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1. (WO2019032700) SEMICONDUCTOR SUBSTRATE HAVING MAGNETIC CORE INDUCTOR AND METHOD OF MAKING SAME
Datos bibliográficos más recientes de la Oficina InternacionalFormular observación

Nº de publicación: WO/2019/032700 Nº de la solicitud internacional: PCT/US2018/045807
Fecha de publicación: 14.02.2019 Fecha de presentación de la solicitud internacional: 08.08.2018
CIP:
H01L 49/02 (2006.01) ,H01L 21/027 (2006.01) ,H01L 21/02 (2006.01) ,H01L 21/311 (2006.01)
H ELECTRICIDAD
01
ELEMENTOS ELECTRICOS BASICOS
L
DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; DISPOSITIVOS ELECTRICOS DE ESTADO SOLIDO NO PREVISTOS EN OTRO LUGAR
49
Dispositivos de estado sólido no cubiertos por los gruposH01L27/-H01L47/164; Procesos o aparatos especialmente adaptados a la fabricación o al tratamiento de estos dispositivos o de sus partes constitutivas
02
Dispositivos de película delgada o de película gruesa
H ELECTRICIDAD
01
ELEMENTOS ELECTRICOS BASICOS
L
DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; DISPOSITIVOS ELECTRICOS DE ESTADO SOLIDO NO PREVISTOS EN OTRO LUGAR
21
Procedimientos o aparatos especialmente adaptados para la fabricación o el tratamiento de dispositivos semiconductores o de dispositivos de estado sólido, o bien de sus partes constitutivas
02
Fabricación o tratamiento de dispositivos semiconductores o de sus partes constitutivas
027
Fabricación de máscaras sobre cuerpos semiconductores para tratamiento fotolitográfico ulterior, no prevista en el grupoH01L21/18óH01L21/34232
H ELECTRICIDAD
01
ELEMENTOS ELECTRICOS BASICOS
L
DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; DISPOSITIVOS ELECTRICOS DE ESTADO SOLIDO NO PREVISTOS EN OTRO LUGAR
21
Procedimientos o aparatos especialmente adaptados para la fabricación o el tratamiento de dispositivos semiconductores o de dispositivos de estado sólido, o bien de sus partes constitutivas
02
Fabricación o tratamiento de dispositivos semiconductores o de sus partes constitutivas
H ELECTRICIDAD
01
ELEMENTOS ELECTRICOS BASICOS
L
DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; DISPOSITIVOS ELECTRICOS DE ESTADO SOLIDO NO PREVISTOS EN OTRO LUGAR
21
Procedimientos o aparatos especialmente adaptados para la fabricación o el tratamiento de dispositivos semiconductores o de dispositivos de estado sólido, o bien de sus partes constitutivas
02
Fabricación o tratamiento de dispositivos semiconductores o de sus partes constitutivas
04
los dispositivos presentan al menos una barrera de potencial o una barrera de superficie, p. ej. una unión PN, una región de empobrecimiento, o una región de concentración de portadores de cargas
18
los dispositivos tienen cuerpos semiconductores que incluyen elementos del cuarto grupo de la Tabla Periódica, o de compuestos AIIIBVcon o sin impurezas, p. ej. materiales de dopado
30
Tratamiento de cuerpos semiconductores utilizando procesos o aparatos no cubiertos por los gruposH01L21/20-H01L21/26204
31
para formar capas aislantes en superficie, p. ej. para enmascarar o utilizando técnicas fotolitográficas; Postratamiento de estas capas; Selección de materiales para estas capas
3105
Postratamiento
311
Grabado de las capas aislantes
Solicitantes:
APPLIED MATERIALS, INC. [US/US]; 3050 Bowers Avenue Santa Clara, California 95054, US
Personas inventoras:
SUO, Peng; SG
GU, Yu; SG
SEE, Guan Huei; SG
SUNDARRAJAN, Arvind; SG
Mandataria/o:
PATEL, Ronak, A.; US
TABOADA, Alan; US
MOSER, Raymond R., Jr.; US
LINARDAKIS, Leonard, P.; US
Datos de prioridad:
16/056,84707.08.2018US
62/544,74411.08.2017US
Título (EN) SEMICONDUCTOR SUBSTRATE HAVING MAGNETIC CORE INDUCTOR AND METHOD OF MAKING SAME
(FR) SUBSTRAT SEMI-CONDUCTEUR AYANT UNE BOBINE D'INDUCTANCE À NOYAU MAGNÉTIQUE ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
Resumen:
(EN) A method of forming a magnetic core on a substrate having a stacked inductor coil includes etching a plurality of polymer layers to form at least one feature through the plurality of polymer layers, wherein the at least one feature is disposed within a central region of a stacked inductor coil formed on the substrate; and depositing a magnetic material within the at least one feature.
(FR) La présente invention concerne un procédé de formation d'un noyau magnétique sur un substrat ayant une bobine d'inductance empilée comprenant la gravure d'une pluralité de couches polymères pour former au moins une caractéristique à travers la pluralité de couches polymères, ladite au moins une caractéristique étant disposée à l'intérieur d'une région centrale d'une bobine d'inductance empilée formée sur le substrat ; et le dépôt d'un matériau magnétique à l'intérieur de ladite caractéristique.
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Estados designados: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organización Regional Africana de la Propiedad Intelectual (ORAPI) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Organización Eurasiática de Patentes (OEAP) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Oficina Europea de Patentes (OEP) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organización Africana de la Propiedad Intelectual (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Idioma de publicación: Inglés (EN)
Idioma de la solicitud: Inglés (EN)