールジェチルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、ジプロピレング リコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノェチルエーテル、ジプロピレ ングリコールモノブチルエーテル等のグリコール誘導体、トルエン、キシレン、メシチレ ン、ドデシルベンゼン等のベンゼン誘導体、ホルムアミド(FA)、 N メチルホルムアミ ド、ジメチルホルムアミド(DMF)、ジメチルァセトアミド、ジメチルスルフォキシド (DM SO)、 N—メチル 2—ピロリドン(NMP)、 y—ブチ口ラタトン、エチレングリコール、 ジエチレングリコール、テトラヒドロフラン (THF)、クロ口ホルム、ミネラルスピリッツ、タ 一ビネオール等が挙げられる力これらに限定されるものではない。

次に、本発明に係る分散型エレクト口ルミネッセンス素子の製造方法について説明 する。

先ず、上記透明導電層形成用塗布液を用い、スクリーン印刷、ブレードコーティン グ、ワイヤーバーコーティング、スプレーコート、ロールコート、グラビア印刷等の方法 で透明プラスチックフィルムの上に塗布 ·乾燥し塗布層を形成した後、上述の圧縮処 理を施す。圧縮処理は、金属ロールの圧延処理により行われることが好ましい。その 後、圧縮処理された塗布層は、塗布液の種類により乾燥硬化、熱硬化、紫外線硬化 等の硬化処理が施され透明導電層となる。

また、上記透明導電層を形成するに先立ち、同時に又はその後、必要に応じて、 該透明プラスチックフィルムの透明導電層が形成されないもう一方の面 (裏面)に、導 電性酸ィ匕物粒子とバインダーを主成分とする透明導電層形成用塗布液を用い、上 記と同様の方法で塗布 ·乾燥し第 2の塗布層を形成した後、第 2の塗布層単独あるい は上記塗布層又は上記透明導電層と共に上述の圧縮処理を施した後硬化させて第 2の透明導電層も形成することもできる。

尚、本明細書中、「塗布層」とは、透明導電層形成用塗布液を塗布,乾燥させた膜 、という意で用いられ、また、「透明導電層」は、透明導電層形成用塗布液を用いて 最終的に得られた膜、という意で用いられている。従って、「透明導電層」は、透明導 電層形成用塗布液の「塗布層」と明確に区別して用いている。

[0034] 上記透明導電層の上に形成される蛍光体層、誘電体層、背面電極層は、順次スク リーン印刷等により形成することができる。蛍光体層、誘電体層、背面電極層の各層 を塗布(印刷)形成するときに用いるペーストは、市販されて!ヽるペーストを用いること ができる。蛍光体層ペースト、誘電体層ペーストは、それぞれ蛍光体粒子、誘電体微 粒子を、フッ素ゴムを主成分としたバインダーを含む溶剤に分散させたものであり、背 面電極層ペーストはカーボン微粒子等の導電性微粒子を熱硬化榭脂バインダーを 含む溶剤に分散させたものである。

[0035] ここで、上記透明導電層の上に、蛍光体層等をスクリーン印刷して分散型エレクト口 ルミネッセンス素子を形成するにあたり、透明導電層が形成された薄い透明プラスチ ックフィルムに微粘着接着剤が塗布されたリリースライナーフィルム (剥離可能な裏打 ちフィルム)を貼り合わせて、その強度を高めても良い。これは、透明プラスチックフィ ルムの厚さ力 50 /z m未満と薄いため、そのまま蛍光体層、誘電体層、背面電極層 の各層の印刷を行う場合、取扱いが容易でないだけでなぐスクリーン印刷において 以下の問題を生じることがある。すなわち、一般にスクリーン印刷では、多数の小径 の穴があいた吸引ステージを用い、穴の部分を減圧にしてフィルム固定する力フィ ルムが薄いと、その穴の部分のフィルムが減圧により変形してくぼみが生じ、スクリー ン印刷した膜にこのくぼみの跡が生じる問題である。吸引ステージに多孔質部材を 用いれば上記問題を防止することはできるが、装置価格が高くなるため、一般的に広 くは用いられていない。前述のようにリリースライナーフィルムを貼り合わせると、フィ ルムの剛性が高くなつて上記くぼみができないために、印刷の均一性を損なうことが ない。リリースライナーフィルムは分散型 EL素子の製造後に簡単に剥離除去できる。 尚、本発明で用いる透明プラスチックフィルムや上記リリースライナーは、分散型 EL 素子製造工程における加熱処理による収縮 (寸法変化)、及びフィルムのカールを防 止するため、予め分散型 EL素子の製造工程の熱処理温度である 130〜 150°Cで加 熱処理を施しておくことが好ま、。

