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1. (WO2019046141) TRAINING A LEARNING BASED DEFECT CLASSIFIER
Datos bibliográficos más recientes de la Oficina Internacional    Formular observación

Nº de publicación: WO/2019/046141 Nº de la solicitud internacional: PCT/US2018/048042
Fecha de publicación: 07.03.2019 Fecha de presentación de la solicitud internacional: 27.08.2018
CIP:
H01L 21/66 (2006.01)
H ELECTRICIDAD
01
ELEMENTOS ELECTRICOS BASICOS
L
DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; DISPOSITIVOS ELECTRICOS DE ESTADO SOLIDO NO PREVISTOS EN OTRO LUGAR
21
Procedimientos o aparatos especialmente adaptados para la fabricación o el tratamiento de dispositivos semiconductores o de dispositivos de estado sólido, o bien de sus partes constitutivas
66
Ensayos o medidas durante la fabricación o tratamiento
Solicitantes:
KLA-TENCOR CORPORATION [US/US]; Legal Department One Technology Drive Milpitas, California 95035, US
Personas inventoras:
BRAUER, Bjorn; US
Mandataria/o:
MCANDREWS, Kevin; US
MORRIS, Elizabeth M. N; US
Datos de prioridad:
16/109,63122.08.2018US
62/553,35101.09.2017US
Título (EN) TRAINING A LEARNING BASED DEFECT CLASSIFIER
(FR) FORMATION D'UN CLASSIFICATEUR DE DÉFAUTS BASÉ SUR L'APPRENTISSAGE
Resumen:
(EN) Methods and systems for training a learning based defect classifier are provided. One method includes training a learning based defect classifier with a training set of defects that includes identified defects of interest (DOIs) and identified nuisances. The DOIs and nuisances in the training set include DOIs and nuisances identified on at least one training wafer and at least one inspection wafer. The at least one training wafer is known to have an abnormally high defectivity and the at least one inspection wafer is expected to have normal defectivity.
(FR) La présente invention concerne des procédés et des systèmes pour la formation d'un classificateur de défauts basé sur l'apprentissage. Un procédé comprend la formation d'un classificateur de défauts basé sur l'apprentissage avec un ensemble de formation de défauts qui comprend des défauts d'intérêt (DOI) identifiés et des nuisances identifiées. Les DOI et les nuisances dans l'ensemble de formation comprennent des DOI et des nuisances identifiés sur au moins une plaquette de formation et au moins une tranche d'inspection. L'une ou les plaquettes de formation sont connues pour avoir une défectivité anormalement élevée et l'une ou les plaquettes d'inspection sont censées avoir une défectivité normale.
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Estados designados: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Oficina Eurasiática de Patentes (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Oficina Europea de Patentes (OEP) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organización Africana de la Propiedad Intelectual (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Idioma de publicación: Inglés (EN)
Idioma de la solicitud: Inglés (EN)