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1. (WO2019061724) ARRAY SUBSTRATE EMPLOYING BPS TECHNOLOGY AND MANUFACTURING METHOD THEREOF
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Nº de publicación: WO/2019/061724 Nº de la solicitud internacional: PCT/CN2017/110979
Fecha de publicación: 04.04.2019 Fecha de presentación de la solicitud internacional: 15.11.2017
CIP:
G02F 1/1339 (2006.01) ,G02F 1/1362 (2006.01) ,G02F 1/1368 (2006.01) ,G02F 1/1335 (2006.01)
G FISICA
02
OPTICA
F
DISPOSITIVOS O SISTEMAS CUYO FUNCIONAMIENTO OPTICO SE MODIFICA POR EL CAMBIO DE LAS PROPIEDADES OPTICAS DEL MEDIO QUE CONSTITUYE A ESTOS DISPOSITIVOS O SISTEMAS Y DESTINADOS AL CONTROL DE LA INTENSIDAD, COLOR, FASE, POLARIZACION O DE LA DIRECCION DE LA LUZ, p. ej. CONMUTACION, APERTURA DE PUERTA, MODULACION O DEMODULACION; TECNICAS NECESARIAS PARA EL FUNCIONAMIENTO DE ESTOS DISPOSITIVOS O SISTEMAS; CAMBIO DE FRECUENCIA; OPTICA NO LINEAL; ELEMENTOS OPTICOS LOGICOS; CONVERTIDORES OPTICOS ANALOGICO/DIGITALES
1
Dispositivos o sistemas para el control de la intensidad, color, fase, polarización o de la dirección de la luz que llega de una fuente de luz independiente, p. ej. conmutación, apertura de puerta o modulación; Optica no lineal
01
para el control de la intensidad, fase, polarización o del color
13
basados en cristales líquidos, p. ej. celdas de presentación individuales de cristales líquidos
133
Disposiciones relativas a la estructura; Excitación de celdas de cristales líquidos; Disposiciones relativas a los circuitos
1333
Disposiciones relativas a la estructura
1339
Juntas; Elementos de separación; Sellado de la celda
G FISICA
02
OPTICA
F
DISPOSITIVOS O SISTEMAS CUYO FUNCIONAMIENTO OPTICO SE MODIFICA POR EL CAMBIO DE LAS PROPIEDADES OPTICAS DEL MEDIO QUE CONSTITUYE A ESTOS DISPOSITIVOS O SISTEMAS Y DESTINADOS AL CONTROL DE LA INTENSIDAD, COLOR, FASE, POLARIZACION O DE LA DIRECCION DE LA LUZ, p. ej. CONMUTACION, APERTURA DE PUERTA, MODULACION O DEMODULACION; TECNICAS NECESARIAS PARA EL FUNCIONAMIENTO DE ESTOS DISPOSITIVOS O SISTEMAS; CAMBIO DE FRECUENCIA; OPTICA NO LINEAL; ELEMENTOS OPTICOS LOGICOS; CONVERTIDORES OPTICOS ANALOGICO/DIGITALES
1
Dispositivos o sistemas para el control de la intensidad, color, fase, polarización o de la dirección de la luz que llega de una fuente de luz independiente, p. ej. conmutación, apertura de puerta o modulación; Optica no lineal
01
para el control de la intensidad, fase, polarización o del color
13
basados en cristales líquidos, p. ej. celdas de presentación individuales de cristales líquidos
133
Disposiciones relativas a la estructura; Excitación de celdas de cristales líquidos; Disposiciones relativas a los circuitos
136
Celdas de cristales líquidos asociados estructuralmente con una capa o un sustrato semiconductores, p. ej. celdas que forman parte de un circuito integrado
1362
Celdas direccionadas por una matriz activa
G FISICA
02
OPTICA
F
DISPOSITIVOS O SISTEMAS CUYO FUNCIONAMIENTO OPTICO SE MODIFICA POR EL CAMBIO DE LAS PROPIEDADES OPTICAS DEL MEDIO QUE CONSTITUYE A ESTOS DISPOSITIVOS O SISTEMAS Y DESTINADOS AL CONTROL DE LA INTENSIDAD, COLOR, FASE, POLARIZACION O DE LA DIRECCION DE LA LUZ, p. ej. CONMUTACION, APERTURA DE PUERTA, MODULACION O DEMODULACION; TECNICAS NECESARIAS PARA EL FUNCIONAMIENTO DE ESTOS DISPOSITIVOS O SISTEMAS; CAMBIO DE FRECUENCIA; OPTICA NO LINEAL; ELEMENTOS OPTICOS LOGICOS; CONVERTIDORES OPTICOS ANALOGICO/DIGITALES
1
Dispositivos o sistemas para el control de la intensidad, color, fase, polarización o de la dirección de la luz que llega de una fuente de luz independiente, p. ej. conmutación, apertura de puerta o modulación; Optica no lineal
01
para el control de la intensidad, fase, polarización o del color
13
basados en cristales líquidos, p. ej. celdas de presentación individuales de cristales líquidos
