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1. (WO2019044914) DRUG SOLUTION PURIFICATION METHOD AND DRUG SOLUTION
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Nº de publicación: WO/2019/044914 Nº de la solicitud internacional: PCT/JP2018/031979
Fecha de publicación: 07.03.2019 Fecha de presentación de la solicitud internacional: 29.08.2018
CIP:
C11D 7/50 (2006.01) ,B01D 61/14 (2006.01) ,C07B 63/00 (2006.01) ,C07B 63/04 (2006.01) ,C07C 7/00 (2006.01) ,C07C 7/20 (2006.01) ,C07C 9/14 (2006.01) ,C07C 29/74 (2006.01) ,C07C 29/94 (2006.01) ,C07C 31/10 (2006.01) ,C07C 41/34 (2006.01) ,C07C 41/46 (2006.01) ,C07C 43/04 (2006.01) ,C07C 43/13 (2006.01) ,C07C 45/78 (2006.01) ,C07C 45/86 (2006.01) ,C07C 49/04 (2006.01) ,C07C 49/395 (2006.01) ,C07C 49/403 (2006.01) ,C07C 67/48 (2006.01) ,C07C 67/62 (2006.01) ,C07C 69/14 (2006.01) ,C07C 69/68 (2006.01) ,C07C 69/708 (2006.01) ,C07D 307/33 (2006.01) ,G03F 7/004 (2006.01) ,H01L 21/304 (2006.01)
C QUIMICA; METALURGIA
11
ACEITES, GRASAS, MATERIAS GRASAS O CERAS ANIMALES O VEGETALES; SUS ACIDOS GRASOS; DETERGENTES; VELAS
D
COMPOSICIONES DETERGENTES; UTILIZACION DE UNA SOLA SUSTANCIA COMO DETERGENTE; JABON O SU FABRICACION; JABONES DE RESINA; RECUPERACION DE LA GLICERINA
7
Composiciones de detergentes basadas esencialmente en compuestos no tensioactivos
50
Solventes
B TECNICAS INDUSTRIALES DIVERSAS; TRANSPORTES
01
PROCEDIMIENTOS O APARATOS FISICOS O QUIMICOS EN GENERAL
D
SEPARACION
61
Procedimiento de separación que utilizan membranas semipermeables, p. ej. diálisis, ósmosis o ultrafiltración; Aparatos, accesorios u operaciones auxiliares, especialmente adaptados para ello
14
Ultrafiltración; Microfiltración
C QUIMICA; METALURGIA
07
QUIMICA ORGANICA
B
PROCESOS GENERALES DE QUIMICA ORGANICA; SUS APARATOS
63
Purificación; Separación adaptada especialmente con el objetivo de recuperar los compuestos orgánicos; Empleo de aditivos; Empleo de aditivos
C QUIMICA; METALURGIA
07
QUIMICA ORGANICA
B
PROCESOS GENERALES DE QUIMICA ORGANICA; SUS APARATOS
63
Purificación; Separación adaptada especialmente con el objetivo de recuperar los compuestos orgánicos; Empleo de aditivos; Empleo de aditivos
04
Empleo de aditivos
C QUIMICA; METALURGIA
07
QUIMICA ORGANICA
C
COMPUESTOS ACICLICOS O CARBOCICLICOS
7
Purificación, separación oestabilización de hidrocarburos; Uso de aditivos
C QUIMICA; METALURGIA
07
QUIMICA ORGANICA
C
COMPUESTOS ACICLICOS O CARBOCICLICOS
7
Purificación, separación oestabilización de hidrocarburos; Uso de aditivos
20
Empleo de aditivos, p. ej. para la estabilización
C QUIMICA; METALURGIA
07
QUIMICA ORGANICA
C
COMPUESTOS ACICLICOS O CARBOCICLICOS
9
Hidrocarburos saturados acíclicos
14
de cinco a quince átomos de carbono
C QUIMICA; METALURGIA
07
QUIMICA ORGANICA
C
COMPUESTOS ACICLICOS O CARBOCICLICOS
29
Preparación de compuestos que tienen grupos hidroxilo o grupos O-metal unidos a un átomo de carbono que no forma parte de un ciclo aromático de seis miembros
74
Separación; Purificación; Estabilización; Empleo de aditivos
C QUIMICA; METALURGIA
07
QUIMICA ORGANICA
C
COMPUESTOS ACICLICOS O CARBOCICLICOS
29
Preparación de compuestos que tienen grupos hidroxilo o grupos O-metal unidos a un átomo de carbono que no forma parte de un ciclo aromático de seis miembros
