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1. (WO2019064530) ELECTRON BEAM APPARATUS, DEVICE MANUFACTURING METHOD, EXPOSURE METHOD, AND PHOTOELECTRIC ELEMENT
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Nº de publicación: WO/2019/064530 Nº de la solicitud internacional: PCT/JP2017/035598
Fecha de publicación: 04.04.2019 Fecha de presentación de la solicitud internacional: 29.09.2017
CIP:
H01L 21/027 (2006.01) ,G03F 7/20 (2006.01) ,H01J 37/073 (2006.01)
H ELECTRICIDAD
01
ELEMENTOS ELECTRICOS BASICOS
L
DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; DISPOSITIVOS ELECTRICOS DE ESTADO SOLIDO NO PREVISTOS EN OTRO LUGAR
21
Procedimientos o aparatos especialmente adaptados para la fabricación o el tratamiento de dispositivos semiconductores o de dispositivos de estado sólido, o bien de sus partes constitutivas
02
Fabricación o tratamiento de dispositivos semiconductores o de sus partes constitutivas
027
Fabricación de máscaras sobre cuerpos semiconductores para tratamiento fotolitográfico ulterior, no prevista en el grupoH01L21/18óH01L21/34232
G FISICA
03
FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TECNICAS ANALOGAS QUE UTILIZAN ONDAS DISTINTAS DE LAS ONDAS OPTICAS; ELECTROGRAFIA; HOLOGRAFIA
F
PRODUCCION POR VIA FOTOMECANICA DE SUPERFICIES TEXTURADAS, p. ej. PARA LA IMPRESION, PARA EL TRATAMIENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; MATERIALES A ESTE EFECTO; ORIGINALES A ESTE EFECTO; APARELLAJE ESPECIALMENTE ADAPTADO A ESTE EFECTO
7
Producción por vía fotomecánica, p. ej. fotolitográfica, de superficies texturadas, p. ej. superficies impresas; Materiales a este efecto, p. ej. conllevando fotorreservas; Aparellaje especialmente adaptado a este efecto
20
Exposición; Aparellaje a este efecto
H ELECTRICIDAD
01
ELEMENTOS ELECTRICOS BASICOS
J
TUBOS DE DESCARGA ELECTRICA O LAMPARAS DE DESCARGA ELECTRICA
37
Tubos de descarga provistos de medios o de un material para ser expuestos a la descarga, p. ej. con el propósito de sufrir un examen o tratamiento
02
Detalles
04
Disposiciones de electrodos y partes asociadas para generar o controlar la descarga, p. ej. dispositivo electronóptico, dispositivo ionóptico
06
Fuentes de electrones; Cañones electrónicos
073
Cañones de electrones que utilizan fuentes de electrones de emisión por efecto del campo, de fotoemisión secundaria
Solicitantes:
株式会社ニコン NIKON CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区港南二丁目15番3号 15-3, Konan 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1086290, JP
Personas inventoras:
佐藤 真路 SATO, Shinji; JP
Mandataria/o:
立石 篤司 TATEISHI, Atsuji; JP
Datos de prioridad:
Título (EN) ELECTRON BEAM APPARATUS, DEVICE MANUFACTURING METHOD, EXPOSURE METHOD, AND PHOTOELECTRIC ELEMENT
(FR) APPAREIL À FAISCEAU ÉLECTRONIQUE, PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF, PROCÉDÉ D'EXPOSITION ET ÉLÉMENT PHOTOÉLECTRIQUE
(JA) 電子ビーム装置、デバイス製造方法、露光方法及び光電素子
Resumen:
(EN) An electron beam apparatus comprises: a plurality of light emitting units (84a); and an electron beam optical system that makes electrons into a plurality of electron beams (EB) and can bombard a target therewith, said electrons being emitted from a photoelectric conversion layer (60) by the photoelectric conversion layer (60) being irradiated with a plurality of light beams (LB) due to the light emission of the plurality of light emitting units, wherein the lights from each of the plurality of light emitting units are incident on the photoelectric conversion layer (60) without passing through a space.
(FR) Cette invention concerne un appareil à faisceau électronique, comprenant : une pluralité d'unités d'émission de lumière (84a) ; et un système optique à faisceau électronique qui forme des électrons en une pluralité de faisceaux électroniques (EB) et peut bombarder une cible avec ceux-ci, lesdits électrons étant émis à partir d'une couche de conversion photoélectrique (60) sous l'effet de l'irradiation de couche de conversion photoélectrique (60) par une pluralité de faisceaux lumineux (LB) provenant de l'émission de lumière de la pluralité d'unités d'émission de lumière, la lumière provenant de chacune de la pluralité d'unités d'émission de lumière étant incidente sur la couche de conversion photoélectrique (60) sans passer à travers un espace.
(JA) 電子ビーム装置は、複数の発光部(84a)と、複数の発光部の発光により複数の光ビーム(LB)が光電変換層(60)に照射されることによって光電変換層(60)から放出される電子を複数の電子ビーム(EB)としてターゲットに照射可能な電子ビーム光学系と、を備え、複数の発光部それぞれからの光は、空間を介さずに光電変換層(60)に入射する。
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Organización Africana de la Propiedad Intelectual (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Idioma de publicación: Japonés (JA)
Idioma de la solicitud: Japonés (JA)