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1. (WO2019050365) POROUS POLYURETHANE POLISHING PAD AND METHOD FOR MANUFACTURING SAME
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Nº de publicación: WO/2019/050365 Nº de la solicitud internacional: PCT/KR2018/010562
Fecha de publicación: 14.03.2019 Fecha de presentación de la solicitud internacional: 10.09.2018
CIP:
B24D 3/32 (2006.01) ,B24D 18/00 (2006.01) ,C08L 75/04 (2006.01) ,C08J 9/04 (2006.01) ,C08J 9/00 (2006.01)
B TECNICAS INDUSTRIALES DIVERSAS; TRANSPORTES
24
TRABAJO CON MUELA; PULIDO
D
HERRAMIENTAS PARA TRABAJAR CON MUELA, PULIR O AFILAR
3
Propiedades físicas de los cuerpos u hojas abrasivas, p. ej. superficies abrasivas de naturaleza especial; Cuerpos u hojas abrasivos caracterizados por sus constituyentes
02
siendo utilizados los constituyentes como aglomerantes
20
y siendo esencialmente orgánicos
28
de resinas
32
con estructura porosa o alveolar
B TECNICAS INDUSTRIALES DIVERSAS; TRANSPORTES
24
TRABAJO CON MUELA; PULIDO
D
HERRAMIENTAS PARA TRABAJAR CON MUELA, PULIR O AFILAR
18
Fabricación de herramientas para trabajar con muelas, p. ej. ruedas no previstas en otro lugar
C QUIMICA; METALURGIA
08
COMPUESTOS MACROMOLECULARES ORGANICOS; SU PREPARACION O PRODUCCION QUIMICA; COMPOSICIONES BASADAS EN COMPUESTOS MACROMOLECULARES
L
COMPOSICIONES DE COMPUESTOS MACROMOLECULARES
75
Composiciones de poliureas o poliuretanos; Composiciones de los derivados de tales polímeros
04
Poliuretanos
C QUIMICA; METALURGIA
08
COMPUESTOS MACROMOLECULARES ORGANICOS; SU PREPARACION O PRODUCCION QUIMICA; COMPOSICIONES BASADAS EN COMPUESTOS MACROMOLECULARES
J
PRODUCCION; PROCESOS GENERALES PARA FORMAR MEZCLAS; TRATAMIENTO POSTERIOR NO CUBIERTO POR LAS SUBCLASES C08B , C08C , C08F , C08G o C08H285
9
Producción de sustancias macromoleculares para producir artículos o materiales porosos o celulares; Su tratamiento posterior
04
utilizando gases de soplado generados por una adición previa de agente de soplado
C QUIMICA; METALURGIA
08
COMPUESTOS MACROMOLECULARES ORGANICOS; SU PREPARACION O PRODUCCION QUIMICA; COMPOSICIONES BASADAS EN COMPUESTOS MACROMOLECULARES
J
PRODUCCION; PROCESOS GENERALES PARA FORMAR MEZCLAS; TRATAMIENTO POSTERIOR NO CUBIERTO POR LAS SUBCLASES C08B , C08C , C08F , C08G o C08H285
9
Producción de sustancias macromoleculares para producir artículos o materiales porosos o celulares; Su tratamiento posterior
Solicitantes:
에스케이씨 주식회사 SKC CO., LTD. [KR/KR]; 경기도 수원시 장안구 장안로 309번길 84 84, Jangan-ro 309beon-gil, Jangan-gu, Suwon-si, Gyeonggi-do 16336, KR
Personas inventoras:
서장원 SEO, Jang Won; KR
한혁희 HAN, Hyuk Hee; KR
허혜영 HEO, Hye Young; KR
류준성 RYOU, Joonsung; KR
권영필 KWON, Young Pil; KR
Mandataria/o:
제일특허법인(유) FIRSTLAW P.C.; 서울시 서초구 마방로 60 60 Mabang-Ro, Seocho-Ku, Seoul 06775, KR
Datos de prioridad:
10-2017-011606911.09.2017KR
10-2017-011610811.09.2017KR
Título (EN) POROUS POLYURETHANE POLISHING PAD AND METHOD FOR MANUFACTURING SAME
(FR) TAMPON DE POLISSAGE EN POLYURÉTHANE POREUX ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
(KO) 다공성 폴리우레탄 연마패드 및 이의 제조방법
Resumen:
(EN) An embodiment relates to a porous polyurethane polishing pad used in a chemical mechanical planarization process of a semiconductor, and a method for manufacturing the same, wherein polishing performance of the porous polyurethane polishing pad can be controlled by controlling the size and distribution of pores by using thermally expanded microcapsules as a solid phase forming agent, and an inert gas as a gas phase foaming agent.
(FR) Un mode de réalisation de l'invention concerne un tampon de polissage en polyuréthane poreux utilisé dans un procédé de planarisation mécano-chimique d'un semi-conducteur, et son procédé de fabrication, la performance de polissage du tampon de polissage en polyuréthane poreux pouvant être contrôlée en contrôlant la taille et de la distribution des pores grâce à l'utilisation de microcapsules thermiquement expansées en tant qu'agent de formation de phase solide, et d'un gaz inerte en tant qu'agent moussant en phase gazeuse.
(KO) 구현예는 반도체의 화학적 기계적 평탄화 공정에 사용되는 다공성 폴리우레탄 연마패드 및 이의 제조방법에 관한 것으로서, 상기 다공성 폴리우레탄 연마패드는 고상 발포제인 열팽창된 마이크로 캡슐 및 기상 발포제인 불활성 기체를 사용하여 포어의 크기 및 분포를 조절함으로써, 연마성능을 조절할 수 있다.
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Estados designados: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Oficina Eurasiática de Patentes (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Oficina Europea de Patentes (OEP) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organización Africana de la Propiedad Intelectual (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Idioma de publicación: Coreano (KO)
Idioma de la solicitud: Coreano (KO)