74
Separación; Purificación; Estabilización; Empleo de aditivos
94
Empleo de aditivos, p. ej. para la estabilización
C QUIMICA; METALURGIA
07
QUIMICA ORGANICA
C
COMPUESTOS ACICLICOS O CARBOCICLICOS
31
Compuestos saturados que tienen grupos hidroxilo o grupos O-metal unidos a átomos de carbono acíclicos
02
Alcoholes monohidroxílicos acíclicos
10
conteniendo tres átomos de carbono
C QUIMICA; METALURGIA
07
QUIMICA ORGANICA
C
COMPUESTOS ACICLICOS O CARBOCICLICOS
41
Preparación de éteres; Preparación de compuestos que tienengrupos,grupos ogrupos
01
Preparación de éteres
34
Separación; Purificación; Estabilización; Empleo de aditivos
C QUIMICA; METALURGIA
07
QUIMICA ORGANICA
C
COMPUESTOS ACICLICOS O CARBOCICLICOS
41
Preparación de éteres; Preparación de compuestos que tienengrupos,grupos ogrupos
01
Preparación de éteres
34
Separación; Purificación; Estabilización; Empleo de aditivos
46
Empleo de aditivos, p. ej. para la estabilización
C QUIMICA; METALURGIA
07
QUIMICA ORGANICA
C
COMPUESTOS ACICLICOS O CARBOCICLICOS
43
Eteres; Compuestos que tienengrupos,grupos ogrupos
02
Eteres
03
estando todos los enlaces del oxígeno de la función éter en átomos de carbono acíclicos
04
Eteres saturados
C QUIMICA; METALURGIA
07
QUIMICA ORGANICA
C
COMPUESTOS ACICLICOS O CARBOCICLICOS
43
Eteres; Compuestos que tienengrupos,grupos ogrupos
02
Eteres
03
estando todos los enlaces del oxígeno de la función éter en átomos de carbono acíclicos
04
Eteres saturados
13
conteniendo grupos hidroxilo u O-metal
C QUIMICA; METALURGIA
07
QUIMICA ORGANICA
C
COMPUESTOS ACICLICOS O CARBOCICLICOS
45
Preparación de compuestos que tienen gruposCO unidos únicamente a átomos de carbono o hidrógeno; Preparación de los quelatos de estos compuestos
78
Separación; Purificación; Estabilización; Empleo de aditivos
C QUIMICA; METALURGIA
07
QUIMICA ORGANICA
C
COMPUESTOS ACICLICOS O CARBOCICLICOS
45
Preparación de compuestos que tienen gruposCO unidos únicamente a átomos de carbono o hidrógeno; Preparación de los quelatos de estos compuestos
78
Separación; Purificación; Estabilización; Empleo de aditivos
86
Empleo de aditivos, p. ej. para la estabilización
C QUIMICA; METALURGIA
07
QUIMICA ORGANICA
C
COMPUESTOS ACICLICOS O CARBOCICLICOS
49
Cetonas; Cetenas; Dímeros de cetena; Quelatos de cetona
04
Compuestos saturados que tienen grupos cetona unidos a átomos de carbono acíclicos
C QUIMICA; METALURGIA
07
QUIMICA ORGANICA
C
COMPUESTOS ACICLICOS O CARBOCICLICOS
49
Cetonas; Cetenas; Dímeros de cetena; Quelatos de cetona
385
Compuestos saturados que tienen un grupo cetona formando parte de un ciclo
395
de un ciclo de cinco miembros
C QUIMICA; METALURGIA
07
QUIMICA ORGANICA
C
COMPUESTOS ACICLICOS O CARBOCICLICOS
49
Cetonas; Cetenas; Dímeros de cetena; Quelatos de cetona
385
Compuestos saturados que tienen un grupo cetona formando parte de un ciclo
403
de un ciclo de seis miembros
C QUIMICA; METALURGIA
07
QUIMICA ORGANICA
C
COMPUESTOS ACICLICOS O CARBOCICLICOS
67
Preparación de ésteres de ácidos carboxílicos
48
Separación; Purificación; Estabilización; Empleo de aditivos
C QUIMICA; METALURGIA
07
QUIMICA ORGANICA
C
COMPUESTOS ACICLICOS O CARBOCICLICOS
67
Preparación de ésteres de ácidos carboxílicos
48
Separación; Purificación; Estabilización; Empleo de aditivos
