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1. (WO2019064520) ELECTRON BEAM APPARATUS, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
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Nº de publicación: WO/2019/064520 Nº de la solicitud internacional: PCT/JP2017/035577
Fecha de publicación: 04.04.2019 Fecha de presentación de la solicitud internacional: 29.09.2017
CIP:
H01L 21/027 (2006.01) ,G03F 7/20 (2006.01)
H ELECTRICIDAD
01
ELEMENTOS ELECTRICOS BASICOS
L
DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; DISPOSITIVOS ELECTRICOS DE ESTADO SOLIDO NO PREVISTOS EN OTRO LUGAR
21
Procedimientos o aparatos especialmente adaptados para la fabricación o el tratamiento de dispositivos semiconductores o de dispositivos de estado sólido, o bien de sus partes constitutivas
02
Fabricación o tratamiento de dispositivos semiconductores o de sus partes constitutivas
027
Fabricación de máscaras sobre cuerpos semiconductores para tratamiento fotolitográfico ulterior, no prevista en el grupoH01L21/18óH01L21/34232
G FISICA
03
FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TECNICAS ANALOGAS QUE UTILIZAN ONDAS DISTINTAS DE LAS ONDAS OPTICAS; ELECTROGRAFIA; HOLOGRAFIA
F
PRODUCCION POR VIA FOTOMECANICA DE SUPERFICIES TEXTURADAS, p. ej. PARA LA IMPRESION, PARA EL TRATAMIENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; MATERIALES A ESTE EFECTO; ORIGINALES A ESTE EFECTO; APARELLAJE ESPECIALMENTE ADAPTADO A ESTE EFECTO
7
Producción por vía fotomecánica, p. ej. fotolitográfica, de superficies texturadas, p. ej. superficies impresas; Materiales a este efecto, p. ej. conllevando fotorreservas; Aparellaje especialmente adaptado a este efecto
20
Exposición; Aparellaje a este efecto
Solicitantes:
株式会社ニコン NIKON CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区港南二丁目15番3号 15-3, Konan 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1086290, JP
Personas inventoras:
佐藤 真路 SATO, Shinji; JP
Mandataria/o:
立石 篤司 TATEISHI, Atsuji; JP
Datos de prioridad:
Título (EN) ELECTRON BEAM APPARATUS, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
(FR) APPAREIL À FAISCEAU D'ÉLECTRONS, ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF
(JA) 電子ビーム装置及びデバイス製造方法
Resumen:
(EN) An electron beam exposure apparatus using a photoelectric element (54i) that produces electrons due to irradiation with light comprises: a light optical system (80i) that has an optical device (84i) capable of supplying a plurality of light beams, and a projection system (86i) located between the optical device and the positioning location of the photoelectric element (54i); an electron optical system that makes electrons into an electron beam and bombards a target therewith, said electrons being produced from the photoelectric element (54i) due to irradiation with at least one light beam from the light optical system; and an adjustment apparatus that can adjust the location of the optical device.
(FR) La présente invention concerne un appareil d'exposition à un faisceau d'électrons faisant appel à un élément photoélectrique (54i) qui produit des électrons au moyen d'un rayonnement lumineux, comprenant : un système lumineux optique (80i) qui comporte un dispositif optique (84i) pouvant fournir une pluralité de faisceaux lumineux, et un système de projection (86i) situé entre le dispositif optique et l'emplacement de positionnement de l'élément photoélectrique (54i) ; un système optoélectronique qui forme un faisceau d'électrons à partir d'électrons et bombarde une cible à l'aide dudit faisceau d'électrons, lesdits électrons étant produits à partir de l'élément photoélectrique (54i) au moyen du rayonnement d'au moins un faisceau lumineux provenant du système lumineux optique ; et un appareil de réglage qui peut régler l'emplacement du dispositif optique.
(JA) 光の照射により電子を発生する光電素子(54)を用いる電子ビーム露光装置は、複数の光ビームを提供可能な光学デバイス(84)、及び光学デバイスと光電素子(54)の配置位置との間に位置する投影系(86)を有する光光学系(80)と、光光学系からの少なくとも1つの光ビームの照射により光電素子(54)から発生する電子を電子ビームとしてターゲットに照射する電子光学系と、光学デバイスの位置を調整可能な調整装置と、を備える。
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Estados designados: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Oficina Eurasiática de Patentes (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
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Organización Africana de la Propiedad Intelectual (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Idioma de publicación: Japonés (JA)
Idioma de la solicitud: Japonés (JA)