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1. (WO2019064472) UV LIGHT IRRADIATION DEVICE AND UV LIGHT IRRADIATION METHOD
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Nº de publicación: WO/2019/064472 Nº de la solicitud internacional: PCT/JP2017/035416
Fecha de publicación: 04.04.2019 Fecha de presentación de la solicitud internacional: 29.09.2017
CIP:
G03F 7/20 (2006.01)
G FISICA
03
FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TECNICAS ANALOGAS QUE UTILIZAN ONDAS DISTINTAS DE LAS ONDAS OPTICAS; ELECTROGRAFIA; HOLOGRAFIA
F
PRODUCCION POR VIA FOTOMECANICA DE SUPERFICIES TEXTURADAS, p. ej. PARA LA IMPRESION, PARA EL TRATAMIENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; MATERIALES A ESTE EFECTO; ORIGINALES A ESTE EFECTO; APARELLAJE ESPECIALMENTE ADAPTADO A ESTE EFECTO
7
Producción por vía fotomecánica, p. ej. fotolitográfica, de superficies texturadas, p. ej. superficies impresas; Materiales a este efecto, p. ej. conllevando fotorreservas; Aparellaje especialmente adaptado a este efecto
20
Exposición; Aparellaje a este efecto
Solicitantes:
シャープ株式会社 SHARP KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 大阪府堺市堺区匠町1番地 1, Takumi-cho, Sakai-ku, Sakai City, Osaka 5908522, JP
Personas inventoras:
昼岡 正樹 HIRUOKA, Masaki; --
Mandataria/o:
特許業務法人HARAKENZO WORLD PATENT & TRADEMARK HARAKENZO WORLD PATENT & TRADEMARK; 大阪府大阪市北区天神橋2丁目北2番6号 大和南森町ビル Daiwa Minamimorimachi Building, 2-6, Tenjinbashi 2-chome Kita, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5300041, JP
Datos de prioridad:
Título (EN) UV LIGHT IRRADIATION DEVICE AND UV LIGHT IRRADIATION METHOD
(FR) DISPOSITIF DE RAYONNEMENT DE LUMIÈRE UV ET PROCÉDÉ DE RAYONNEMENT DE LUMIÈRE UV
(JA) UV光照射装置及びUV光照射方法
Resumen:
(EN) Disclosed is an UV light irradiation device (1) wherein: a supporting pin (20) supports a subject (50) to be irradiated with UV light (A) at the time of irradiating the subject (50) with the UV light; and a difference between the UV light (A) reflectance of a leading end section (22) of the supporting pin (20) and that of a surface (12) of a stage (10) is equal to 1 % or lower.
(FR) L'invention concerne un dispositif de rayonnement de lumière UV (1) dans lequel : une broche de support (20) supporte un sujet (50) à irradier avec une lumière UV (A) au moment de l'irradiation du sujet (50) avec la lumière UV; et une différence entre la réflectance de la lumière UV (A) d'une section d'extrémité avant (22) de la broche de support (20) et celle d'une surface (12) d'un étage (10) est égale à 1 % ou moins.
(JA) 支持ピン(20)は、被照射体(50)にUV光(A)を照射する際、被照射体(50)を支持し、支持ピン(20)の先端部(22)とステージ(10)の表面(12)との、UV光(A)の反射率の差が1%以下であるUV光照射装置(1)。
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Organización Regional Africana de la Propiedad Intelectual (ORAPI) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Organización Eurasiática de Patentes (OEAP) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Oficina Europea de Patentes (OEP) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organización Africana de la Propiedad Intelectual (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Idioma de publicación: Japonés (JA)
Idioma de la solicitud: Japonés (JA)