[0036] 上記透明導電層、蛍光体層、誘電体層、背面電極層で分散型 EL素子の主要部分 は構成されるが、実際の分散型 EL素子においては、透明導電層の集電電極 (銀べ 一ストで形成)、背面電極層のリード電極 (銀ペーストで形成)、電極間ショート、感電 等を防止するための絶縁保護コーティング (絶縁ペーストで形成)等が更に形成され る。

[0037] 本発明の分散型エレクト口ルミネッセンス素子は、ベースフィルムである透明プラス チックフィルムの厚さが薄いため、分散型 EL素子としてフレキシビリティに優れており 、デバイスのキー入力部品に組み込まれる発光素子として適用され、キーパッドに特 殊な構造や工夫を行わなくても良好なキー操作のクリック感を得ることが可能となる。 したがって、携帯電話、リモートコントローラー、携帯情報端末等のデバイスのキー入 力部品に組み込まれる発光素子として適用することができる。

[実施例]

[0038] 以下、本発明の実施例を具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定さ れるものではない。また、本文中の「%」は「重量%」を示し、また「部」は「重量部」を 示している。

実施例 1

[0039] 平均粒径 0. 03 μ mの粒状の ΙΤΟ微粒子(商品名: SUFP— HX、住友金属鉱山( 株)製) 36gを溶剤としてのメチルイソブチルケトン(MIBK) 24gとシクロへキサノン 36 gと混合し、分散処理を行った後、ウレタンアタリレート系紫外線硬化性榭脂バインダ 一 3. 8gと光開始剤 (ダロキュア一 1173) 0. 2gを加えて良く攪拌して、平均分散粒 径 130nmの ITO微粒子が分散した透明導電層形成用塗布液を得た。

[0040] 透明プラスチックフィルムとしての PETフィルム(帝人(株)製、厚さ 25 μ m)の一方 の面に易接着処理としてのコロナ放電処理を施した後、その処理面に、上記透明導 電層形成用塗布液をワイヤーバーコーティング (線径: 0. 15mm)し、 60°Cで 1分間 乾燥した後、直径 100mmのハードクロムめつきしたスチールロールによる圧延処理( 線圧: 200kgfZcm= 196NZmm、 -ップ幅: 0. 8mm)を行い、更に高圧水銀ラン プによりバインダー成分の硬化(窒素中、 100mWZcm2 X 2秒間)を行って、 PETフ イルム上に緻密に充填された ITO微粒子とバインダーで構成される透明導電層(膜 厚:1. 0 m)を形成した。圧延処理後の該透明導電膜層中にある導電性微粒子の 充填密度は約 60vol%であった。

尚、透明プラスチックフィルムは、後述の分散型 EL素子製造工程における加熱処

理による収縮(寸法変化)、及びフィルムのカールを防止するため、予め 130°C X 60 分間加熱処理を施してから、その上に透明導電層を形成している。

[0041] この透明導電層の膜特性は、可視光透過率: 92. 0%、ヘイズ値: 2. 0%、表面抵 抗値: 525 Ω ロであった。尚、表面抵抗値は、バインダー硬化時の紫外線照射の 影響を受けて、硬化直後は一時的に低下する傾向があるため、透明導電層形成の 1 日後に測定している。

[0042] 尚、上述の透明導電層の透過率及びヘイズ値は、透明導電層だけの値であり、そ れぞれ下記計算式 1及び 2により求められる。

[計算式 1]

透明導電層の透過率 (%) = [ (透明導電層が形成された透明プラスチックフィルム ごと測定した透過率) Z透明プラスチックフィルムの透過率] X 100

[計算式 2]