133
Disposiciones relativas a la estructura; Excitación de celdas de cristales líquidos; Disposiciones relativas a los circuitos
136
Celdas de cristales líquidos asociados estructuralmente con una capa o un sustrato semiconductores, p. ej. celdas que forman parte de un circuito integrado
1362
Celdas direccionadas por una matriz activa
1368
en los que el elemento de conmutación es un dispositivo de tres electrodos
G FISICA
02
OPTICA
F
DISPOSITIVOS O SISTEMAS CUYO FUNCIONAMIENTO OPTICO SE MODIFICA POR EL CAMBIO DE LAS PROPIEDADES OPTICAS DEL MEDIO QUE CONSTITUYE A ESTOS DISPOSITIVOS O SISTEMAS Y DESTINADOS AL CONTROL DE LA INTENSIDAD, COLOR, FASE, POLARIZACION O DE LA DIRECCION DE LA LUZ, p. ej. CONMUTACION, APERTURA DE PUERTA, MODULACION O DEMODULACION; TECNICAS NECESARIAS PARA EL FUNCIONAMIENTO DE ESTOS DISPOSITIVOS O SISTEMAS; CAMBIO DE FRECUENCIA; OPTICA NO LINEAL; ELEMENTOS OPTICOS LOGICOS; CONVERTIDORES OPTICOS ANALOGICO/DIGITALES
1
Dispositivos o sistemas para el control de la intensidad, color, fase, polarización o de la dirección de la luz que llega de una fuente de luz independiente, p. ej. conmutación, apertura de puerta o modulación; Optica no lineal
01
para el control de la intensidad, fase, polarización o del color
13
basados en cristales líquidos, p. ej. celdas de presentación individuales de cristales líquidos
133
Disposiciones relativas a la estructura; Excitación de celdas de cristales líquidos; Disposiciones relativas a los circuitos
1333
Disposiciones relativas a la estructura
1335
Asociación estructural de dispositivos ópticos, p. ej. de polarizadores, reflectores con la celda
Solicitantes:
深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 SHENZHEN CHINA STAR OPTOELECTRONICS SEMICONDUCTOR DISPLAY TECHNOLOGY CO.,LTD. [CN/CN]; 中国广东省深圳 光明新区公明街道塘明大道9-2号 No.9-2,Tangming Road,Gongming Street,Guangming new district Shenzhen, Guangdong 518132, CN
Personas inventoras:
于承忠 YU, Chengzhong; CN
Mandataria/o:
深圳市德力知识产权代理事务所 COMIPS INTELLECTUAL PROPERTY OFFICE; 中国广东省深圳市 福田区上步中路深勘大厦15E Room 15E Shenkan Building, Shangbu Zhong Road, Futian District Shenzhen, Guangdong 518028, CN
Datos de prioridad:
201710884327.326.09.2017CN
Título (EN) ARRAY SUBSTRATE EMPLOYING BPS TECHNOLOGY AND MANUFACTURING METHOD THEREOF
(FR) SUBSTRAT DE RÉSEAU UTILISANT LA TECHNOLOGIE BPS, ET PROCÉDÉ DE FABRICATION ASSOCIÉ
(ZH) BPS型阵列基板及其制作方法
Resumen:
(EN) An array substrate employing BPS technology and a manufacturing method thereof. The manufacturing method of an array substrate employing BPS technology involves provision of a black matrix (83), a main photo spacer (81) and a sub photo spacer (82) at an array substrate in the same manufacturing process, such that production time and production costs can be reduced, thereby increasing product competitiveness. A thickness of a color resist unit (41) is employed to realize a height difference between the main photo spacer (81) and the black matrix (83). The thickness of the color resist unit (41) is also employed, in combination with control of optical transmittance of a mask, to realize a height difference between the sub photo spacer (82) and the black matrix (83), such that heights of the main photo spacer (81) and the sub photo spacer (82) can be controlled easily. Since a region of a black light-shielding film (60) at which the black matrix (83) is correspondingly formed corresponds to a fully transparent region (72) of a mask plate in an exposure process and is exposed to an adequate dose of ultraviolet radiation during exposure, a BPS material undergoes a thorough cross-linking reaction, has high stability, and is less affected by a developing solution in a developing process, such that the BPS material is not dissolved, thereby ensuring a uniform film thickness of the black matrix (83).
