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1. (WO2019039021) PHOTOCATALYST, PHOTOCATALYST SUPPORT, METHOD FOR MANUFACTURING PHOTOCATALYST, AND METHOD FOR MANUFACTURING PHOTOCATALYST SUPPORT
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Nº de publicación: WO/2019/039021 Nº de la solicitud internacional: PCT/JP2018/020329
Fecha de publicación: 28.02.2019 Fecha de presentación de la solicitud internacional: 28.05.2018
CIP:
B01J 35/02 (2006.01) ,B01J 37/04 (2006.01) ,B01J 37/08 (2006.01)
B TECNICAS INDUSTRIALES DIVERSAS; TRANSPORTES
01
PROCEDIMIENTOS O APARATOS FISICOS O QUIMICOS EN GENERAL
J
PROCEDIMIENTOS QUIMICOS O FISICOS, p. ej. CATALISIS, QUIMICA DE LOS COLOIDES; APARATOS ADECUADOS
35
Catalizadores en general, caracterizados por su forma o propiedades físicas
02
sólidos
B TECNICAS INDUSTRIALES DIVERSAS; TRANSPORTES
01
PROCEDIMIENTOS O APARATOS FISICOS O QUIMICOS EN GENERAL
J
PROCEDIMIENTOS QUIMICOS O FISICOS, p. ej. CATALISIS, QUIMICA DE LOS COLOIDES; APARATOS ADECUADOS
37
Procedimientos para preparar catalizadores, en general; Procedimientos para activación de catalizadores, en general
04
Mezcla
B TECNICAS INDUSTRIALES DIVERSAS; TRANSPORTES
01
PROCEDIMIENTOS O APARATOS FISICOS O QUIMICOS EN GENERAL
J
PROCEDIMIENTOS QUIMICOS O FISICOS, p. ej. CATALISIS, QUIMICA DE LOS COLOIDES; APARATOS ADECUADOS
37
Procedimientos para preparar catalizadores, en general; Procedimientos para activación de catalizadores, en general
08
Tratamiento térmico
Solicitantes:
三菱電機株式会社 MITSUBISHI ELECTRIC CORPORATION [JP/JP]; 東京都千代田区丸の内二丁目7番3号 7-3, Marunouchi 2-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008310, JP
Personas inventoras:
勝又 典亮 KATSUMATA, Noriaki; JP
松浦 洋航 MATSUURA, Yoko; JP
和田 昇 WADA, Noboru; JP
阿部 竜 ABE, Ryu; JP
冨田 修 TOMITA, Osamu; JP
繁光 将也 SHIGEMITSU, Masaya; JP
Mandataria/o:
特許業務法人きさ特許商標事務所 KISA PATENT & TRADEMARK FIRM; 東京都港区虎ノ門二丁目10番1号 虎ノ門ツインビルディング東棟8階 East 8F, TORANOMON TWIN BLDG., 10-1 Toranomon 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1050001, JP
Datos de prioridad:
2017-15900322.08.2017JP
Título (EN) PHOTOCATALYST, PHOTOCATALYST SUPPORT, METHOD FOR MANUFACTURING PHOTOCATALYST, AND METHOD FOR MANUFACTURING PHOTOCATALYST SUPPORT
(FR) PHOTOCATALYSEUR, SUPPORT DE PHOTOCATALYSEUR, PROCÉDÉ DE FABRICATION DE PHOTOCATALYSEUR ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE SUPPORT DE PHOTOCATALYSEUR
(JA) 光触媒、光触媒担持体、光触媒の製造方法及び光触媒担持体の製造方法
Resumen:
(EN) A photocatalyst and a photo catalyst support are configured such that microcrystals of tungsten oxide with a crystal particle size of 10 nm or less for oxidizing a gas phase chemical substance and microcrystals of titanium oxide with a crystal particle size of 10 nm or less for oxidizing a gas phase chemical substance are irregularly disposed to form a solid.
(FR) Un photocatalyseur et un support de photocatalyseur sont configurés de telle sorte que des microcristaux d'oxyde de tungstène ayant une taille de particule cristalline de 10 nm ou moins pour oxyder une substance chimique en phase gazeuse et des microcristaux d'oxyde de titane ayant une taille de particule cristalline de 10 nm ou moins pour oxyder une substance chimique en phase gazeuse sont disposés de manière irrégulière pour former un solide.
(JA) 光触媒及び光触媒担持体は、結晶粒径が10nm以下であって、気相化学物質を酸化する酸化タングステンの微結晶と、結晶粒径が10nm以下であって、気相化学物質を酸化する酸化チタンの微結晶とが、不規則に配置されて固体を形成している。
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Estados designados: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organización Regional Africana de la Propiedad Intelectual (ORAPI) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Organización Eurasiática de Patentes (OEAP) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Oficina Europea de Patentes (OEP) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organización Africana de la Propiedad Intelectual (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Idioma de publicación: Japonés (JA)
Idioma de la solicitud: Japonés (JA)