透明導電層のヘイズ値 (%) = (透明導電層が形成された透明プラスチックフィルム ごと測定したヘイズ値)(透明プラスチックフィルムのヘイズ値)

[0043] また、透明導電層の表面抵抗は、三菱ィ匕学 (株)製の表面抵抗計ロレスタ AP (MCP — T400)を用い測定した。ヘイズ値と可視光透過率は、村上色彩技術研究所製の ヘイズメーター (HR— 200)を用いて測定した。

[0044] 次に、上記透明導電層が形成された PETフィルムの上に、蛍光体である硫化亜鉛 粒子を、フッ素ポリマーを主成分とする榭脂溶液中に分散させた蛍光体ペースト (デ ュポン製、 715 J)を作製し、 200メッシュポリエステルスクリーンを用いて 4 X 5cmの 大きさにスクリーン印刷し、 120°C X 30分乾燥して、蛍光体層を形成した。尚、スクリ ーン印刷の透明プラスチックフィルムの固定は多孔質吸引板で行った。

[0045] 上記蛍光体層の上に、フッ素ポリマーを主成分とする榭脂溶液中にチタン酸バリウ ム粒子を分散させた誘電体ペースト(デュポン製、 7153)を用意し、 200メッシュポリ エステルスクリーンを用、て 4 X 5cmの大きさにスクリーン印刷し、乾燥( 120°C X 30 分)し、これを 2度繰り返して、誘電体層を形成した。

[0046] 上記誘電体層上に、カーボン導電ペースト (藤倉化成製、 FEC- 198)を 200メッ シュポリエステルスクリーンにより 3. 5 X 4. 5cmの大きさにスクリーン印刷し、 130°C X 30分間乾燥し背面電極層を形成した。

[0047] 上記透明導電層、及び背面電極層の一端に、電圧印加用 Agリード線を銀導電べ 一ストを用いて形成し、実施例 1に係る分散型 EL素子を得た。尚、電極間ショート、 感電等を防止するために、必要に応じて、透明導電層、背面電極層の絶縁保護コー ティングとして、絶縁ペースト (藤倉化成製、 XB— 101G)を用いて絶縁層を形成した 力 本発明の本質に係わる部分ではないので、詳細は省略する。

[0048] 上記分散型 EL素子の電圧印加用リード線間に 100V、 400Hzの電圧を印加した ところ、分散型 EL素子は均一に発光し、その輝度測定したところ、 53CdZm2であつ た。輝度は、輝度計 (トプコン社製商品名: BM— 9)で測定した。

実施例 2

[0049] 実施例 1で、透明プラスチックフィルムとして、厚さ 16 μ mの PETフィルムを用いて、 PETフィルム上に緻密に充填された ITO微粒子とバインダーで構成される透明導電 層(膜厚 : 1. O ^ m)を形成した。圧延処理後の該透明導電膜層中にある導電性微 粒子の充填密度は約 60vol%であった。

尚、透明プラスチックフィルムは、実施例 1と同様に、分散型 EL素子製造工程にお ける加熱処理による収縮(寸法変化)、及びフィルムのカールを防止するため、予め 1 30°C X 60分間加熱処理を施してから、その上に透明導電層を形成している。

その透明導電層は、可視光透過率:92. 2%、ヘイズ値: 1. 8%、表面抵抗値: 49 Ο Ω ロであった。これ以外は、実施例 1と同様にして行い、実施例 2に係る分散型 E L素子を得た。

[0050] 上記分散型 EL素子の電圧印加用リード線間に 100V、 400Hzの電圧を印加した ところ、分散型 EL素子は均一に発光し、その輝度測定したところ、 52CdZm2であつ た。

実施例 3

[0051] 実施例 2で、透明導電層が形成された厚さ 16 μ mの PETフィルムの透明導電層が 形成されていない面に厚さ 100 mの PETフィルムに耐熱性シリコーン系微粘着接 着剤が塗布されたリリースライナー (剥離可能な裏打ちフィルム)を貼り合わせ、分散 型 EL素子の製造工程のスクリーン印刷時に、 0. 5〜 lmm程度の多数の穴を有する