(FR) L'invention a trait à un substrat de réseau utilisant la technologie BPS, et à un procédé de fabrication associé. Le procédé de fabrication d'un substrat de réseau utilisant la technologie BPS consiste à utiliser une matrice noire (83), une entretoise photographique principale (81) et une entretoise photographique secondaire (82) à l'emplacement d'un substrat de réseau au cours du même processus de fabrication, de telle sorte que le temps de production et les coûts de production puissent être réduits, ce qui permet d'accroître la compétitivité du produit. L'épaisseur d'une unité de réserve de couleur (41) est utilisée pour réaliser une différence de hauteur entre l'entretoise photographique principale (81) et la matrice noire (83). L'épaisseur de l'unité de réserve de couleur (41) est également utilisée, en association avec le réglage de la transmittance optique d'un masque, pour réaliser une différence de hauteur entre ladite entretoise photographique secondaire (82) et ladite matrice noire (83), de telle sorte que les hauteurs de l'entretoise photographique principale (81) et de cette entretoise photographique secondaire (82) puissent être facilement réglées. Puisqu'une région d'un film noir de protection contre la lumière (60) à l'emplacement duquel la matrice noire (83) est formée de manière correspondante correspond à une région entièrement transparente (72) d'une plaque de masque lors d'un processus d'exposition et qu'elle est exposée à une dose appropriée de rayonnement ultraviolet pendant l'exposition, un matériau BPS subit une réaction de réticulation approfondie, présente une stabilité élevée, et est moins altéré par une solution de développement au cours d'un processus de développement, de telle sorte que le matériau BPS ne soit pas dissout, ce qui garantit une épaisseur de film constante de la matrice noire (83).
(ZH) 一种BPS型阵列基板及其制作方法。BPS型阵列基板的制作方法将黑色矩阵(83)、主隔垫物(81)、副隔垫物(82)均设于阵列基板上并在同一制程中实现,能够缩减生产时间,降低生产成本,提高产品竞争力;利用色阻单元(41)的厚度来实现主隔垫物(81)与黑色矩阵(83)的高度差,同时利用色阻单元(41)的厚度并通过控制掩膜板的透光率来实现副隔垫物(82)与黑色矩阵(83)的高度差,使主隔垫物(81)与副隔垫物(82)的高度更易于控制;黑色遮光膜层(60)上对应形成黑色矩阵(83)的区域在曝光过程中对应的掩膜板区域为全透光区(72),曝光时受到的紫外线照射剂量充足,交联反应完全,因而稳定性较高,在显影过程中受到显影液的影响较小,不会被溶解,从而保证黑色矩阵(83)的膜厚均匀性较好。
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Estados designados: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organización Regional Africana de la Propiedad Intelectual (ORAPI) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Organización Eurasiática de Patentes (OEAP) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Oficina Europea de Patentes (OEP) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organización Africana de la Propiedad Intelectual (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Idioma de publicación: Chino (ZH)
Idioma de la solicitud: Chino (ZH)