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1. (WO2019065477) OPTICAL FILTER MANUFACTURING METHOD
Datos bibliográficos más recientes de la Oficina Internacional    Formular observación

Nº de publicación: WO/2019/065477 Nº de la solicitud internacional: PCT/JP2018/034941
Fecha de publicación: 04.04.2019 Fecha de presentación de la solicitud internacional: 21.09.2018
CIP:
G02B 5/20 (2006.01) ,G03F 7/004 (2006.01) ,H01L 27/146 (2006.01)
G FISICA
02
OPTICA
B
ELEMENTOS, SISTEMAS O APARATOS OPTICOS
5
Elementos ópticos distintos de las lentes
20
Filtros
G FISICA
03
FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TECNICAS ANALOGAS QUE UTILIZAN ONDAS DISTINTAS DE LAS ONDAS OPTICAS; ELECTROGRAFIA; HOLOGRAFIA
F
PRODUCCION POR VIA FOTOMECANICA DE SUPERFICIES TEXTURADAS, p. ej. PARA LA IMPRESION, PARA EL TRATAMIENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; MATERIALES A ESTE EFECTO; ORIGINALES A ESTE EFECTO; APARELLAJE ESPECIALMENTE ADAPTADO A ESTE EFECTO
7
Producción por vía fotomecánica, p. ej. fotolitográfica, de superficies texturadas, p. ej. superficies impresas; Materiales a este efecto, p. ej. conllevando fotorreservas; Aparellaje especialmente adaptado a este efecto
004
Materiales fotosensibles
04
Cromatos
H ELECTRICIDAD
01
ELEMENTOS ELECTRICOS BASICOS
L
DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; DISPOSITIVOS ELECTRICOS DE ESTADO SOLIDO NO PREVISTOS EN OTRO LUGAR
27
Dispositivos que consisten en una pluralidad de componentes semiconductores o de otros componentes de estado sólido formados en o sobre un sustrato común
14
con componentes semiconductores sensibles a los rayos infrarrojos, a la luz, a la radiación electromagnética de ondas más cortas o a la radiación corpuscular, y adaptados para convertir la energía de tales radiaciones en energía eléctrica, o bien como dispositivos de control de la energía eléctrica por tales radiaciones
144
Dispositivos controlados por radiación
146
Estructuras de captadores de imágenes
Solicitantes:
富士フイルム株式会社 FUJIFILM CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区西麻布2丁目26番30号 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620, JP
Personas inventoras:
奈良 裕樹 NARA Yuki; JP
大河原 昂広 OKAWARA Takahiro; JP
Mandataria/o:
特許業務法人特許事務所サイクス SIKS & CO.; 東京都中央区京橋一丁目8番7号 京橋日殖ビル8階 8th Floor, Kyobashi-Nisshoku Bldg., 8-7, Kyobashi 1-chome, Chuo-ku, Tokyo 1040031, JP
Datos de prioridad:
2017-18963329.09.2017JP
Título (EN) OPTICAL FILTER MANUFACTURING METHOD
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION DE FILTRE OPTIQUE
(JA) 光学フィルタの製造方法
Resumen:
(EN) Provided is an optical filter manufacturing method with which it is possible to accurately form pixels having high rectangularity in a region partitioned by a separating wall, or at a position corresponding to a region partitioned by a separating wall. The optical filter manufacturing method comprises: a step of forming a colored photosensitive composition layer by applying, onto a support having separating walls and including a plurality of regions partitioned by the separating walls, a colored photosensitive composition which includes a colorant and a curable compound, the colored photosensitive composition containing the colorant by not less than 10 mass% in a total solid content; a step of irradiating, using a scanner exposure machine, the colored photosensitive composition layer with light of a wavelength of not more than 300 nm to expose the colored photosensitive composition layer in a pattern; and a step of developing and removing an unexposed portion of the colored photosensitive composition layer, and forming pixels in the regions partitioned by the separating walls, or at positions corresponding to the regions partitioned by the separating walls.
(FR) La présente invention concerne un procédé de fabrication de filtre optique avec lequel il est possible de former avec précision des pixels ayant une rectangularité élevée dans une région divisée par une paroi de séparation, ou à une position correspondant à une région divisée par une paroi de séparation. Le procédé de fabrication de filtre optique comprend : une étape de formation d'une couche de composition photosensible colorée par application, sur un support ayant des parois de séparation et comprenant une pluralité de régions séparées par les parois de séparation, d'une composition photosensible colorée qui comprend un colorant et un composé durcissable, la composition photosensible colorée contenant le colorant en une quantité supérieure ou égale à 10 % en masse dans un contenu solide total ; une étape d'irradiation, à l'aide d'une machine d'exposition de scanner, de la couche de composition photosensible colorée ayant une lumière d'une longueur d'onde inférieure ou égale à 300 nm pour exposer la couche de composition photosensible colorée selon un motif ; et une étape de développement et de retrait d'une partie non exposée de la couche de composition photosensible colorée, et de formation de pixels dans les régions divisées par les parois de séparation, ou à des positions correspondant aux régions divisées par les parois de séparation.
(JA) 隔壁で区画された領域内、または、隔壁で区画された領域に対応する位置に矩形性の良い画素を精度よく形成できる光学フィルタの製造方法を提供する。この光学フィルタの製造方法は、隔壁を有する支持体であって、隔壁で区画された複数の領域が設けられた支持体上に、色材と硬化性化合物とを含み色材を全固形分中に10質量%以上含有する着色感光性組成物を塗布して着色感光性組成物層を形成する工程と、スキャナ露光機を用いて着色感光性組成物層に波長300nm以下の光を照射して着色感光性組成物層をパターン状に露光する工程と、未露光部の着色感光性組成物層を現像除去して、隔壁で区画された領域内、または、隔壁で区画された領域に対応する位置に画素を形成する工程と、を含む。
Estados designados: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Oficina Eurasiática de Patentes (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Oficina Europea de Patentes (OEP) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organización Africana de la Propiedad Intelectual (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Idioma de publicación: Japonés (JA)
Idioma de la solicitud: Japonés (JA)