吸引固定板を用いた以外は、実施例 2と同様にして行い、分散型 EL素子製造工程 が終了した後にリリースライナーを剥いで実施例 3に係る分散型 EL素子を得た。 尚、上記リリースライナーは、分散型 EL素子製造工程における加熱処理による収 縮(寸法変化)、及びフィルムのカールを防止するため、予め 130°C X 60分間加熱 処理を施してから用いて、る。

[0052] 上記分散型 EL素子の電圧印加用リード線間に 100V、 400Hzの電圧を印加した ところ、分散型 EL素子は均一に発光し、その輝度測定したところ、 52CdZm2であつ た。

実施例 4

[0053] 透明プラスチックフィルムとしての厚さ 16 μ mの PETフィルムの両面に易接着処理 としてのコロナ放電処理を施した後、その一方の面に、実施例 1の透明導電層形成 用塗布液をワイヤーバーコーティング (線径: 0. 075mm)し 60°Cで 1分間乾燥し、更 に透明プラスチックフィルムの反対の面にも、上記透明導電層形成用塗布液をワイヤ 一バーコーティング (線径: 0. 15mm)し 60°Cで 1分間乾燥し、両表面に透明導電層 形成用塗布液の乾燥塗膜 (塗布層と第 2の塗布層)が形成された透明プラスチックフ イルムを得た。この透明プラスチックフィルムを、直径 100mmのハードクロムめつきし たスチールロールによる圧延処理(線圧: 200kgfZcm= 196NZmm、 -ップ幅: 0 . 8mm)を行い、更に高圧水銀ランプによりバインダー成分の硬化(窒素中、 100m WZcm2 X 2秒間)を行って、 PETフィルムの両表面上に緻密に充填された ITO微 粒子とバインダーで構成される透明導電層 (膜厚: 1. O ^ m)と第 2の透明導電層 (膜 厚 : 0. 4 m)を形成した。圧延処理後の該透明導電膜層中にある導電性微粒子の 充填密度は約 60vol%であった。

尚、透明プラスチックフィルムは、後述の分散型 EL素子製造工程における加熱処 理による収縮(寸法変化)、及びフィルムのカールを防止するため、予め 130°C X 60 分間加熱処理を施してから、その上に上記透明導電層を形成している。

[0054] 上記透明導電層(光学特性は透明導電層と第 2の透明導電層を含む)の膜特性は 、可視光透過率: 88. 5%、ヘイズ値: 3. 6%、膜厚: 1. O /z mの透明導電層の表面 抵抗値: 545 Ω /口、膜厚: 0. 4 /z mの第 2の透明導電層の表面抵抗値: 1300 Ω / 口であった。尚、表面抵抗値は、バインダー硬化時の紫外線照射の影響を受けて、 硬化直後は一時的に低下する傾向があるため、透明導電層形成の 1日後に測定し ている。

上記膜厚: 1. O /z mの透明導電層上に、実施例 1と同様に各層を積層し、外表面 に第 2の透明導電層を有する実施例 4に係る分散型 EL素子を得た。

[0055] 上記分散型 EL素子の電圧印加用リード線間に 100V、 400Hzの電圧を印加した ところ、分散型 EL素子は均一に発光し、その輝度測定したところ、 50CdZm2であつ た。

[比較例 1]

[0056] 実施例 1で、透明導電層の形成工程で、圧延処理 (線圧: 200kgfZcm= 196NZ mm)を行わず、 PETフィルム上に緻密に充填されて!ヽなヽ ITO微粒子とバインダー で構成される透明導電層(膜厚: 1. 3 m)を形成した。この透明導電膜層中にある 導電性微粒子の充填密度は約 45vol%であった。

[0057] この透明導電層の膜特性は、可視光透過率: 83. 9%、ヘイズ値: 17. 3%、表面 抵抗値: 15ΚΩ Ζ口であった。尚、表面抵抗値は、バインダー硬化時の紫外線照射 の影響を受けて、硬化直後は一時的に低下する傾向があるため、透明導電層形成 の 1日後に測定している。

[0058] 上記透明導電層が形成された透明プラスチックフィルムを用いた以外は、実施例 1 と同様にして行い、比較例 1に係る分散型 EL素子を得た。

[0059] 上記分散型 EL素子の電圧印加用リード線間に 100V、 400Hzの電圧を印加した ところ、分散型 EL素子の発光は不均一で、 30CdZm2程度と著しく輝度の低い部分 が見られた。