62
Empleo de aditivos, p. ej. para la estabilización
C QUIMICA; METALURGIA
07
QUIMICA ORGANICA
C
COMPUESTOS ACICLICOS O CARBOCICLICOS
69
Esteres de ácidos carboxílicos; Esteres del ácido carbónico o del ácido halofórmico
02
Esteres de ácidos acíclicos monocarboxílicos saturados cuyo grupo carboxilo está unido a un átomo de carbono acíclico o al hidrógeno
12
Esteres de ácido acético
14
de compuestos monohidroxilados
C QUIMICA; METALURGIA
07
QUIMICA ORGANICA
C
COMPUESTOS ACICLICOS O CARBOCICLICOS
69
Esteres de ácidos carboxílicos; Esteres del ácido carbónico o del ácido halofórmico
66
Esteres de ácidos carboxílicos cuyo grupo carboxilo esterificado está unido a un átomo de carbono acíclico y en los que uno de los grupos OH, O-metal,-CHO, cetona, éter, aciloxi, gruposgruposo gruposse encuentra en la parte ácida
67
de ácidos saturados
675
de ácidos hidroxicarboxílicos saturados
68
Esteres de ácido láctico
C QUIMICA; METALURGIA
07
QUIMICA ORGANICA
C
COMPUESTOS ACICLICOS O CARBOCICLICOS
69
Esteres de ácidos carboxílicos; Esteres del ácido carbónico o del ácido halofórmico
66
Esteres de ácidos carboxílicos cuyo grupo carboxilo esterificado está unido a un átomo de carbono acíclico y en los que uno de los grupos OH, O-metal,-CHO, cetona, éter, aciloxi, gruposgruposo gruposse encuentra en la parte ácida
67
de ácidos saturados
708
Eteres
C QUIMICA; METALURGIA
07
QUIMICA ORGANICA
D
COMPUESTOS HETEROCICLICOS
307
Compuestos heterocíclicos que contienen ciclos de cinco miembros que tienen un átomo de oxígeno como único heteroátomo del ciclo
02
no condensados con otros ciclos
26
que tienen un enlace doble entre miembros cíclicos o entre miembros cíclicos y no cíclicos
30
con heteroátomos o con átomos de carbono que tienen tres enlaces a heteroátomos con a lo más un enlace a halógeno, p. ej. radicales éster o nitrilo, unidos directamente a los átomos de carbono del ciclo
32
Atomos de oxígeno
33
en que en posición 2, el átomo de oxígeno está en la forma cetónica o enólica no sustituida
G FISICA
03
FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TECNICAS ANALOGAS QUE UTILIZAN ONDAS DISTINTAS DE LAS ONDAS OPTICAS; ELECTROGRAFIA; HOLOGRAFIA
F
PRODUCCION POR VIA FOTOMECANICA DE SUPERFICIES TEXTURADAS, p. ej. PARA LA IMPRESION, PARA EL TRATAMIENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; MATERIALES A ESTE EFECTO; ORIGINALES A ESTE EFECTO; APARELLAJE ESPECIALMENTE ADAPTADO A ESTE EFECTO
7
Producción por vía fotomecánica, p. ej. fotolitográfica, de superficies texturadas, p. ej. superficies impresas; Materiales a este efecto, p. ej. conllevando fotorreservas; Aparellaje especialmente adaptado a este efecto
004
Materiales fotosensibles
04
Cromatos
H ELECTRICIDAD
01
ELEMENTOS ELECTRICOS BASICOS
L
DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; DISPOSITIVOS ELECTRICOS DE ESTADO SOLIDO NO PREVISTOS EN OTRO LUGAR
21
Procedimientos o aparatos especialmente adaptados para la fabricación o el tratamiento de dispositivos semiconductores o de dispositivos de estado sólido, o bien de sus partes constitutivas
02
Fabricación o tratamiento de dispositivos semiconductores o de sus partes constitutivas
04
