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1. (WO2019045340) SUBSTRATE PLACING MEANS AND SUBSTRATE TREATING DEVICE
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Nº de publicación: WO/2019/045340 Nº de la solicitud internacional: PCT/KR2018/009507
Fecha de publicación: 07.03.2019 Fecha de presentación de la solicitud internacional: 20.08.2018
CIP:
H01L 21/687 (2006.01) ,H01L 21/67 (2006.01) ,H01L 21/683 (2006.01)
H ELECTRICIDAD
01
ELEMENTOS ELECTRICOS BASICOS
L
DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; DISPOSITIVOS ELECTRICOS DE ESTADO SOLIDO NO PREVISTOS EN OTRO LUGAR
21
Procedimientos o aparatos especialmente adaptados para la fabricación o el tratamiento de dispositivos semiconductores o de dispositivos de estado sólido, o bien de sus partes constitutivas
67
Aparatos especialmente adaptados para el manejo de dispositivos semiconductores o eléctricos de estado sólido durante su fabricación o tratamiento; Aparatos especialmente adaptados para el manejo de obleas durante la fabricación o tratamiento de dispositivos o componentes semiconductores o eléctricos de estado sólido
683
para sostener o sujetar
687
que utilizan medios mecánicos, p. ej. mandiles, abrazaderas o pinzas
H ELECTRICIDAD
01
ELEMENTOS ELECTRICOS BASICOS
L
DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; DISPOSITIVOS ELECTRICOS DE ESTADO SOLIDO NO PREVISTOS EN OTRO LUGAR
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Procedimientos o aparatos especialmente adaptados para la fabricación o el tratamiento de dispositivos semiconductores o de dispositivos de estado sólido, o bien de sus partes constitutivas
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Aparatos especialmente adaptados para el manejo de dispositivos semiconductores o eléctricos de estado sólido durante su fabricación o tratamiento; Aparatos especialmente adaptados para el manejo de obleas durante la fabricación o tratamiento de dispositivos o componentes semiconductores o eléctricos de estado sólido
H ELECTRICIDAD
01
ELEMENTOS ELECTRICOS BASICOS
L
DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; DISPOSITIVOS ELECTRICOS DE ESTADO SOLIDO NO PREVISTOS EN OTRO LUGAR
21
Procedimientos o aparatos especialmente adaptados para la fabricación o el tratamiento de dispositivos semiconductores o de dispositivos de estado sólido, o bien de sus partes constitutivas
67
Aparatos especialmente adaptados para el manejo de dispositivos semiconductores o eléctricos de estado sólido durante su fabricación o tratamiento; Aparatos especialmente adaptados para el manejo de obleas durante la fabricación o tratamiento de dispositivos o componentes semiconductores o eléctricos de estado sólido
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para sostener o sujetar
Solicitantes:
주성엔지니어링(주) JUSUNG ENGINEERING CO., LTD. [KR/KR]; 경기도 광주시 오포읍 오포로 240 240, Opo-ro, Opo-eup Gwangju-si Gyeonggi-do 12773, KR
Personas inventoras:
김종식 KIM, Jong Sik; KR
신현욱 SHIN, Hyun Wook; KR
이수연 LEE, Su Yeon; KR
Mandataria/o:
특허법인 천문 ASTRAN INT'L IP GROUP; 서울시 강남구 역삼로 233, 5층 (역삼동, 신성빌딩) (ShinSung Building, Yeoksam-dong) 5th Floor, 233, Yeoksam-ro, Gangnam-gu Seoul 06225, KR
Datos de prioridad:
10-2017-011038030.08.2017KR
10-2018-005266508.05.2018KR
Título (EN) SUBSTRATE PLACING MEANS AND SUBSTRATE TREATING DEVICE
(FR) MOYEN DE PLACEMENT DE SUBSTRAT ET DISPOSITIF DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT
(KO) 기판안치수단 및 기판처리장치
Resumen:
(EN) The present invention relates to a substrate placing means and a substrate treating device, the substrate placing means comprising: a disk; and a plurality of substrate placing units radially disposed around the center of the disk, and having substrates respectively placed therein, wherein upper surfaces of the substrate placing units protrude further upwardly than an upper surface of the disk.
(FR) La présente invention concerne un moyen de placement de substrat et un dispositif de traitement de substrat, le moyen de placement de substrat comprenant : un disque ; et une pluralité d'unités de placement de substrat disposées radialement autour du centre du disque, et ayant des substrats respectivement placés à l'intérieur, les surfaces supérieures des unités de placement de substrat faisant saillie davantage vers le haut qu'une surface supérieure du disque.
(KO) 본 발명은 기판처리장치의 기판안치수단으로서, 디스크; 및 상기 디스크의 중심에서 방사상으로 배치되며, 기판이 각각 안치되는 복수개의 기판안치부를 포함하되, 상기 기판안치부의 상면은 상기 디스크의 상면보다 상측으로 더 돌출된 기판안치수단 및 기판처리장치에 관한 것이다.
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Estados designados: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Oficina Eurasiática de Patentes (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Oficina Europea de Patentes (OEP) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organización Africana de la Propiedad Intelectual (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Idioma de publicación: Coreano (KO)
Idioma de la solicitud: Coreano (KO)