[比較例 2]

[0060] 実施例 1で、透明プラスチックフィルムとして、厚さ 100 μ mの PETフィルムを用いて 、 PETフィルム上に緻密に充填された ITO微粒子とバインダーで構成される透明導 電層(膜厚 : 1. O ^ m)を形成した。圧延処理後の該透明導電膜層中にある導電性 微粒子の充填密度は約 57vol%であった。

その透明導電層は、可視光透過率:92. 0%、ヘイズ値: 2. 2%、表面抵抗値: 62

5 Ω ロであった。これ以外は、実施例 1と同様にして行い、比較例 2に係る分散型 Ε L素子を得た。

[0061] 上記分散型 EL素子の電圧印加用リード線間に 100V、 400Hzの電圧を印加した ところ、分散型 EL素子は均一に発光し、その輝度測定したところ、 53CdZm2であつ た。

[比較例 3]

[0062] 比較例 2で、緻密に充填された ITO微粒子とバインダーで構成される透明導電層を 有する PETフィルムの代わりに、スパッタリング法により ITO層が厚さ 125 μ mの PET フィルム(ベースフィルム)上に形成された巿販のスパッタリング ITOフィルム(可視光 透過率: 92. 0%、ヘイズ値: 0%、表面抵抗値: 100 ΩΖ口)を用いた以外は、実施 例 1と同様にして行い、比較例 3に係る分散型 EL素子を得た。

[0063] 上記分散型 EL素子の電圧印加用リード線間に 100V、 400Hzの電圧を印加した ところ、分散型 EL素子は均一に発光し、その輝度測定したところ、 55CdZm2であつ た。

[0064] 尚、上述のスパッタリング ITOフィルムの透過率及びヘイズ値は、 ITO層だけの値 であり、それぞれ下記計算式 1及び 2により求められている。

[計算式 1]

ITO層の透過率(%) = [ (ITO層が形成されたベースフィルムごと測定した透過 率) Zベースフィルムの透過率] X 100

[計算式 2]

透明導電層のヘイズ値 (%) = (ITO層が形成されたベースフィルムごと測定した ヘイズ値)(ベースフイノレムのヘイズ値)

[0065] 『分散型 EL素子のフレキシビリティ評価』

各実施例と各比較例に係る分散型 EL素子を直径 3mmの棒にその発光面がそれ ぞれ内側、及び外側となるように 1回づっ卷きつけた後、分散型 EL素子の電圧印加 用リード線間に 100V、 400Hzの電圧を印加して、素子の発光状態を観察した。各 実施例においては、発光状態に変化は見られな力つた。比較例 2は、基材の PETフ イルムが 100 mと厚いため力、直径 3mmの棒に卷きづらぐ無理に巻いたところ、

一部素子に剥離部分が生じ、発光が不均一になった。比較例 3では、スパッタリング I TO層にクラックが生じ、ほとんどの部分で発光しなくなった。比較例 1は、もともと発 光が不均一だったので評価して、な!/、。

[0066] 『分散型 EL素子の耐溶剤性評価』

各実施例で、透明プラスチックフィルム表面上に透明導電層を形成した後、ァセト ンを浸した綿棒で透明導電層面を 10往復擦って外観変化を観察したが、全く変化が 見られなカゝつた。また、この評価を行った透明導電層を用い分散型 EL素子を作製し 、電圧印加用リード線間に 100V、 400Hzの電圧を印加して、素子の発光状態を観 察したが、綿棒で擦った部分を含めて発光は均一であり、アセトンによる影響は見ら れなかった。

図面の簡単な説明

[0067] [図 1]本発明に係る基本的構造の分散型 EL素子を示す断面図である。

[図 2]本発明に係る別な構造の分散型 EL素子を示す断面図である。

[図 3]本発明に係る更に別な構造の分散型 EL素子を示す断面図である。

符号の説明

1 透明プラスチックフィルム

2 透明導電層

3 蛍光体層

4 誘電体層

5 背面電極層

6 集 ^

7 絶縁保護層

8 第 2の透明導電層