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1. (WO2019044339) ELECTRODE FILM AND METHOD FOR MANUFACTURING SAME
Datos bibliográficos más recientes de la Oficina Internacional    Formular observación

Nº de publicación: WO/2019/044339 Nº de la solicitud internacional: PCT/JP2018/028740
Fecha de publicación: 07.03.2019 Fecha de presentación de la solicitud internacional: 31.07.2018
CIP:
H01B 5/14 (2006.01) ,B32B 7/02 (2006.01) ,G06F 3/041 (2006.01)
H ELECTRICIDAD
01
ELEMENTOS ELECTRICOS BASICOS
B
CABLES; CONDUCTORES; AISLADORES; ,o EMPLEO DE MATERIALES ESPECIFICOS POR SUS PROPIEDADES CONDUCTORAS, AISLANTES O DIELECTRICAS
5
Conductores o cuerpos conductores no aislados caracterizados por su forma
14
que comprenden capas o películas conductoras sobre soportes aislantes
B TECNICAS INDUSTRIALES DIVERSAS; TRANSPORTES
32
PRODUCTOS ESTRATIFICADOS
B
PRODUCTOS ESTRATIFICADOS, es decir, HECHOS DE VARIAS CAPAS DE FORMA PLANA O NO PLANA, p. ej. CELULAR O EN NIDO DE ABEJA
7
Productos estratificados caracterizados por la relación entre las capas, es decir, productos que comprenden esencialmente capas que tienen propiedades físicas diferentes o productos caracterizados por la unión entre las capas
02
en lo que se refiere a las propiedades físicas, p. ej. la dureza
G FISICA
06
COMPUTO; CALCULO; CONTEO
F
TRATAMIENTO DE DATOS DIGITALES ELECTRICOS
3
Disposiciones de entrada para la transferencia de datos destinados a ser procesados en una forma utilizable por el computador; Disposiciones de salida para la transferencia de datos desde la unidad de procesamiento a la unidad de salida, p. ej. disposiciones de interfaz
01
Disposiciones de entrada o disposiciones combinadas de entrada y salida para la interacción entre el usuario y el computador
03
Disposiciones para convertir en forma codificada la posición o el desplazamiento de un elemento
041
Digitalizadores, p. ej. para pantallas táctiles o "touchpads", caracterizados por los medios de transducción
Solicitantes:
NISSHA株式会社 NISSHA CO.,LTD. [JP/JP]; 京都府京都市中京区壬生花井町3番地 3, Mibu Hanai-cho, Nakagyo-ku, Kyoto-shi, Kyoto 6048551, JP
Personas inventoras:
面 了明 Omote, Ryomei; JP
西川 和宏 Nishikawa, Kazuhiro; JP
寺谷 和臣 Teratani, Kazuomi; JP
坂田 喜博 Sakata, Yoshihiro; JP
西村 剛 Nishimura, Takeshi; JP
砂走 孝邦 Sunahase, Takakuni; JP
Datos de prioridad:
2017-16607430.08.2017JP
Título (EN) ELECTRODE FILM AND METHOD FOR MANUFACTURING SAME
(FR) FILM D'ÉLECTRODE ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
(JA) 電極フィルムおよびその製造方法
Resumen:
(EN) [Problem] To provide an electrode film that is excellent in mesh pattern invisibility and image visibility, and a method for manufacturing the same. [Solution] A method for manufacturing an electrode film comprising: a step for sequentially stacking a metal layer and a black photoresist layer on a first principal surface of a transparent substrate; a step for partially exposing, developing, and patterning in a mesh shape the black photoresist layer; a step for processing the metal layer into a metal mesh electrode by, using the patterned black photoresist layer as an etching mask, etching the metal layer until the width thereof becomes smaller than the width of thin lines constituting a mesh of the black photoresist layer; and a step for softening the black photoresist layer by heating, and thereby covering not only the upper surface but also both side surfaces of each of thin lines constituting a mesh of the metal mesh electrode with a flap of the softened black photoresist layer.
(FR) Le problème décrit par la présente invention est de fournir un film d'électrode qui est excellent en termes d'invisibilité de motif de maillage et de visibilité d'image, et son procédé de fabrication. La solution selon l'invention concerne un procédé de fabrication d'un film d'électrode comprenant : une étape d'empilement séquentiel d'une couche métallique et d'une couche de résine photosensible noire sur une première surface principale d'un substrat transparent; une étape d'exposition partielle, de développement et de formation de motifs dans une forme de maille de la couche de résine photosensible noire; une étape de traitement de la couche métallique en une électrode à mailles métalliques par, à l'aide de la couche de résine photosensible noire à motifs en tant que masque de gravure, graver la couche métallique jusqu'à ce que sa largeur devienne plus petite que la largeur de lignes minces constituant un maillage de la couche de résine photosensible noire; et une étape pour ramollir la couche de résine photosensible noire par chauffage, et recouvrant ainsi non seulement la surface supérieure mais également les deux surfaces latérales de chacune des lignes fines constituant un maillage de l'électrode à mailles métalliques avec un rabat de la couche de résine photosensible noire ramollie.
(JA) 【課題】 メッシュパターンの不可視性および画像の視認性に優れた、電極フィルムおよびその製造方法を提供する。 【解決手段】 電極フィルムの製造方法は、透明基材の第一主面上に金属層、黒色フォトレジスト層を順次積層する工程と、前記黒色フォトレジスト層を部分的に露光し、現像してメッシュ形状にパターニングする工程と、パターニングされた前記黒色フォトレジスト層をエッチングマスクとして、前記黒色フォトレジスト層のメッシュを構成する細線幅より小幅となるまで前記金属層をエッチングして金属メッシュ電極に加工する工程と、前記黒色フォトレジスト層を加熱して軟化させ、軟化した前記黒色フォトレジスト層の垂れにより前記金属メッシュ電極のメッシュを構成する細線の上面のみならず両側面まで被覆させる工程と、を備える。
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Estados designados: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Oficina Eurasiática de Patentes (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
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Organización Africana de la Propiedad Intelectual (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Idioma de publicación: Japonés (JA)
Idioma de la solicitud: Japonés (JA)