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1. (WO2019044369) BLOCK COPOLYMER FOR PHOTOSENSITIVE PRINTING PLATE MATERIAL HAVING EXCELLENT ABRASION RESISTANCE AND METHOD FOR PRODUCING SAME
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Nº de publicación: WO/2019/044369 Nº de la solicitud internacional: PCT/JP2018/029078
Fecha de publicación: 07.03.2019 Fecha de presentación de la solicitud internacional: 02.08.2018
CIP:
C08F 297/04 (2006.01) ,B41N 1/12 (2006.01)
C QUIMICA; METALURGIA
08
COMPUESTOS MACROMOLECULARES ORGANICOS; SU PREPARACION O PRODUCCION QUIMICA; COMPOSICIONES BASADAS EN COMPUESTOS MACROMOLECULARES
F
COMPUESTOS MACROMOLECULARES OBTENIDOS POR REACCIONES QUE IMPLICAN UNICAMENTE ENLACES INSATURADOS CARBONO - CARBONO
297
Compuestos macromoleculares obtenidos por sucesiva polimerización de diferentes sistemas monoméricos utilizando un catalizador de tipo iónico o de coordinación sin desactivar el polímero intermedio
02
utilizando un catalizador de tipo aniónico
04
polimerizando monómeros aromáticos de vinilo y dienos conjugados
B TECNICAS INDUSTRIALES DIVERSAS; TRANSPORTES
41
IMPRENTA; MAQUINAS COMPONEDORAS DE LINEAS; MAQUINAS DE ESCRIBIR; SELLOS
N
CLICHES O PLACAS DE IMPRESION; MATERIALES PARA SUPERFICIES UTILIZADAS EN LA IMPRESION PARA IMPRIMIR, ENTINTAR, MOJAR O SIMILAR; PREPARACION DE TALES SUPERFICIES PARA SU EMPLEO O SU CONSERVACION
1
Clichés o placas de impresión; Materiales a este efecto
12
en otra materia diferente a la piedra o al metal
Solicitantes:
ジェイエスアール クレイトン エラストマー株式会社 KRATON JSR ELASTOMERS K.K. [JP/JP]; 東京都港区港南2丁目16番2号 太陽生命品川ビル9階 Taiyoseimeishinagawa Bldg. 9F, 2-16-2 Konan, Minato-ku, Tokyo 1080075, JP
Personas inventoras:
鳥居 政俊 TORII Masatoshi; JP
山本 慎吾 YAMAMOTO Shingo; JP
藤▲崎▼ 光 FUJISAKI Hikaru; JP
Mandataria/o:
特許業務法人川口國際特許事務所 KAWAGUTI & PARTNERS; 東京都新宿区北新宿二丁目21番1号新宿フロントタワー20階 Shinjuku Front Tower 20F, 2-21-1 Kita-Shinjuku, Shinjuku-ku, Tokyo 1690074, JP
Datos de prioridad:
2017-16399829.08.2017JP
Título (EN) BLOCK COPOLYMER FOR PHOTOSENSITIVE PRINTING PLATE MATERIAL HAVING EXCELLENT ABRASION RESISTANCE AND METHOD FOR PRODUCING SAME
(FR) COPOLYMÈRE SÉQUENCÉ POUR MATÉRIAU DE PLAQUE D'IMPRESSION PHOTOSENSIBLE AYANT UNE EXCELLENTE RÉSISTANCE À L'ABRASION ET SON PROCÉDÉ DE PRODUCTION
(JA) 耐摩耗性に優れた感光性印刷版材用ブロック共重合体及びその製造方法
Resumen:
(EN) Provided is a flexographic printing plate having improved abrasion resistance in addition to the moderate elasticity (softness) required for a flexographic printing plate. The present invention is a block copolymer for a photosensitive printing plate material that is a block copolymer comprising a polymer block composed mainly of at least two aromatic vinyl monomers and a polymer block composed mainly of at least one conjugated diene monomer, wherein the aromatic vinyl monomer introduced into the polymer block composed mainly of a conjugated diene block is 25-50 mass% of the total bonded aromatic vinyl monomer content in the block copolymer.
(FR) L'invention concerne une plaque d'impression flexographique présentant une résistance à l'abrasion améliorée en plus de l'élasticité modérée (souplesse) requise pour une plaque d'impression flexographique. La présente invention concerne un copolymère séquencé pour un matériau de plaque d'impression photosensible qui est un copolymère séquencé comprenant un bloc polymère composé principalement d'au moins deux monomères vinyliques aromatiques et un bloc polymère composé principalement d'au moins un monomère diène conjugué, le monomère vinylique aromatique introduit dans le bloc polymère composé principalement d'un bloc de diène conjugué représentant de 25 à 50 % en masse du contenu total de monomère vinylique aromatique lié dans le copolymère séquencé.
(JA) フレキソ印刷版に要求される適度な弾性(柔らかさ)に加えて、改善された耐摩耗性を備えたフレキソ印刷版を提供する。本発明は、少なくとも2個の芳香族ビニル単量体を主体とする重合体ブロックと、少なくとも1個の共役ジエン単量体を主体とする重合体ブロックからなるブロック共重合体であって、該共役ジエンブロックを主体とする重合体ブロックに導入された芳香族ビニル単量体が該ブロック共重合体中の全結合芳香族ビニル単量体含有量の25~50重量%である感光性印刷版材用ブロック共重合体である。
Estados designados: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Oficina Eurasiática de Patentes (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Oficina Europea de Patentes (OEP) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organización Africana de la Propiedad Intelectual (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Idioma de publicación: Japonés (JA)
Idioma de la solicitud: Japonés (JA)