los dispositivos presentan al menos una barrera de potencial o una barrera de superficie, p. ej. una unión PN, una región de empobrecimiento, o una región de concentración de portadores de cargas
18
los dispositivos tienen cuerpos semiconductores que incluyen elementos del cuarto grupo de la Tabla Periódica, o de compuestos AIIIBVcon o sin impurezas, p. ej. materiales de dopado
30
Tratamiento de cuerpos semiconductores utilizando procesos o aparatos no cubiertos por los gruposH01L21/20-H01L21/26204
302
para cambiar las características físicas de sus superficies o para cambiar su forma, p. ej. grabado, pulido, recortado
304
Tratamiento mecánico, p. ej. trituración, pulido, corte
Solicitantes:
富士フイルム株式会社 FUJIFILM CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区西麻布2丁目26番30号 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620, JP
Personas inventoras:
上村 哲也 KAMIMURA Tetsuya; JP
吉留 正洋 YOSHIDOME Masahiro; JP
河田 幸寿 KAWADA Yukihisa; JP
Mandataria/o:
渡辺 望稔 WATANABE Mochitoshi; JP
伊東 秀明 ITOH Hideaki; JP
三橋 史生 MITSUHASHI Fumio; JP
Datos de prioridad:
2017-16731931.08.2017JP
Título (EN) DRUG SOLUTION PURIFICATION METHOD AND DRUG SOLUTION
(FR) PROCÉDÉ DE PURIFICATION DE SOLUTION MÉDICAMENTEUSE ET SOLUTION MÉDICAMENTEUSE
(JA) 薬液の精製方法、及び、薬液
Resumen:
(EN) The present invention addresses the problem of providing a drug solution purification method with which it is possible to obtain a drug solution exhibiting excellent impairment suppression performance. The present invention also addresses the problem of providing a drug solution. The drug solution purification method according to the present invention is for obtaining a drug solution through filtration of a to-be-purified material containing an organic solvent, wherein the contained amount of a stabilizing agent in the to-be-purified material is not less than 0.1 ppm by mass but less than 100 ppm by mass with respect to the total mass of the to-be-purified material.
(FR) La présente invention aborde le problème consistant à fournir un procédé de purification de solution médicamenteuse grâce auquel il est possible d'obtenir une solution médicamenteuse présentant une excellente performance de suppression d'altération. La présente invention aborde également le problème consistant à fournir une solution médicamenteuse. Le procédé de purification de solution médicamenteuse selon la présente invention est destiné à obtenir une solution médicamenteuse par filtration d'un matériau à purifier contenant un solvant organique, la quantité d'agent stabilisant contenue dans le matériau à purifier étant non inférieure à 0,1 ppm en masse mais inférieure à 100 ppm en masse par rapport à la masse totale du matériau à purifier.
(JA) 本発明は、優れた欠陥抑制性能を有する薬液が得られる、薬液の精製方法の提供を課題とする。また、薬液の提供も課題とする。本発明の薬液の精製方法は、有機溶剤を含有する被精製物を精製して薬液を得る、薬液の精製方法であって、被精製物中における安定化剤の含有量が、被精製物の全質量に対して0.1質量ppm以上、100質量ppm未満である。
front page image
Estados designados: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Oficina Eurasiática de Patentes (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Oficina Europea de Patentes (OEP) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organización Africana de la Propiedad Intelectual (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Idioma de publicación: Japonés (JA)
Idioma de la solicitud: Japonés (JA)